The implementation scheme of the thin film is disclosed, which includes at least 50mol% propylene, MWD (Mw/Mn) greater than 5, branching index (G ') at least 0.95, and polypropylene resin that is at least 190 20cN at a temperature measured at 190 degrees. A method of making thin films is also disclosed.
【技术实现步骤摘要】
含宽分子量分布聚丙烯树脂的制品专利
本申请是中国专利申请201380056593.7的分案申请。聚丙烯树脂和由其制造的制品。
技术介绍
聚丙烯典型地不适合于在生产各种薄膜中使用。通过典型的齐格勒-纳塔聚合形成的丙烯均聚物的物理性能高度取决于聚合物本身的立构规整度。立构规整度高的聚合物通常是结晶的,提供所需的高弯曲模量,且采用合适地选择的给电子体形成。这些高度结晶的聚合物还显示出高熔点,但固有地显示出低的熔体流动速率(MFR),这使得它们通常不适合于要求高的加工速率的应用,例如注塑,取向薄膜和热粘纤维中。进一步地,由高度结晶的聚丙烯形成的常规的聚丙烯均聚物和共聚物产品缺少用于许多用途的充足的抗冲击性。聚丙烯薄膜还遭受胶凝问题,从而使得他们不适合于许多薄膜应用。由基于邻苯二甲酸酯或其他含芳烃的内给电子体体系,和硅烷或二醚类外给电子体的常规齐格勒-纳塔催化剂制造的聚丙烯均聚物或抗冲共聚物树脂导致范围为3-4.5的分子量分布(MWD),和正因为如此,它们具有非常低的熔体强度且在熔体中在伸长拉伸下没有证据表明应变硬化。分子量分布范围为3-4.5的树脂因熔体强度差,导致不适合 ...
【技术保护点】
一种包括聚丙烯树脂的薄膜,其中该聚丙烯树脂包括至少50mol%丙烯,分子量分布大于5,和支化指数为至少0.95;其中该薄膜是挤出吹塑薄膜,流延薄膜,或其组合;以及其中在丙烯聚合条件下,通过接触丙烯单体与催化剂体系生产该聚丙烯树脂,所述催化剂体系包括含非芳族内给电子体的齐格勒‑纳塔催化剂,以及含不同有机基硅化合物的第一和第二外给电子体。
【技术特征摘要】
2013.01.23 EP 13152301.1;2012.10.31 US 61/720,6221.一种包括聚丙烯树脂的薄膜,其中该聚丙烯树脂包括至少50mol%丙烯,分子量分布大于5,和支化指数为至少0.95;其中该薄膜是挤出吹塑薄膜,流延薄膜,或其组合;以及其中在丙烯聚合条件下,通过接触丙烯单体与催化剂体系生产该聚丙烯树脂,所述催化剂体系包括含非芳族内给电子体的齐格勒-纳塔催化剂,以及含不同有机基硅化合物的第一和第二外给电子体。2.权利要求1的薄膜,其中该聚丙烯树脂的分子量分布为6-15和根据ASTMD1238条件L测定的熔体流动速率为0.1-100。3.权利要求1或2的薄膜,其中熔体强度大于20cN,其使用拉伸流变仪在190℃下测定。4.权利要求1或2的薄膜,其中该聚丙烯树脂的粘度比为35-80,这在0.01-100rad/s的角频率下、在10%的固定应变下、以及在190℃下,由复数粘度比测定。5.权利要求1或2的薄膜,其中该聚丙烯树脂的热扭曲温度大于或等于100℃,这根据ASTMD648,使用0.45MPa的负载测定。6.权利要求1或2的薄膜,其中该聚丙烯树脂的劲度为2000MPa-2500MPa,这根据ASTMD790A、在用0.1%苯甲酸钠成核的样品上测定。7.权利要求1或2的薄膜,其特征在于含有尺寸大于或等于...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·M·阿布巴卡,P·枚卡,S·B·奥尔森,
申请(专利权)人:埃克森美孚化学专利公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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