一种清除杂质的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供的一种清除杂质的方法和装置，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题；本发明专利技术提供的清除杂质的方法和装置，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产的产品质量，避免浪费。

A method and device for removing impurities

The present invention provides a method and device for removing impurities. Compared with the existing ironing rolls, there is a phenomenon of overflow at both ends of an ironing roll. When the spilled glue reaches a certain extent, the quality of the product will be affected. The method and device for removing impurities provided by the invention through the upper limit of the amount of rubber overflowing at both ends of the rollers. Threshold and lower threshold value; get the amount of overflow at both ends of the roll; open the cleaning process when the amount of rubber overflow at both ends of the rollers is above the upper limit of the amount of spilled glue; increases the cleaning solvent to make the cleaning solvent reach the upper limit of the container; the cleaning solvent is ejected to the cleaning tool; the amount of rubber overflowing at both ends of the cleaning roll; when the amount of rubber overflows at both ends of the ironing roll is lower than that of the two ends of the roll. When the threshold is lower, the steps of stopping cleaning can effectively clean the spillage at both ends of the roll, avoid the quality of the products produced by the overflow and avoid the waste.

【技术实现步骤摘要】
一种清除杂质的方法和装置
本专利技术涉及清洁领域，尤其涉及一种清除杂质的方法和装置。
技术介绍
模压机生产薄膜需要通过放卷装置、一版模压装置、二版膜压装置、烫平装置以及收卷装置。放卷装置的辊子上放置涂布膜，膜上面有镭射承载层膜；一版模压装置作用是是形成部分有镭射图案的膜；二版膜压装置作用是进行补偿模压，使得整张膜都有镭射图案；烫平装置主要部件是烫平辊，其作用是因为一版模压装置和二版膜压装置在模压过程中冷热辊控制即拉伸情况不一样，致使产品上有皱印，需要烫平皱印；收卷装置回收薄膜成品。目前，烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种清除杂质的方法和装置，以解决现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。本专利技术提供了如下技术方案：第一方面，本申请实施例提供一种清除杂质的方法，所述方法包括：步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第二种可实施方式中，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第三种可实施方式中，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。结合本申请的第一方面，在本申请第一方面的第四种可实施方式中，步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。第二方面，本申请实施例提供一种清除杂质的装置，包括：设定单元，用于设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取单元，用于获取烫平辊两端溢胶量；起动单元，用于当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增量单元，用于增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；喷射单元，用于将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁单元，用于清洁烫平辊两端溢胶量；停止单元，用于当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。结合本申请的第二方面，在本申请第二方面的第二种可实施方式中，所述装置还包括：记录单元，用于记录清洗溶剂使用量。结合本申请的第二方面，在本申请第二方面的第三种可实施方式中，所述装置还包括：处理单元，用于上传数据，并对数据进行分析。结合本申请的第二方面，在本申请第二方面的第四种可实施方式中，所述装置还包括：分析单元，用于根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。本专利技术实施例提供的一种清除杂质的方法和装置，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。本专利技术提供的清除杂质的方法和装置，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量，同时，还可通过记录清洗溶剂使用量：上传数据，并对数据进行分析；根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值，可节省清洗溶剂使用量，避免浪费。附图说明为了更清楚地说明本申请的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为一种清除杂质的方法方法流程图。具体实施方式本下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。第一方面，请参阅图1，本申请实施例提供一种清除杂质的方法，所述方法包括：步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；溢胶量的上限阈值和下限阈值可根据实际生产，进行大量的数据统计后得出。步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；溢胶量可用厚度进行定量分析，例如溢胶量厚度为1cm。步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；根据上述假设，溢胶量的上限阈值为1cm。当实际溢胶量大于1cm时，则开启清洁工序。需要说明的是，当烫平辊两端溢胶量小于溢胶量上限阈值时，此时清洁工序为待机状态。步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；清洗溶剂放置在清洗溶剂容器中，清洗溶剂容器设置有安全体积，清洁溶剂达到容器上限，即为清洁溶剂达到清洗溶剂容器的安全体积。步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁溶剂通过喷嘴将其喷射到清洁工具上，清洁工具可以采用包裹着布的单面刀具。步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；用包裹着布的单面刀具进行清洁。步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。假定溢胶量的下限阈值为0.1cm，当实际溢胶量低于0.1cm时，将停止清洗工序。需要说明的是，在清洗工序进行时，将对溢胶量做全程监控，获取溢胶量。本专利技术提供的清除杂质的方法，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量。进一步地，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。可以清楚的知道清洗溶剂的使用情况。进一步地，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。数据为清洗溶剂使用量以及清洗的溢胶量。进一步地，步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值。可对设备生产运行提出指导性的意见，避免清洗溶剂过量使用。通过以上技术方案可知：本专利技术实施例提供的一种清除杂质的方法，相对于现有烫平辊在工作时，烫平辊两端出现溢胶现象，当溢胶达到一定程度时，会影响产品的质量的问题。本专利技术提供的清除杂质的方法，通过设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁烫平辊两端溢胶量；当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗等步骤，可以有效清洁烫平辊两端的溢胶，避免因溢胶影响设备生产产品质量，同时，还可通过记录清洗溶剂使用量：上传数据，并对数据进行分析；根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈值，可节省清洗溶剂使用量，避免浪费。第二方面，本申请实施例提供一种清除杂质的装置，包括：设定单元，用于设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；获取单元，用于获取烫平辊两端溢胶量；起动单元，用于当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；增量单元，用于增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；喷射单元，用于将清洁溶剂喷射至清洁工具；清洁单元，用于清洁烫平辊两端溢胶量；停止单元，用于当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种清除杂质的方法，其特征在于，所述方法包括：步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。

【技术特征摘要】
1.一种清除杂质的方法，其特征在于，所述方法包括：步骤S101：设定烫平辊两端溢胶量的上限阈值和下限阈值；步骤S102：获取烫平辊两端溢胶量；步骤S103：当烫平辊两端溢胶量≥溢胶量上限阈值时，开启清洁工序；步骤S104：增加清洗溶剂，使清洁溶剂达到容器上限；步骤S105：将清洁溶剂喷射至清洁工具；步骤S106：清洁烫平辊两端溢胶量；步骤S107：当烫平辊两端溢胶量低于溢胶量的下限阈值时，停止清洗。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S108：记录清洗溶剂使用量。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S109：上传数据，并对数据进行分析。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：步骤S110：根据分析数据结果，分析出合理溢胶量的上限阈值和下限阈...

【专利技术属性】
技术研发人员：余赞，彭宁，罗臻，钱正宇，钟文，钟学选，覃忠国，杜建军，
申请(专利权)人：常德金德新材料科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43