一种改善金属电容TDDB性能的方法技术

本发明专利技术提供了一种改善金属电容TDDB性能的方法，所述方法包括：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出部分介质层；进行合金化工艺，修复暴露出的部分介质层；形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的部分介质层；进行光刻；对所述下电极进行蚀刻并且清洗。本发明专利技术在传统工艺的基础上，通过增加合金化工艺，能够修复plasma对介质层的损伤，提高电介质的抗击穿性，从而提高TDDB性能，增加芯片的使用时间。

A method to improve the performance of metal capacitor TDDB

The present invention provides a method to improve the performance of TDDB metal capacitor, the method comprises the following steps: etching and cleaning of the upper electrode, the exposed part of the dielectric layer; alloying process, part of the dielectric layer repair exposed; forming a silicon oxynitride layer part of the dielectric layer of the silicon oxynitride covering the upper electrode and the exposed; lithography; etching the electrode and cleaning. Based on the traditional technology, the invention can repair the damage of plasma to the dielectric layer by increasing the alloying process, and improve the dielectric breakdown resistance, thereby improving the TDDB performance and increasing the use time of chips.

【技术实现步骤摘要】
一种改善金属电容TDDB性能的方法
本专利技术涉半导体制造领域，特别涉及一种改善金属电容TDDB性能的方法。
技术介绍
金属电容是IC芯片制造中常用的器件。但是，在金属电容的生产工艺过程中，金属电容层干法刻蚀后，电容边缘容易受到电浆损伤5(plasmadamage，如图1所示)，此外，后续金属干法刻蚀时也会对电容边缘产生影响。请结合图1和图2，传统的金属电容制造方法流程包括：步骤1、金属电容上电极4蚀刻(metalcapacitortopetch，MCT-ET)，并清洗；步骤2、SiON(氮氧化硅)沉积；步骤3、光刻；步骤4、下电极(包括第一金属层1和第二金属层2)蚀刻并且清洗。当需要的金属电容量越大，在选用相同介质3的情况下，电容介质3的厚度就要变得更薄，plasmadamage的影响也变得更大，进而会容易造成TDDB问题，TDDB(timedependentdielectricbreakdown)是与时间相关电解质击穿，是评价电介质层质量的可靠性标准之一，在器件两端加恒定的电压，使器件处于积累状态，经过一段时间后，电介质就会击穿，这期间经历的时间就是在该条件下的寿命，如果器件的TDDB性能下降，那么该电容器就容易击穿造成芯片失效。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种改善金属电容TDDB性能的方法，能够提升金属电容器的抗击穿性，增加芯片的使用寿命。本专利技术提供一种改善金属电容TDDB性能的方法，所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出部分介质层；进行合金化工艺，修复暴露出的部分介质层；形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的部分介质层；进行光刻；对所述下电极进行蚀刻并且清洗。可选的，所述合金化工艺为利用氢气或者氮气来进行。可选的，所述合金化工艺的温度为300～450℃。可选的，所述合金化工艺的作用时间大于20min。可选的，所述金属电容的下电极包括铝-钛-氮化钛或钛-氮化钛，所述介质层包括氮化硅，所述上电极包括氮化钛。可选的，对上电极进行的蚀刻是干法蚀刻；对下电极进行的蚀刻是干法蚀刻。本专利技术还一种改善金属电容TDDB性能的方法，所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出第一部分介质层；形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的第一部分介质层；进行光刻；对所述下电极进行蚀刻并且清洗，暴露出第二部分介质层；进行合金化工艺，修复暴露出的第一部分介质层和第二部分介质层。可选的，所述合金化工艺为利用氢气或者氮气来进行。可选的，其特征在于，所述合金化工艺的温度为300～450℃。可选的，所述合金化工艺的作用时间为大于20min。可选的，所述金属电容的下电极包括铝-钛-氮化钛或钛-氮化钛，所述介质层包括氮化硅，所述上电极包括氮化钛。可选的，对上电极进行的蚀刻是干法蚀刻；对下电极进行的蚀刻是干法蚀刻。本专利技术还一种改善金属电容TDDB性能的方法，所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出第一部分介质层；进行第一次合金化工艺，修复暴露出的第一部分介质层；形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的第一部分介质层；进行光刻；对所述下电极进行蚀刻并且清洗，暴露出第二部分介质层；进行第二次合金化工艺，修复暴露出的第一部分介质层和第二部分介质层。可选的，所述合金化工艺为利用氢气或者氮气来进行。可选的，所述合金化工艺的温度为300～450℃。可选的，所述合金化工艺的作用时间为大于20min。可选的，所述金属电容的下电极包括铝-钛-氮化钛或钛-氮化钛，所述介质层包括氮化硅，所述上电极包括氮化钛。可选的，对上电极进行的蚀刻是干法蚀刻；对下电极进行的蚀刻是干法蚀刻。本专利技术在传统工艺的基础上，通过增加合金化工艺，能够修复电浆对介质层的损伤，提高电介质的抗击穿性，从而提高TDDB性能，增加芯片的使用寿命。附图说明图1是现有技术中电容边缘受到电浆损伤的示意图；图2是现有技术中金属电容制造方法的流程图；图3是本专利技术中实施例一方法的流程图；图4是本专利技术中实施例二方法的流程图；图5是本专利技术中实施例三方法的流程图；图6是采用本专利技术的方法和未采用本专利技术方法的韦伯分布图。图中标号：1-铝；2-钛或氮化钛；3-氮化硅；4-氮化钛；5-电浆损伤具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本专利技术提出的改善金属电容TDDB性能的方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。现有的金属电容蚀刻方法存在电浆对介质层损伤的问题，进而影响其TDDB性能，专利技术人经过长期的研究实验发现，在原有工艺方法的基础上，增加合金化工艺，可以有效的解决上述问题。实施例一一种改善金属电容TDDB性能的方法的流程如图3所示：所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：步骤1：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出部分介质层；步骤2：进行合金化工艺，修复暴露出的部分介质层；步骤3：形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的部分介质层；步骤4：进行光刻；步骤5：对所述下电极进行蚀刻并且清洗；所述合金化工艺利用氢气或者氮气来进行作用，作用温度为300-450℃，作用时间大于20min，在上电极蚀刻完之后，暴露出的介质层会存在一定的电浆损伤，通过合金化工艺来修复介质层的plasmadamage。金属电容的下电极包括铝-钛-氮化钛或钛-氮化钛，所述介质层包括氮化硅，所述上电极包括氮化钛。对上电极进行的蚀刻是干法蚀刻，对下电极进行的蚀刻是干法蚀刻，具体的是指利用电浆中的离子轰击电容表面，形成所需要的图形。在两次蚀刻完之后，都需要对晶片进行清洗，所述清洗的方法包括干式清洗和湿式清洗法，以去除刻蚀残留物。所述氮氧化硅层的作用是铺在晶片(可以理解的是，损伤金属电极是形成在晶片上)表面，形成一层反射层，提高后续的光刻效果。本实施例主要是对上电极蚀刻后介质层存在的电浆损伤，对介质层进行修复，提高电介质的抗击穿性，从而提高TDDB性能，增加芯片的使用寿命。实施例二一种改善金属电容TDDB性能的方法的流程如图4所示：所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：步骤1：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出第一部分介质层；步骤2：形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的第一部分介质层；步骤3：进行光刻；步骤4：对所述下电极进行蚀刻并且清洗，暴露出第二部分介质层；步骤5：进行合金化工艺，修复暴露出的第一部分介质层和第二部分介质层；所述合金化工艺利用氢气或者氮气来进行作用，作用温度为300-450℃，作用时间大于20min。在上电极蚀刻完之后，所暴露出的介质层会存在一定的电浆损伤，在下电极蚀刻完之后，所暴露出的介质层也会存在一定的电浆损伤，在下电极蚀刻完之后通过合金化工本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改善金属电容TDDB性能的方法，所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出部分介质层；进行合金化工艺，修复暴露出的部分介质层；形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的部分介质层；进行光刻；对所述下电极进行蚀刻并且清洗。

