一种彩膜基板及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种彩膜基板及其制备方法，所述彩膜基板包括：基板；彩色色阻，制备于所述基板表面；以及挡墙，制备于所述基板表面，并定义出所述彩色色阻的相应区域；其中，在不同颜色的所述彩色色阻之间的所述挡墙包括互相独立的子挡墙，所述子挡墙至少包括相互平行且相对设置的第一子挡墙与第二子挡墙，所述第一子挡墙具有第一预定亲疏液性，所述第二子挡墙具有第二预定亲疏液性；以解决打印彩色色阻时出现混色，以及显示面板出现色度偏差的问题。

A color film substrate and its preparation method

The invention provides a color film substrate and preparation method thereof, wherein the color film substrate includes: a substrate; color resistance, prepared on the surface of the substrate; and the retaining wall, prepared on the substrate surface, and define the corresponding region of the color resistance; among them, the retaining wall in between different colors of the color resistance includes independent sub retaining wall, the sub wall includes at least parallel mutually and oppositely arranged first sub retaining wall and a second wall, the first sub retaining wall has a first predetermined distance of liquid, the second sub wall has second pre engagement lyophobicity to resolve; printing color resistance color mixing, and the display panel appear color deviation.

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制备方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法。
技术介绍
TFTLCD(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay)彩色滤光片的制作目前基本都是利用负型光阻涂布，曝光，显影的方式形成画素，然而这样的方式对于彩色滤光片所包含的各层(黑色矩阵、红、绿、蓝以及间垫物)光阻原料都造成极大的浪费。基于此，喷墨打印这种高效率高光阻利用率方法被研究用于彩色滤光片的制作。喷墨打印彩色滤光片是通过在非像素开口区制作当作防止红绿蓝(RGB)色阻混色的挡墙(sidewall)，再用喷墨打印的方法在对应像素开口区打印红绿蓝三种色阻的油墨，从而可以实现光阻的高效利用且可以省去曝光显影等制程，将彩色滤光片的制作极大地简单化。但是，用喷墨打印的方式制作彩色滤光片由于挡墙与RGB色阻接触角的问题容易出现图1中的三种问题；如图1a所示，挡墙102的材料属于疏水型，打印RGB色阻101无法与所述挡墙102很好的接触，从而所述RGB色阻101固化后膜层会形成中间厚两边薄的“凸”形结构(profile)，背光通过厚薄不均的RGB膜层其色度会出现差异。如图1b所示，挡墙102的材料与RGB色阻101的接触角在90°左右时，所述RGB色阻101极易流入其他像素区域(R色阻流入G和B像素区，G色阻流入B像素区)，从而会出现RGB混色的问题。如图1c所示，挡墙102的材料属于亲液型，此时RGB色阻101会形成两边厚中间薄的“凹”字形profile，同样会出现类似图1a中的色度偏差问题。同时，如若是超亲液材料的话也会出现类似图1b中的流入其他像素区域导致混色的问题。另外，由于喷墨打印液滴的打印轨迹通常无法控制到100％精准，因此，在打印过程中，不可避免的会出现有少数液滴会落到非目标像素区域。而打印机台能控制精度范围一般在3～5um，由此可知，偏离轨迹的打印液滴更大可能的会滴落在挡墙区域。而由于液滴的流动性，极有可能挡墙上的液滴会流至邻像素区域，同样会造成混色的问题。另外，若两种颜色色阻在挡墙上堆叠，那么很有可能会出现堆叠区高度超过画素开口区高度的状况，进而由于平坦度不佳而影响后续液晶配向。综上所述，现有技术的彩膜基板，在打印RGB色阻时容易出现混色，或者导致显示面板出现色度偏差，以及不同颜色彩膜在交界处堆叠易造成突起进而影响后续液晶配向。
技术实现思路
本专利技术提供一种彩膜基板及其制备方法，能够大大降低打印彩色色阻时出现混色、堆叠，以及显示面板出现色度偏差的问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：基板；彩色色阻，制备于所述基板表面；以及挡墙，制备于所述基板表面，并定义出所述彩色色阻的相应区域；其中，在不同颜色的所述彩色色阻之间的所述挡墙包括互相独立的子挡墙，所述子挡墙至少包括相互平行且相对设置的第一子挡墙与第二子挡墙，所述第一子挡墙具有第一预定亲疏液性，所述第二子挡墙具有第二预定亲疏液性。根据本专利技术一优选实施例，所述挡墙为黑色矩阵光阻。根据本专利技术一优选实施例，所述第一子挡墙与所述第二子挡墙的宽度相等。根据本专利技术一优选实施例，所述第一子挡墙/所述第二子挡墙的宽度为4～8um，所述第一子挡墙与所述第二子挡墙之间距离为4～10um。根据本专利技术一优选实施例，所述第一子挡墙/所述第二子挡墙的宽度为5～6um，所述第一子挡墙与所述第二子挡墙之间的距离为5～8um。