光波导器件及其制造方法技术
Optical waveguide devices and their manufacturing methods
The purpose of the invention is to provide an optical waveguide device with excellent optical properties and its manufacturing method, which inhibits the etching process in subsequent processes of metal film oxidation and manufacturing process, which is composed of metal clad polarizing elements. An optical waveguide device includes a substrate (1), with electro optical effect; optical waveguide (2), is formed on the substrate; the metal clad type polarizing element (3), in order to form at least a portion of the optical waveguide mode cover, wherein the optical waveguide devices, in the metal clad type polarizing element on the metal film (30) covering all the exposed part of the way to form a protective film (33).
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光波导器件及其制造方法
本专利技术涉及光波导器件及其制造方法，尤其是涉及在形成有光波导的基板的一部分上配置有金属包层型偏光元件的光波导器件及其制造方法。
技术介绍
在光通信领域或光计测领域中，在铌酸锂等的具有电光学效果的基板上形成有光波导的光波导器件被利用作为光调制器等。在利用了具有电光学效果的结晶基板的光波导器件中，通常使用电光学效果最大的r33。例如，在使用X切铌酸锂的情况下，r33成为结晶的水平方向，因此使电光学效果起作用的光选择与r33的方向相等的偏振面即TM波。因此，对于不需要的TE波，通过偏光元件除去。偏光元件中，存在如专利文献1那样安装在光向铌酸锂等的芯片的入射出射端面上并插入到光路上的基于“ラミポール”（商标）或“Polarcor”（商标）的结构，或者如专利文献2那样使铝那样的金属膜包层于形成为光学结晶的光波导上由此吸收TE波的金属包层型。尤其是后者的偏光元件能够作为晶圆工艺的一部分实施，因此从成本、作业性的方面优选。图1示出在基板1的表面上配置的金属包层型偏光元件3的例子。在金属包层型偏光元件3上配置有金属膜30和在金属膜30的表面和背面配置的缺...
【技术保护点】
一种光波导器件，具有：基板，具有电光学效果；光波导，形成在该基板上；金属包层型偏光元件，以将该光波导的至少一部分覆盖的方式形成，所述光波导器件的特征在于，该金属包层型偏光元件从该基板侧起依次层叠有低折射率材料层、金属膜、低折射率材料层而形成，在该金属包层型偏光元件上以将金属膜的露出部分全部覆盖的方式形成有保护膜，该低折射率材料层具有比该光波导的折射率低的折射率，该保护膜是缺氧状态的膜体，且膜厚为200nm以上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.09.30 JP 2011-2184031.一种光波导器件，具有：基板，具有电光学效果；光波导，形成在该基板上；金属包层型偏光元件，以将该光波导的至少一部分覆盖的方式形成，所述光波导器件的特征在于，该金属包层型偏光元件从该基板侧起依次层叠有低折射率材料层、金属膜、低折射率材料层而形成，在该金属包层型偏光元件上以将金属膜的露出部分全部覆盖的方式形成有保护膜，该低折射率材料层具有比该光波导的折射率低的折射率，该保护膜是缺氧状态的膜体，且膜厚为200nm以上。2.根据权利要求1所述的光波导器件，其特征在于，该保护膜是SiOx，其中，x<2。3.根据权利要求1或2所述的光波导器件，其特征在于，该保护膜通过溅射法形成。4.根据权利要求1或2所述的光波导器件，其特征在于，在该基板形成的光波导为4根，该金...
【专利技术属性】
技术研发人员：藤野哲也，近藤胜利，
申请(专利权)人：住友大阪水泥股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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