【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用下式的基团保护的氢氧化物或胺的去保护方法: ArC↑[*](R)H-(CH↓[2])↓[n]-O-C(=O)- 其中R是H或独立地与Ar相同,并且n为0或1-4,Ar是指芳环或杂芳环,其具有5-6个环原子和一个或两个选自O、N或S中的杂原子,Ar可被氨基、烷酰氧基、烷氧基、烷基、烷氨基、烯丙基、羧基、环烷基、卤素、卤代烷基、羟基、羟烷基或硝基取代,或被最多一个下述基团取代:(i)Ar*,其独立地与Ar相同,所不同的是它不被另外的芳基取代,(ii)Ar*-烷基-或(iii)Ar*O-,与C*相邻的Ar环原子可被-CH↓[2]-,-O-,-NH-,-S(O)↓ ...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:R帕特尔,D布尔佐佐夫斯基,VB南杜里,
申请(专利权)人:布里斯托尔迈尔斯斯奎布公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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