感光性元件、阻挡层形成用树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法以及印刷配线板的制造方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种感光性元件，其即使不使用剥离促进剂也能够提高阻挡层与支撑膜的剥离性；提供一种感光性元件，其依次具备支撑膜、阻挡层和感光层，上述阻挡层含有水溶性树脂和碳数大于或等于3的醇类。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性元件、阻挡层形成用树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法以及印刷配线板的制造方法
本公开涉及感光性元件、阻挡层形成用树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法以及印刷配线板的制造方法。
技术介绍
以往，在印刷配线板的制造领域中，作为用于蚀刻处理或镀覆处理等的抗蚀剂材料，广泛使用感光性树脂组合物、以及在支撑膜上具备使用感光性树脂组合物所形成的层(以下，也称为“感光层”)的感光性元件。印刷配线板是使用上述感光性元件，通过例如以下的步骤来制造的。即，首先，将感光性元件的感光层层压于覆铜层叠板等电路形成用基板上。此时，以感光层的与支撑膜接触的面相反侧的面密合于电路形成用基板的形成电路的面的方式进行层压。另外，层压例如通过将感光层加热压接于电路形成用基板上来进行(常压层压法)。接着，使用掩模膜等，隔着支撑膜对感光层的所期望的区域进行曝光，从而产生自由基。所产生的自由基通过几个反应路径而有助于光聚合性化合物的交联反应(光固化反应)。接下来，将支撑膜剥离，然后利用显影液将感光层的未固化部溶解或分散去除，从而形成抗蚀剂图案。接下来，将抗蚀剂图案作为抗蚀剂，实施蚀刻处理或镀覆处理而形成导体图案，最后将感光层的光固化部(抗蚀剂图案)剥离(去除)。另外，近年来，研究了在曝光前剥离支撑膜后对感光层进行曝光，从而形成优异的抗蚀剂图案的方法。但是，在剥离支撑膜后对感光层进行曝光时，所产生的自由基会与空气中的氧接触，从而自由基迅速地稳定化(失活)，使得光聚合性化合物的光固化反应难以进行。因此，在该方法中，为了减轻将支撑膜剥离来进行曝光时伴随氧混入而产生的影响，研究了使用在支撑膜与感光层之间具备具有阻气性的阻挡层(阻挡层)的感光性元件(例如参照专利文献1～3)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利第5483734号公报专利文献2：日本特开2013-24913号公报专利文献3：日本专利第5551255号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题就上述专利文献1～3中记载那样的具备含有水溶性树脂的阻挡层的感光性元件而言，由于水溶性树脂与支撑膜的亲和性高，因而有时阻挡层与支撑膜之间的粘接性强。在该情况下，从感光性元件的阻挡层剥离支撑膜时，剥离支撑膜变得困难，有时阻挡层或感光层会缺损。迄今为止，提出了通过在含有水溶性树脂的阻挡层形成用树脂组合物中添加有机硅或氟系表面活性剂等剥离促进剂，从而降低阻挡层与支撑膜之间的粘接性，提高阻挡层与支撑膜的剥离性的方案。然而已知存在如下问题：由于添加这些表面活性剂等剥离促进剂，导致所形成的阻挡层变得容易产生浑浊。此外，由于表面活性剂等剥离促进剂存在于阻挡层与支撑膜的界面，因而从长远的视角来看，存在界面组成发生变动、或阻挡层与支撑膜之间的粘接性发生变化，难以维持稳定的支撑膜剥离性(阻挡层与支撑膜的剥离性)这样的问题。本公开是鉴于上述以往技术所具有的课题而作出的，其目的在于提供一种即使不使用剥离促进剂也能够提高阻挡层与支撑膜的剥离性的感光性元件、阻挡层形成用树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法以及印刷配线板的制造方法。解决课题的方法为了实现上述目的，本公开提供一种感光性元件，其依次具备支撑膜、阻挡层和感光层，上述阻挡层含有水溶性树脂和碳数大于或等于3的醇类。本公开的感光性元件通过在阻挡层中含有碳数大于或等于3的醇类，从而即使不使用剥离促进剂也能够提高阻挡层与支撑膜的剥离性。根据这样的感光性元件，能够将支撑膜从阻挡层顺畅地剥离，因而能够抑制阻挡层以及感光层的缺损。此外，由于即使不使用剥离促进剂也能够提高阻挡层与支撑膜的剥离性，因而能够抑制因剥离促进剂的存在而引起的阻挡层浑浊的产生以及支撑膜剥离性的经时变化。因此也可以说，通过使用本公开的感光性元件，能够形成分辨率和抗蚀剂图案形状优异的抗蚀剂图案。上述本公开的感光性元件中，上述碳数大于或等于3的醇类可含有由下述化学式(1)～(3)所表示的化合物和下述通式(4)所表示的化合物组成的组中的至少一种。根据这样的感光性元件，能够更加提高阻挡层与支撑膜的剥离性。