本专利技术还提供一种制备上述彩膜基板的方法，所述方法包括如下步骤：步骤S201：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布一层第一光阻，控制所述第一光阻的表面能及亲疏液性，使所述第一光阻与彩色色阻的接触角在60°～90°之间，再经过真空干燥和预烘烤制程去除所述第一光阻中10％至90％的溶剂；步骤S202：利用曝光显影制程对所述第一光阻进行图案化处理形成第一子挡墙，所述第一子挡墙的宽度为4～8um；步骤S203：将显影后得到的所述第一子挡墙进行亲液性处理，使所述第一子挡墙与所述彩色色阻的接触角小于15°；步骤S204：在所述玻璃基板上涂布一层所述第一光阻，控制所述第一光阻的表面能及亲疏液性，使所述第一光阻与所述彩色色阻的接触角在60°～90°之间，再经过真空干燥和预烘烤制程去除所述第一光阻中10％至90％的溶剂；步骤S205：重复使用形成所述第一子挡墙的掩膜板，在偏移所述第一子挡墙4～10um处的位置进行曝光，再经过显影制程后形成第二子挡墙，所述第二子挡墙的宽度为4～8um；步骤S206：用喷射打印的方式于像素开口区打印所述彩色色阻。根据本专利技术一优选实施例，所述步骤S203中还包括，通过波长为162～182nm的极紫外光照射所述第一子挡墙，使所述第一子挡墙与所述彩色色阻的接触角由70°～80°变到小于15°。根据本专利技术一优选实施例，所述掩膜板对应所述第一子挡墙和/或所述第二子挡墙的部位的透光率为100％，所述掩膜板的其他部位的透光率为0％。根据本专利技术一优选实施例，所述第一光阻为黑色矩阵光阻，所述第一光阻与所述彩色色阻的接触角为70°～80°，所述第一子挡墙和/或所述第二子挡墙的宽度为5～6um。根据本专利技术一优选实施例，所述步骤S205中，所述掩膜板偏移所述第一子挡墙的距离为5～8um。本专利技术的有益效果为：相较于现有技术的彩膜基板，本专利技术的彩膜基板，通过将不同的彩色色阻间的挡墙设置为至少两个独立的平行且相对设置的子挡墙，相邻两子挡墙之间的间隙用以存储溢出显示区或者滴落在显示区外的彩色色阻，以免出现混色现象；将至少两子挡墙分别设置为亲液型和疏液型，当打印的彩色色阻量略超出挡墙高度时，彩色色阻均会统一流向亲液性的子挡墙一侧，从而在两条子挡墙的中间仅会存在一种颜色色阻，进一步强化挡墙防止混色功能；同时不同亲疏水性挡墙也可以防止不同颜色彩膜在交界处堆叠造成的突起。附图说明为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1a-图1c为现有技术的三种类型的彩膜基板结构示意图；图2为本专利技术实施例一提供的彩膜基板曝光制程的示意图；图3为本专利技术实施例一提供的彩膜基板结构示意图；图4为本专利技术实施例二提供的彩膜基板制备流程图；图5为本专利技术实施例二提供的彩膜基板曝光制程示意图；图6为本专利技术实施例二提供的彩膜基板结构示意图。具体实施方式以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施例。本专利技术所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。本专利技术针对现有技术的彩膜基板，在打印彩色色阻时容易出现混色，或者导致显示面板出现色度偏差，以及不同颜色彩膜在交界处堆叠易造成突起进而影响后续液晶配向的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。下面结合附图详细介绍本专利技术具体实施例提供的彩膜基板及其制备方法。本专利技术实施例一提供的彩膜基板的制备方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板，其特征在于，包括：基板；彩色色阻，制备于所述基板表面；以及挡墙，制备于所述基板表面，并定义出所述彩色色阻的相应区域；其中，在不同颜色的所述彩色色阻之间的所述挡墙包括互相独立的子挡墙，所述子挡墙至少包括相互平行且相对设置的第一子挡墙与第二子挡墙，所述第一子挡墙具有第一预定亲疏液性，所述第二子挡墙具有第二预定亲疏液性。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：基板；彩色色阻，制备于所述基板表面；以及挡墙，制备于所述基板表面，并定义出所述彩色色阻的相应区域；其中，在不同颜色的所述彩色色阻之间的所述挡墙包括互相独立的子挡墙，所述子挡墙至少包括相互平行且相对设置的第一子挡墙与第二子挡墙，所述第一子挡墙具有第一预定亲疏液性，所述第二子挡墙具有第二预定亲疏液性。2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述挡墙为黑色矩阵光阻。3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一子挡墙与所述第二子挡墙的宽度相等。4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一子挡墙/所述第二子挡墙的宽度为4～8um，所述第一子挡墙与所述第二子挡墙之间距离为4～10um。5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一子挡墙/所述第二子挡墙的宽度为5～6um，所述第一子挡墙与所述第二子挡墙之间的距离为5～8um。6.一种制备如权利要求1所述的彩膜基板的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：步骤S201：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上涂布一层第一光阻，控制所述第一光阻的表面能及亲疏液性，使所述第一光阻与彩色色阻的接触角在60°～90°之间，再经过真空干燥和预烘烤制程去除所述第一光阻中10％至90％的溶剂；步骤S202：利用曝光显影制程对所述第一光阻进行图案化处理形成第一子挡墙，所述第一子挡墙的宽度为4...

【专利技术属性】
技术研发人员：饶夙缔，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44