【技术特征摘要】
1.一种改善金属电容TDDB性能的方法，所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出部分介质层；进行合金化工艺，修复暴露出的部分介质层；形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的部分介质层；进行光刻；对所述下电极进行蚀刻并且清洗。2.如权利要求1所述的的改善金属电容TDDB性能的方法，其特征在于，所述合金化工艺为利用氢气或者氮气来进行。3.如权利要求1所述的的改善金属电容TDDB性能的方法，其特征在于，所述合金化工艺的温度为300～450℃。4.如权利要求1所述的的改善金属电容TDDB性能的方法，其特征在于，所述合金化工艺的作用时间大于20min。5.如权利要求1所述的改善金属电容TDDB性能的方法，其特征在于，所述金属电容的下电极包括铝-钛-氮化钛或钛-氮化钛，所述介质层包括氮化硅，所述上电极包括氮化钛。6.如权利要求1所述的的改善金属电容TDDB性能的方法，其特征在于，对上电极进行的蚀刻是干法蚀刻；对下电极进行的蚀刻是干法蚀刻。7.一种改善金属电容TDDB性能的方法，所述金属电容包括相对设置的上电极、下电极以及位于上电极和下电极之间的介质层，所述方法包括：对所述上电极进行蚀刻并清洗，暴露出第一部分介质层；形成一氮氧化硅层，所述氮氧化硅层覆盖所述上电极和所述暴露出的第一部分介质层；进行光刻；对所述下电极进行蚀刻并且清洗，暴露出第二部分介质层；进行合金化工艺，修复暴露出的第一部分介质层和第二部分介质层。8.如权利要求7所述的的改善金属电容TDDB性能的方法，其特征在于，所述合金化工艺为利用氢气或者氮气来进行。9.如权利要求7所述的的改善金属电容TDDB性能的方法，其特征在于，所述合金化工艺的温度为300～450℃。10....

【专利技术属性】
技术研发人员：梁肖，孙琪，段新一，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31