[化1][化2][化3][化4][通式(4)中，R11表示烷基，R12表示亚烷基，R11的基团和R12的基团的碳数之和大于或等于3。]上述本公开的感光性元件中，上述碳数大于或等于3的醇类对于20℃的水的溶解度可以大于或等于300mL/水100mL。根据这样的感光性元件，能够更加抑制阻挡层的层分离，能够提供实用上优异的感光性元件。上述本公开的感光性元件中，上述阻挡层中的上述碳数大于或等于3的醇类的含量可以以上述阻挡层的总量为基准超过0质量％且小于或等于2.0质量％。根据这样的感光性元件，能够抑制后续工序中的醇类的扩散。上述本公开的感光性元件中，上述水溶性树脂可含有聚乙烯醇。根据这样的感光性元件，能够更加提高阻挡层的阻气性，能够更加抑制通过曝光所用的活性光线而产生的自由基的失活。上述本公开的感光性元件中，上述支撑膜可以是聚酯膜。根据这样的感光性元件，能够提高支撑膜的机械强度和耐热性，并且能够抑制在支撑膜上形成阻挡层时所产生的阻挡层的皱褶等不良情况，能够提高作业性。此外，本公开还提供一种阻挡层形成用树脂组合物，其含有水溶性树脂、碳数大于或等于3的醇类和水。根据这样的阻挡层形成用树脂组合物，即使不使用剥离促进剂，也能够形成与支撑膜的剥离性优异的阻挡层。本公开的阻挡层形成用树脂组合物中，上述碳数大于或等于3的醇类可含有由上述化学式(1)～(3)所表示的化合物和上述通式(4)所表示的化合物组成的组中的至少一种。根据这样的阻挡层形成用树脂组合物，能够形成与支撑膜的剥离性更加优异的阻挡层。本公开的阻挡层形成用树脂组合物中，上述碳数大于或等于3的醇类对于20℃的水的溶解度可以大于或等于300mL/水100mL。根据这样的阻挡层形成用树脂组合物，能够形成层分离得以抑制的阻挡层。本公开的阻挡层形成用树脂组合物中，上述碳数大于或等于3的醇类的含量相对于水500质量份可设为100～500质量份。根据这样的阻挡层形成用树脂组合物，能够形成与支撑膜的剥离性更优异的阻挡层，并且由于水溶性树脂的溶解性提高，因而能够易于形成阻挡层。本公开的阻挡层形成用树脂组合物中，上述水溶性树脂可含有聚乙烯醇。根据这样的阻挡层形成用树脂组合物，能够形成阻气性更加优异的阻挡层。此外，本公开还提供一种抗蚀剂图案的形成方法，其具备：使用上述本公开的感光性元件，在基板上从该基板侧开始依次配置感光层、阻挡层和支撑膜的工序；去除上述支撑膜，利用活性光线，隔着上述阻挡层对上述感光层进行曝光的工序；以及从上述基板上去除上述感光层的未固化部和上述阻挡层的工序。根据这样的抗蚀剂图案的形成方法，由于使用上述本公开的感光性元件来形成抗蚀剂图案，因而能够形成分辨率和抗蚀剂图案形状优异的抗蚀剂图案。本公开进一步提供一种印刷配线板的制造方法，其具备：对通过上述本公开的抗蚀剂图案的形成方法形成了抗蚀剂图案的基板进行蚀刻处理或镀覆处理，从而形成导体图案的工序。根据这样的印刷配线板的制造方法，由于通过上述本公开的抗蚀剂图案的形成方法来形成抗蚀剂图案，因而能够形成分辨率和抗蚀剂图案形状优异的抗蚀剂图案，能够提供适合于印刷配线板的高密度化的印刷配线板的制造方法。专利技术的效果根据本公开，可提供一种即使不使用剥离促进剂也本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性元件，其依次具备支撑膜、阻挡层和感光层，所述阻挡层含有水溶性树脂和碳数大于或等于3的醇类。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.30 JP 2015-1505301.一种感光性元件，其依次具备支撑膜、阻挡层和感光层，所述阻挡层含有水溶性树脂和碳数大于或等于3的醇类。2.根据权利要求1所述的感光性元件，所述碳数大于或等于3的醇类含有选自由下述化学式(1)～(3)所表示的化合物和下述通式(4)所表示的化合物组成的组中的至少一种，[化1][化2][化3][化4]通式(4)中，R11表示烷基，R12表示亚烷基，R11的基团和R12的基团的碳数之和大于或等于3。3.根据权利要求1或2所述的感光性元件，所述碳数大于或等于3的醇类对于20℃的水的溶解度为大于或等于300mL/水100mL。4.根据权利要求1～3中任一项所述的感光性元件，所述阻挡层中的所述碳数大于或等于3的醇类的含量以所述阻挡层的总量为基准超过0质量％且小于或等于2.0质量％。5.根据权利要求1～4中任一项所述的感光性元件，所述水溶性树脂含有聚乙烯醇。6.根据权利要求1～5中任一项所述的感光性元件，所述支撑膜为聚酯膜。7.一种阻挡层形成用树脂组合物，其含有水溶性树脂、碳数大于或等于3的醇类和水。8.根据权利要求7所述的阻挡层形成用树脂组合物，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：粂壮和，小野博史，松村辽，
申请(专利权)人：日立化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP