脱模膜制造技术

本发明专利技术提供一种脱模膜，在作为粘接剂用的脱模膜、或用作偏光板用的粘接层的保护膜时，例如，脱模性不会因对粘接层进行加工时所使用的溶剂而变差，适合在各种用途中利用。该脱模膜在聚酯膜的至少单面具有包含硅酮化合物和双子型表面活性剂的涂布层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】脱模膜
本专利技术涉及脱模膜，涉及例如适合于粘接剂用脱模膜、偏光板用粘接层的保护膜、陶瓷电容器制造工序用脱模膜等的脱模膜。
技术介绍
在现有技术中，以聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯为代表的聚酯膜，具有机械强度、尺寸稳定性、平坦性、耐热性、耐药品性、光学特性等优异的特性，并且性价比优异，因而能够在各种用途中使用。作为使用聚酯膜的用途例之一，可以列举粘接剂用脱模膜、偏光板用粘接层的保护膜、陶瓷电容器制造工序用脱模膜。例如，在粘接制品中使用聚酯膜的情况下，将粘接剂溶解、分散在各种溶剂中，以该状态涂覆到脱模膜上，通过加热进行溶剂除去和交联，由此形成粘接层。之后，将脱模膜剥离，由此发挥其粘接性能。在这些用途中使用聚酯膜的情况下，需要对于粘接剂等的脱模性。因此，提出了多种设有由以聚二甲基硅氧烷为代表的硅酮组合物等构成的脱模层的方案(例如专利文献1)。但是，在利用这些方法时，用于形成脱模层的涂布剂的溶剂大多使用有机溶剂，存在涂覆或干燥时的有机溶剂处理设备大规模化的问题。并且，还存在需要顾及对于操作环境方面或有机溶剂爆发火灾等安全方面的问题。还提出了不使用有机溶剂的无溶剂型的方法(专利文献2)，但在利用该方法时，涂布液的粘度增高，存在难以得到均匀的涂膜的问题。从这样的观点出发，还提出了利用水系的硅酮乳剂的涂布方法(专利文献3)。但是，此时乳剂的稳定性差，因而难以形成稳定的均匀的涂膜，引发耐溶剂性等变差的问题。在用于粘接制品时，由于涂布层接触溶剂，因而涂布层的耐溶剂性至关重要。因此，需要具有耐溶剂性优异的涂布层的脱模膜。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2006－7689号公报专利文献2：日本特开2003－192987号公报专利文献3：日本特开平8－118573号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术问题本专利技术是鉴于上述实际情况而完成的，其要解决的技术问题在于提供一种适合于粘接剂用脱模膜、偏光板用粘接层的保护膜、陶瓷电容器制造工序用脱模膜等、并且耐溶剂性也优异的脱模膜。用于解决技术问题的手段鉴于上述实际情况，本专利技术的专利技术人进行了深入研究，结果发现在使用由特定的结构形成的脱模膜时，能够容易地解决上述技术问题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术的要点在于一种叠层的脱模膜，其特征在于，在聚酯膜的至少单面具有包含硅酮化合物和双子型表面活性剂(Geminisurfactant)的涂布层。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种脱模膜，该脱模膜在作为粘接剂用脱模膜或偏光板用粘接层的保护膜使用时，因粘接层加工时的溶剂而引起的脱模性的恶化少，其工业上的价值高。具体实施方式构成本专利技术的脱模膜的聚酯膜可以为单层结构，也可以为多层结构，除了可以为2层、3层结构以外，只要不超出本专利技术的要点，也可以为4层或4层以上的多层，但并没有特别限定。聚酯为均聚聚酯或共聚聚酯皆可。在由均聚聚酯构成的情况下，优选芳香族二元酸与脂肪族二元醇缩聚而得到的聚酯。作为芳香族二元酸，可以列举对苯二甲酸、2,6－萘二甲酸等，作为脂肪族二元醇，可以列举乙二醇、二乙二醇、1,4－环己烷二甲醇等。作为代表性的聚酯，可以例示聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另一方面，作为共聚聚酯的二元酸成分，可以列举间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2,6－萘二甲酸、己二酸、癸二酸、羟基羧酸(例如对羟基苯甲酸等)等的一种或两种以上。作为二元醇成分，可以列举乙二醇、二乙二醇、丙二醇、丁二醇、4－环己烷二甲醇、新戊二醇等的一种或两种以上。作为聚酯的聚合催化剂，没有特别限制，能够使用现有公知的化合物，例如可以列举锑化合物、钛化合物、锗化合物、锰化合物、铝化合物、镁化合物、钙化合物等。在聚酯膜中，以赋予易滑性和防止在各工序中损伤为主要目的，优选配合颗粒。在不存在颗粒的情况、或者在颗粒少的情况下，膜的透明性增高，虽然会得到良好的膜，但是有时滑动性变得不充分，因而存在膜容易受伤的倾向。在配合颗粒的情况下，关于所配合的颗粒的种类，只要是能够赋予易滑性的颗粒即可，没有特别限定，作为具体例，例如可以列举二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭土、氧化铝、氧化钛等无机颗粒、丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、尿素树脂、酚醛树脂、环氧树脂、苯并胍胺树脂等的有机颗粒等。另外，还可以使用在聚酯制造工序中使催化剂等的金属化合物的一部分沉淀、微分散而形成的析出颗粒。在聚酯膜中含有颗粒的情况下，从确保透明性、而不使滑动性下降的观点出发，优选3层以上的结构，进一步考虑到制造的容易性，更优选3层结构，最优选最表面的层含有颗粒的结构。另一方面，所使用的颗粒的形状也没有特别限定，可以使用球状、块状、棒状、扁平状等的任意形状。并且，其硬度、比重、颜色等也没有特别限制。这一系列的颗粒可以根据需要并用2种以上。另外，所使用的颗粒的平均粒径通常为5μm以下，优选为0.1～3μm的范围。在平均粒径超过5μm的情况下，膜的表面粗糙度变得过粗，有时对转印的成型面的表面形状造成影响。进一步而言，聚酯膜中的颗粒含量通常为5重量％以下，优选为0.0003～3重量％的范围。在添加的颗粒含量超过5重量％的情况下，膜的透明性有时变得不充分。作为在聚酯膜中添加颗粒的方法，没有特别限定，可以采用现有公知的方法。例如，可以在制造构成各层的聚酯的任意阶段添加，但优选在酯化或酯交换反应结束后添加。另外，在聚酯膜中，除了上述颗粒以外，可以根据需要添加现有公知的抗氧化剂、防静电剂、热稳定剂、润滑剂、染料、颜料等。关于聚酯膜的厚度，只要是能够制成膜的范围即可，没有特别限定，但从机械强度、操作性和生产性等观点出发，通常为5～300μm、优选为10～100μm的范围，在作为粘接剂用脱模膜或偏光板用粘接层的保护膜使用时，更优选为12～50μm。作为聚酯膜的制造方法，可以采用通常已知的制造方法，没有特别限制。例如，在制造双轴拉伸聚酯膜的情况下，首先使用挤出机将之前说明的聚酯原料从模头熔融挤出，利用冷却辊将熔融片冷却固化，得到未拉伸片。在该情况下，为了提高片材的平面性，优选提高片材与旋转冷却鼓的密合性，优选采用静电施加密合法或液体涂布密合法。可以列举如下方法：接着利用辊或拉幅机方式的拉伸机对所得到的未拉伸片向单方向拉伸。拉伸温度通常为70～120℃、优选为80～110℃，延伸倍率通常为2.5～7倍、优选为3.0～6倍。接着，在与第一段拉伸的方向正交的方向上，通常以70～170℃、延伸倍率通常2.5～7倍、优选3.0～6倍进行拉伸。接着，以180～270℃的温度，在紧张下或30％以内的松弛下进行热处理，得到双轴取向膜。在上述的拉伸中，还可以采用以2段以上进行单方向的拉伸的方法。此时，优选以最终二方向的拉伸倍率分别达到上述范围的方式进行。并且，还可以采用同时双轴拉伸法。同时双轴拉伸法中，将上述的未拉伸片通常温度控制在70～120℃、优选80～110℃，在该状态下使其在机械方向和宽度方向同时拉伸取向，作为拉伸倍率，以面积倍率计，通常为4～50倍、优选为7～35倍、更优选为10～25倍。然后，接着以170～270℃的温度，在紧张下或30％以内的松弛下进行热处理，得到拉伸取向膜。关于采用上述的拉伸方式的同时双轴拉伸装置，可以采用螺杆方式、缩放方式、线型驱动方式等现有公知的拉伸方式。接着本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种脱模膜，其特征在于：在聚酯膜的至少单面具有包含硅酮化合物和双子型表面活性剂的涂布层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.18 JP 2015-1435191.一种脱模膜，其特征在于：在聚酯膜的至少单面具有包含硅酮化合物和双子型表面活性剂的涂布层。2....

【专利技术属性】
技术研发人员：舟津良亮，川崎泰史，
申请(专利权)人：三菱化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP