脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，包括如下步骤：1）失活脱硝催化剂预处理；2）原子层沉积法植入活性物质。本发明专利技术采用原子层沉积技术补充活性物质，活性物质吸附在催化剂孔道内外，且与失活催化剂之间的作用力强，且在催化剂中分布均匀；还可通过控制原子沉积数，调控补充活性物质的量，植入的活性物质氧化钒和氧化钨精确可控，且抑制活性物质烧结，进而在脱硝反应中实现脱硝效率高、SO2氧化率低，且再生催化剂无需煅烧处理，整个过程对催化剂无损伤。

Regeneration process of denitrification catalyst by atomic layer deposition

The invention discloses a regeneration process of atomic layer deposition method for denitrification catalyst, including the following steps: 1) pretreatment of deactivated denitrification catalyst; 2) implantation of active substance by atomic layer deposition. The invention uses the atomic layer deposition technology to supplement the active substance, the active substance is adsorbed inside and outside the catalyst channel, and the force between the deactivated catalyst is strong and is distributed evenly in the catalyst, and the amount of the active substance can be controlled by controlling the number of the atomic deposition, and the implanted active substance is accurate to oxidize vanadium and tungsten oxide. It is controllable, and inhibits the sintering of active substances, and the denitrification efficiency is high, SO2 oxidation rate is low, and the regenerated catalyst is not calcined, and the whole process has no damage to the catalyst.

