掩膜板及其制作方法技术

本发明专利技术涉及一种掩膜板及其制作方法，方法包括：制备具有像素定义层的衬底基板，像素定义层包括多个像素图案；检测衬底基板的像素定义层的各像素图案的位置，获得各像素图案的第一坐标值，记录第一坐标值；检测放置于掩膜框架上的掩膜基板的图案开口的位置，获得各图案开口的第二坐标值；根据第一坐标值对图案开口的位置进行调整，使得第二坐标值与第一坐标值匹配。通过直接检测衬底基板的像素图案的位置，获得衬底基板的像素图案的坐标值，根据像素图案的坐标值对掩膜基板的图案开口的位置进行调整，使得掩膜基板与衬底基板之间的误差更小，进而使得掩膜板精度更高，通过该掩膜板进行蒸镀的效果更佳。

Mask and its fabrication method

The invention relates to a mask plate and its making method. The method comprises the following steps: preparing a substrate substrate with a pixel definition layer, a pixel definition layer including a plurality of pixel patterns, detecting the position of each pixel pattern of the pixel definition layer of the substrate substrate, obtaining the first coordinate values of each pixel pattern, recording the first coordinate values, and detecting the placement. The position of the pattern opening of the mask plate on the mask frame obtains the second coordinate value of each pattern opening; the position of the pattern opening is adjusted according to the first coordinate value, so that the second coordinate value is matched with the first coordinate value. By directly detecting the position of the pixel pattern of the substrate substrate, the coordinate value of the pixel pattern of the substrate is obtained. The position of the pattern opening of the mask substrate is adjusted according to the coordinate value of the pixel pattern, so that the error between the mask substrate and the substrate substrate is smaller, and the mask plate has a higher precision, and the mask is made through the mask. The effect of plate evaporation is better.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板及其制作方法
本专利技术涉及有机发光显示制造
，特别是涉及掩膜板及其制作方法。
技术介绍
近年来，OLED(OrganicLightEmittingDiode，有机发光二极管)显示器已经成为国内外非常热门的新兴平板显示器产品，OLED显示器具有自发光、广视角、短反应时间、广色域、低工作电压、面板薄、易于做成柔性面板以及工作温度范围广等优势。OLED器件的制备通常采用的真空蒸镀法，将镀料在真空中加热并蒸发，使蒸发出来的原子或原子基团在温度较低的衬底基板上析出并形成薄膜。蒸镀工艺的稳定性对成膜质量的好坏有很大影响的。为了实现彩色化显示，在蒸镀工艺中要分别蒸镀红、绿、蓝三基色对应的材料，常用的方法为掩膜法，即在衬底基板的前面设置一层很薄的金属掩膜板，只在金属掩膜板的开口处蒸镀红、绿、蓝三基色对应的有机材料。而用来蒸镀红、绿、蓝三基色对应的有机材料的位置(也即像素电极的位置)已经被精确的定义了出来，所以在蒸镀工艺中金属掩膜板上各掩模基板上的开口就要和像素电极位置对应吻合，不允许有超出误差范围之内的偏移，否则将会出现两种发光材料重合在一起的情况，发生混色。然而衬底基板玻璃在像素定义本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：制备具有像素定义层的衬底基板，所述像素定义层包括多个像素图案；检测所述衬底基板的像素定义层的各所述像素图案的位置，获得各所述像素图案的第一坐标值，记录所述第一坐标值；检测放置于掩膜框架上的掩膜基板的图案开口的位置，获得各所述图案开口的第二坐标值；根据所述第一坐标值对所述图案开口的位置进行调整，使得所述第二坐标值与所述第一坐标值匹配。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：制备具有像素定义层的衬底基板，所述像素定义层包括多个像素图案；检测所述衬底基板的像素定义层的各所述像素图案的位置，获得各所述像素图案的第一坐标值，记录所述第一坐标值；检测放置于掩膜框架上的掩膜基板的图案开口的位置，获得各所述图案开口的第二坐标值；根据所述第一坐标值对所述图案开口的位置进行调整，使得所述第二坐标值与所述第一坐标值匹配。2.根据权利要求1所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述制备具有像素定义层的衬底基板的步骤包括：制备具有所述像素定义层的所述衬底基板，并在所述衬底基板上的预设位置开设有多个衬底对位孔；所述检测所述衬底基板的像素定义层的各所述像素图案的位置，获得各所述像素图案的第一坐标值的步骤包括：检测所述衬底基板的像素定义层的各所述像素图案的位置，基于所述衬底对位孔的位置，获得各所述像素图案的第一坐标值。3.根据权利要求2所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述检测所述衬底基板的像素定义层的各所述像素图案的位置，基于所述衬底对位孔的位置，获得各所述像素图案的第一坐标值的步骤包括：检测所述衬底基板的像素定义层的各所述像素图案的位置，以各所述衬底对位孔的连线的交点位置作为坐标原点，获得各所述像素图案的第一坐标值。4.根据权利要求2所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述检测放置于掩膜框架上的掩膜基板的图案开口的位置的步骤之前还包括：根据所述衬底对位孔的位置，对所述掩膜基板的位置进行调整。5.根据权利要求4所述的掩膜板的制作方法，其特征在于，所述检测放置于掩膜框架上的掩膜基板的图案开口的位置的步骤之前还包括：提供开设有掩膜对位...

【专利技术属性】
技术研发人员：周扬川，柯贤军，吴俊雄，王浩锐，苏君海，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44