The invention relates to data communication and active optical cable, in particular to a silicon based V groove preparation method with converging and selecting partial function. A silicon based V groove preparation method with convergence and bias function is introduced, including the manufacturing process of silicon based V groove with 45 degree micro reflector, and the process of preparing ICP grating on the 45 degree mirror surface of the silicon based V groove. By means of the method of silicon etching and coating, silicon V groove waveguide micro mirror with 45 degrees, in order to achieve optical VCSEL; and in the 45 degree mirror silicon V groove on the preparation of sub wavelength grating to achieve convergence, polarization and dispersion, far smaller the spread of silicon V groove making use of this method to enhance the coupling efficiency and achieve high polarization to the optical fiber transmission in time.
【技术实现步骤摘要】
一种具有会聚与选偏功能的硅基V型槽制备方法
本专利技术属于涉及数据通信、有源光缆,具体涉及一种具有会聚与选偏功能的硅基V型槽制备方法。
技术介绍
光收发模块是光通讯的核心器件,完成对光信号的光-电/电-光转换。由两部分组成:接收部分和发射部分。接收部分实现光-电变换,发射部分实现电-光变换。在光模块的应用中有一项非常重要的指标就是光模块的传输距离,光模块的传输距离分为短距、中距和长距三种。一般认为2km及以下的为短距离,10~20km的为中距离,30km、40km及以上的为长距离。光模块的传输距离受到限制,主要是因为光信号在光纤中传输时会有一定的损耗和色散。损耗是光在光纤中传输时,由于介质的吸收散射以及泄漏导致的光能量损失,这部分能量随着传输距离的增加以一定的比率耗散。色散的产生主要是因为不同波长的电磁波在同一介质中传播时速度不等,从而造成光信号的不同波长成分由于传输距离的累积而在不同的时间到达接收端,导致脉冲展宽,进而无法分辨信号值。所以在制作光模块的过程中降低光在光纤中的色散,提高激光器与光纤的耦合效率至关重要。在长距离传输诸如1.3um的VCSEL与单模光纤耦合时,由于单模光纤芯径仅为9um,而VCSEL的氧化限制孔径在9um附近,加之发散角传播后,与光纤耦合时光斑直径远大于光纤芯径,造成耦合时光功率的浪费,因此在耦合时收缩光斑对提升耦合效率至为重要;此外,光在光纤中传播时高偏振态的激光色散更低,能够传输更远的距离。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对现有技术中存在的问题提供一种具有会聚与选偏功能的硅基V型槽制备方法,该方法通过硅刻蚀及镀膜方式,实现 ...
【技术保护点】
一种具有会聚与选偏功能的硅基V型槽制备方法,包括带有45°微反射镜的硅基V型槽的制作步骤,其特征在于,还包括在制备好的硅基V型槽的45°反射镜面上进行ICP刻蚀制备光栅的过程,该过程包括如下步骤:一、将制备好的带有45°微反射镜的硅基V型槽依次进行去离子水冲洗、氮气吹干、移入热氧化炉进行湿氧氧化,待氧化完成后进行快速热退火;二、对经过上述步骤处理过的硅基V型槽进行光刻、显影;三、对上步骤处理过的硅基V型槽进行氮气吹干,然后使用稀释的HF对SiO2进行腐蚀,用以充当第四步硅的掩膜;四、使用ICP完成干刻蚀,使用等离子蚀刻机,对硅进行刻蚀,去除残留的SiO2。
【技术特征摘要】
1.一种具有会聚与选偏功能的硅基V型槽制备方法,包括带有45°微反射镜的硅基V型槽的制作步骤,其特征在于,还包括在制备好的硅基V型槽的45°反射镜面上进行ICP刻蚀制备光栅的过程,该过程包括如下步骤:一、将制备好的带有45°微反射镜的硅基V型槽依次进行去离子水冲洗、氮气吹干、移入热氧化炉进行湿氧氧化,待氧化完成后进行快速热退火;二、对经过上述步骤处理过的硅基V型槽进行光刻、显影;三、对上步骤处理过的硅基V型槽进行氮气吹干,然后使用稀释的HF对SiO2进行腐蚀,用以充当第四步硅的掩膜;四、使用ICP完成干刻蚀,使用等离子蚀刻机,对硅进行刻蚀,去除残留的SiO2。2.根据权利要求1所述具有会聚与选偏功能的硅基V型槽制备方法,其特征在于,带有45°微反射镜的硅基V型槽的制作步骤包括如下过程:首先选取硅片,对选取的硅片进行丙酮、乙醇-超声波清洁,去离子水冲洗,氮气吹干;然后将处理的硅片移入热氧化炉中进行湿氧氧化,氧化完成后移入热退火炉中热退火;再者是进行光刻、显影处理;第四是使用氮气吹干,后浸入HF水溶液中,制备SiO2掩膜;最后将经过以上处理过的硅片浸入KOH水溶液,进行湿法硅刻蚀,制备带有45°微反射镜的硅基V型槽。3.根据权利要求1所述具有会聚与选偏功能的硅基V型槽制备方法,其特征在于,所述步骤一中使用的热氧化炉的温...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘鹏程,李明,闫海涛,张豪杰,黄宁博,王永贞,
申请(专利权)人:濮阳光电产业技术研究院,
类型:发明
国别省市:河南,41
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。