一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。方便了样品的摆放，有样品位置套刻定位槽的存在，使得二次放样位置不会太偏，这样才能在软件及硬件的配合下，校正二次放样位置的偏差，才能进行套刻工艺。

【技术实现步骤摘要】
一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统
本技术涉及电子束曝光机，尤其涉及一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统。
技术介绍
电子束曝光机是一种重要的高分辨率纳米加工设备。其常被用于制备各种纳米器件。因而对其工艺的摸索是非常有必要的，现在很多科学研究已不满足于用单一材料或单一层数来制备纳米器件，常常需要根据科研设计，制备多种材料或多层工艺以满足纳米器件制备的高要求。这就需要用到套刻工艺，然而说到套刻，我们都知道，套刻就意味着第二次放样与第一次放样角度位置不能偏差太大，否则在现有硬件及软件的条件下，是无法实现套刻的。而就目前的样品台而言，做一次套刻相当不容易，将样品放入电子束曝光机准备曝第二层时，如果发现第二次放样角度偏差与第一次较大，则需要将电镜放气，样品台取出，根据经验大概调整样品位置，再放置到扫描电镜中，重新抽真空，重新聚焦，如此反复才能找到合适的位置进行下一步的曝光工作，为曝光带来了极大的不便，且需耗费大量的时间和精力在寻找第一次位置上，无形中增加了很多工作量。
技术实现思路
本技术就是针对上述问题，提出一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，所述套刻位置定位系统的设计可以使电子束曝光套刻变得极为简单、方便、快捷，可以极大的提高纳米器件制备的效率。为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案：一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。优选地，所述套刻定位槽为两个，且两个套刻定位槽平行设置，所述两个套刻定位槽之间的距离为1-3mm。优选地，所述套刻区域为三个，所述套刻区域还包括均匀分布的螺丝孔，所述螺丝孔用于固定压紧套刻样品的压片。优选地，所述样品台主体还包括校正区域，所述校正区域包括棋盘格样品和校正定位装置。优选地，所述校正定位装置包括若干直线型凹槽，直线型凹槽的右端均相互连通设置，且所述凹槽成顺时针方向排列设置，其中一个凹槽为水平设置。本技术有益效果是：(一)方便了样品的摆放，有样品位置套刻定位槽的存在，使得二次放样位置不会太偏，这样才能在软件及硬件的配合下，校正二次放样位置的偏差，才能进行套刻工艺。(二)提高了套刻的效率，避免了电镜反复放气和抽真空等工作。由于两次放样若角度偏差较大时，需要将样品取出，根据经验调整样品，重新放置样品，再放置到扫描电镜中，重新抽真空，重新找到样品，重新聚焦，重新观察角度偏差是否合适。如果不合适只能重复以上的步骤重新来一遍。而我们的设计避免了这些繁琐的工作，提高了套刻的效率。(三)适应样品的尺寸范围也较大，样品较小时样品一边对齐顶端的套刻定位槽，样品较大时对齐底端的套刻定位槽即可。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统一种实施例的结构示意图；图2是图1的侧视图；图3是套刻定位装置一种实施例的结构示意图；图4是校正定位装置一种实施例的结构示意图；图5是校正棋盘格样品一种实施例的结构示意图；图中：1样品台主体，2螺丝孔，3金颗粒样品，4圆槽，5套刻样品，6棋盘格样品，7角度定位槽，71第一凹槽，72第二凹槽，73第三凹槽，74第四凹槽，75第五凹槽，8套刻定位槽。具体实施方式结合附图和实施例对本技术做进一步的说明。一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。