一种光刻机用分区控制真空吸盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光刻机用分区控制真空吸盘，涉及光刻机的真空吸盘领域。该真空吸盘包括吸盘本体、真空发生器、管路、若干电磁阀，吸盘本体的横截面为圆形，以横截面的中点为共同圆心，吸盘本体按照若干同心圆分区控制：正中间的最小圆形区域为一个区域，沿半径每往外一环的环形区域各形成一个区域，每个区域开有多个气孔，气孔下方为真空环，该区域形成真空区；所有真空区共用一台真空发生器，每个真空区的管路设有一个电磁阀，控制该真空区吸气口的开闭。通过控制进行真空吸附的环形区域的数量，控制真空吸附区的大小。本实用新型专利技术能合理利用资源，有效吸附不同尺寸的Ⅲ‑Ⅴ化合物半导体圆片。

A vacuum sucker with zoning control for a photolithography machine

The utility model discloses a partition control vacuum sucker for a lithography machine, which relates to the vacuum sucker field of the lithography machine. The vacuum suction cup consists of a sucker body, a vacuum generator, a pipe and a number of solenoid valves. The cross section of the suction plate is round, and the middle point of the cross section is a common center. The suction disc is controlled by a number of concentric circles: the smallest circle in the middle is a region, and the ring area along the radius is each to the outer ring. In one area, there are many holes in each area, and the vacuum ring is formed under the air hole. The vacuum zone is formed in this area; a vacuum generator is shared in all vacuum areas and a solenoid valve is set in each vacuum area to control the opening and closing of the suction port in the vacuum area. The size of the vacuum adsorption area is controlled by controlling the number of annular regions in vacuum adsorption. The utility model can reasonably utilize resources and effectively adsorb different sizes of semiconductor wafers.

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机用分区控制真空吸盘
本技术涉及光刻机的真空吸盘领域，具体是涉及一种光刻机用分区控制真空吸盘。
技术介绍
光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。一般的光刻工艺要经历圆片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻工艺是用光来制作一个图形，在Ⅲ-Ⅴ化合物半导体圆片表面匀胶，将掩模版上的图形转移至光刻胶上，光刻机通过真空吸盘吸附Ⅲ-Ⅴ化合物半导体圆片，将器件或电路结构临时“复制”到Ⅲ-Ⅴ化合物半导体圆片上。现有光刻机的真空吸盘吸附不同规格的Ⅲ-Ⅴ化合物半导体圆片时，都是所有区域的气孔或气环同时打开，导致在吸附较小尺寸的Ⅲ-Ⅴ化合物半导体圆片时造成资源浪费。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服上述
技术介绍
的不足，提供一种光刻机用分区控制真空吸盘，通过各真空区的电磁阀进行分区控制，真空吸盘吸附不同规格的Ⅲ-Ⅴ化合物半导体圆片时，各真空区的电磁阀分别控制该真空区的吸气口打开、闭合，通过控制进行真空吸附的环形区域的数量，控制真空吸附区的大小，根据所吸附Ⅲ-Ⅴ化合物半导体圆片的实际尺寸，灵活合理地利用资源，避免资源浪费。本技术提供一种光刻机用的分区本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻机用分区控制真空吸盘，该真空吸盘包括吸盘本体(1)、真空发生器、管路，其特征在于：该真空吸盘还包括若干电磁阀，所述吸盘本体(1)的横截面为圆形，以横截面的中点为共同圆心，在横截面上规划若干同心圆，吸盘本体(1)按照横截面上规划的若干同心圆进行分区控制：正中间的最小圆形区域为一个区域，沿横截面的半径方向每往外一环的环形区域各自形成一个区域，每个区域开有多个气孔(2)，气孔(2)下方为真空环，该区域形成真空区；所有真空区共用一台真空发生器，各真空区的吸气口均通过管路与真空发生器相连，每个真空区的管路设置有一个电磁阀，来控制该真空区吸气口的开闭，通过控制进行真空吸附的环形区域的数量，控制真空...

【技术特征摘要】
1.一种光刻机用分区控制真空吸盘，该真空吸盘包括吸盘本体(1)、真空发生器、管路，其特征在于：该真空吸盘还包括若干电磁阀，所述吸盘本体(1)的横截面为圆形，以横截面的中点为共同圆心，在横截面上规划若干同心圆，吸盘本体(1)按照横截面上规划的若干同心圆进行分区控制：正中间的最小圆形区域为一个区域，沿横截面的半径方向每往外一环的环形区域各自形成一个区域，每个区域开有多个气孔(2)，气孔(2)下方为真空环，该区域形成真空区；所有真空区共用一台真空发生器，各真空区的吸气口均通过管路与真空发生器相连，每个真空区的管路设置有一个电磁阀，来控制该真空区吸气口的开闭，通过控制进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：李朋朋，宋舒婷，雷冬，彭罗汉，
申请(专利权)人：武汉光谷量子技术有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北,42