【技术实现步骤摘要】
脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺
本专利技术涉及专利技术涉及脱硝催化剂再生领域，具体涉及一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺。
技术介绍
脱硝催化剂再生是通过分析催化剂失活的原因，采取相应的工艺手段消除催化剂失活因素，使的失活脱硝催化剂恢复活性和选择性，重新使用。脱硝催化剂再生都是采用一般浸渍法进行活性补充，在实际批量生产中会存在无法精确控制活性物质量，造成脱硝效率不稳定、SO2氧化高、高温煅烧提高生产成本并在再生过程催化剂损坏的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，通过原子层沉积法再生脱硝催化剂，植入的活性物质氧化钒精确可控，分散性好，催化剂脱硝效率高、SO2氧化率低，且再生催化剂无需煅烧处理，整个过程对催化剂无损伤。为实现上述目的，本专利技术的技术方案是设计一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，包括如下步骤：1）失活脱硝催化剂预处理：通过负压吸尘器除去失活脱硝催化剂表面的灰尘，然后将催化剂浸入包含0.06～0.09%乳酸、0.12～0.18%草酸的去离子水溶液中，以25～35HZ超声35～55min，取出后于125～145℃干燥35～85min；2）原子层沉积法植入活性物质：将步骤1）处理后的催化剂置入原子层沉积设备的反应腔中，密封反应腔；将原子层沉积系统内抽真空后通入高纯氮气，调节反应腔出口阀门使腔内压力处于负压，沉积温度设定在330～380℃；向反应腔内注入钒前驱体，注入时间控制在200～250s，然后通入惰性气体冲洗，冲洗时间控制在35～55s；循环沉积3～5次，得到再生脱硝催化剂；所述钒前驱体为三异丙氧醇钒、三异丙氧基氧化钒、乙酰丙酮氧化钒中的任意一种。优选的，再生脱硝催化剂中氧化钒的质量百分含量为0.1～0.5%。本专利技术的优点和有益效果在于：提供一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，通过原子层沉积法再生脱硝催化剂，植入的活性物质氧化钒精确可控，分散性好，催化剂脱硝效率高、SO2氧化率低，且再生催化剂无需煅烧处理，整个过程对催化剂无损伤。具体实施方式下面结合实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案，而不能以此来限制本专利技术的保护范围。实施例1一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，包括如下步骤：1）失活脱硝催化剂预处理：通过负压吸尘器除去失活脱硝催化剂表面的灰尘，然后将催化剂浸入包含0.06%乳酸、0.12%草酸的去离子水溶液中，以25HZ超声35min，取出后于125℃干燥35min；2）原子层沉积法植入活性物质：将步骤1）处理后的催化剂置入原子层沉积设备的反应腔中，密封反应腔；将原子层沉积系统内抽真空后通入高纯氮气，调节反应腔出口阀门使腔内压力处于负压，沉积温度设定在330℃；向反应腔内注入三异丙氧醇钒前驱体，注入时间控制在200s，然后通入惰性气体冲洗，冲洗时间控制在35s；循环沉积3次，得到再生脱硝催化剂；再生脱硝催化剂中氧化钒的质量百分含量为0.1%。实施例2一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，包括如下步骤：1）失活脱硝催化剂预处理：通过负压吸尘器除去失活脱硝催化剂表面的灰尘，然后将催化剂浸入包含0.09%乳酸、0.18%草酸的去离子水溶液中，以35HZ超声55min，取出后于145℃干燥85min；2）原子层沉积法植入活性物质：将步骤1）处理后的催化剂置入原子层沉积设备的反应腔中，密封反应腔；将原子层沉积系统内抽真空后通入高纯氮气，调节反应腔出口阀门使腔内压力处于负压，沉积温度设定在380℃；向反应腔内注入三异丙氧基氧化钒前驱体，注入时间控制在250s，然后通入惰性气体冲洗，冲洗时间控制在55s；循环沉积5次，得到再生脱硝催化剂；再生脱硝催化剂中氧化钒的质量百分含量为0.5%。实施例3一种脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，包括如下步骤：1）失活脱硝催化剂预处理：通过负压吸尘器除去失活脱硝催化剂表面的灰尘，然后将催化剂浸入包含0.08%乳酸、0.14%草酸的去离子水溶液中，以30HZ超声40min，取出后于135℃干燥55min；2）原子层沉积法植入活性物质：将步骤1）处理后的催化剂置入原子层沉积设备的反应腔中，密封反应腔；将原子层沉积系统内抽真空后通入高纯氮气，调节反应腔出口阀门使腔内压力处于负压，沉积温度设定在365℃；向反应腔内注入乙酰丙酮氧化钒前驱体，注入时间控制在245s，然后通入惰性气体冲洗，冲洗时间控制在45s；循环沉积4次，得到再生脱硝催化剂；再生脱硝催化剂中氧化钒的质量百分含量为0.3%。以上所述仅是本专利技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，其特征在于，包括如下步骤：1）失活脱硝催化剂预处理：通过负压吸尘器除去失活脱硝催化剂表面的灰尘，然后将催化剂浸入包含0.06～0.09%乳酸、0.12～0.18%草酸的去离子水溶液中，以25～35HZ超声35～55min，取出后于125～145℃干燥35～85min；2）原子层沉积法植入活性物质：将步骤1）处理后的催化剂置入原子层沉积设备的反应腔中，密封反应腔；将原子层沉积系统内抽真空后通入高纯氮气，调节反应腔出口阀门使腔内压力处于负压，沉积温度设定在330～380℃；向反应腔内注入钒前驱体，注入时间控制在200～250s，然后通入惰性气体冲洗，冲洗时间控制在35～55s；循环沉积3～5次，得到再生脱硝催化剂；所述钒前驱体为三异丙氧醇钒、三异丙氧基氧化钒、乙酰丙酮氧化钒中的任意一种。

【技术特征摘要】
1.脱硝催化剂的原子层沉积法再生工艺，其特征在于，包括如下步骤：1）失活脱硝催化剂预处理：通过负压吸尘器除去失活脱硝催化剂表面的灰尘，然后将催化剂浸入包含0.06～0.09%乳酸、0.12～0.18%草酸的去离子水溶液中，以25～35HZ超声35～55min，取出后于125～145℃干燥35～85min；2）原子层沉积法植入活性物质：将步骤1）处理后的催化剂置入原子层沉积设备的反应腔中，密封反应腔；将原子层沉积系统内抽真空后...

【专利技术属性】
技术研发人员：张涛，何伟，刘安阳，罗春云，
申请(专利权)人：江苏龙净科杰催化剂再生有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32