实施例：如图1-5所示，一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，所述样品台主体1包括四个区域，分别为三个套刻区域和一个校正区域，其中，套刻区域包括待套刻样品5、用于固定套刻样品5的螺丝孔2和套刻定位槽8，所述待套刻样品5的长边与套刻定位槽8对齐进行定位；本实施例中，所述套刻定位槽8为两个且平行设置，所述两个套刻定位槽8为水平设置。本实施例中，校正区域包括角度定位槽7和棋盘格样品6，用于校场的棋盘格样品6根据具体需求，将棋盘格样品6的长边对齐到某一角度定位槽7上。本实施例对电子束曝光样品套刻而言，所述样品台主体1是根据电子束曝光机平台大小专门定制的，在所述样品台主体1上有用于紧固压片的螺丝孔2，其中压片是用来紧固样品的，所述样品台主体1上有专门用于放置金颗粒样品3的圆形凹槽4，在所述样品台主体1上即可放置用于套刻样品5，由于套刻时需要将第二次放样的位置与第一次放样的位置几乎差不多，才能进行套刻和曝光，因此在所述样品台主体1上设有套刻定位槽8，从而记录样品放置的位置，第一次放置样品时，将样品的长边对齐套刻定位槽，曝光完成之后将样品台主体1取出，样品5取下之后进行后续显影、定影、刻蚀、镀膜和甩胶等工艺之后，进行二次曝光套刻时，放样时只需将样品5对齐到上次使用的套刻定位槽8即可，非常快捷、准确地进行套刻，否则套刻工艺将无法实现。另外，本技术在曝光套刻之前需要进行校正，校正装置包括棋盘格样品6和一系列角度变化的定位槽7，所述定位槽7是一些角度均匀变化的凹槽，本实施例中，所述定位凹槽包括第一凹槽71、第二凹槽72、第三凹槽73、第四凹槽74和第五凹槽75，所述第一凹槽为水平设置，所述第二凹槽与第一凹槽顺时针方向呈5°，所述第三凹槽与所述第一凹槽逆时针方向呈5°，所述第四凹槽与所述第二凹槽顺时针呈5°夹角，所述第五凹槽与所述第三凹槽逆时针呈5°夹角，并且，所述五个凹槽的右端相连通，本实施例中，所述五个凹槽的长度均为3cm。使用时，只需将棋盘格样品6的长边对齐到角度定位槽7的其中一个凹槽，在电镜中放大到900倍时进行观察，看棋盘格样品6所有用于定位的参考点A、B、C是否都在所观察的视野内，且棋盘格样品6的偏角是否在程序可调控的范围之内，如果不合适，只需对棋盘格样品6进行微调，将棋盘格样品6顺时针或逆时针旋转对齐到另一个角度定位槽7，再次用电镜进行观察，此时如果棋盘格样品6角度偏差合适，记录下此时棋盘格样品6的长边所对应的角度定位槽7的位置，那么由于装样、除尘、清洗等步骤所引起的棋盘格样品6的松动，需要重置棋盘格样品6时，只需将棋盘格样品6放置到原来的角度定位槽7的位置即可，从而只需将棋盘格样品6角度位置摸索一次即可永久使用，此校准方法可以普遍推广适用于很多类似的仪器设备。本技术方便了电子束曝光套刻的需求，可以实现两次放样的精准定位，避免了以往反复对电镜放气和抽真空，不用反复找第一次样品放置位置，不用重复聚焦等等这些耗时耗力的工作，极大地方便了电子束曝光，节约了摸索第一次样品放置位置的时间，很好地提高了曝光效率。在此说明书中，本技术已参照其特定的实施例作了描述。但是，很显然仍可以做出各种修改和变换而不背离本技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，其特征在于，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。

【技术特征摘要】
1.一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，其特征在于，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。2.根据权利要求1所述的具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，其特征在于，所述套刻定位槽为两个，且两个套刻定位槽平行设置，所述两个套刻定位槽之间的距离为1-3mm。3.根据权利要求1或2所述的具有定位装置的电子束曝光机样品...

【专利技术属性】
技术研发人员：李喜玲，郭党委，毕四军，
申请(专利权)人：兰州大学，
类型：新型
国别省市：甘肃,62