一种显示器的基板的制造方法及光罩技术

本发明专利技术公开了一种显示器的基板的制造方法，所述方法包括：提供一基板本体；在所述基板本体上涂覆光阻层；利用曝光机多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。本发明专利技术还公开了相应的光罩。实施本发明专利技术，可以对光线重叠区的曝光图案进行补值，从而获得更加准确的曝光图案，能够提高产品良率。

A manufacturing method and a mask for a display substrate

The invention discloses a method for manufacturing a display substrate, the method includes providing a substrate body; coating a photoresist layer on the substrate through the mask body; the photoresist layer is exposed by the exposure machine of a plurality of lens, the mask includes light and direct sunlight and light overlap zone area, including transparent area and non transparent area in the light of the overlapping area, including transparent area and non transparent area in direct light region of the mask; among them, the light overlap of each light area area is greater than or less than the direct light shoot area of each light area area; developing the photoresist layer after exposure, in order to obtain a photoresist pattern. The present invention also discloses a corresponding light mask. The invention can make up the exposure pattern of the light overlapping area, so as to obtain more accurate exposure pattern and improve the product yield.

【技术实现步骤摘要】
一种显示器的基板的制造方法及光罩
本专利技术涉及显示领域，特别涉及一种显示器的基板的制造方法及相应基板的光罩。
技术介绍
在薄膜晶体管-液晶显示器（ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay,TFT-LCD）生成过程中，特别是在阵列（Array）基板或彩膜（CF）基板的制程中，需要多次使用光刻工艺。在光刻工艺中，利用具有设计图案的光罩（Mask）和曝光机的紫外光对涂有光阻的基板进行曝光，可以将光罩上的图案投影到基板的光阻上，然后通过显影在玻璃基板上复制光罩的图案。在TFT-LCD的生成过程中，需要反复几次进行光刻才能完成薄膜晶体管阵列基板和彩膜基板的制作。而在实际生产过程中，很多曝光机具有多组镜头（lens），例如现有的一种Nikon曝光机中具有6组镜头组成的光路系统，在实际照射中会存在多组镜头的紫外光照射到光罩中同一区域的情形，即不同镜头的光线照射在光罩的一个光线重叠区（overlap）上，由于不同镜头光线之间的重叠很难调整到最佳的对准位置，且在光线重叠区域的光照强度同镜头中心区域的光照强度存在差异性，极易造成透过该光线重叠区获得的光阻图案与实际本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示器的基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基板本体；在所述基板本体上涂覆光阻层；利用曝光机的多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。

【技术特征摘要】
1.一种显示器的基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：提供一基板本体；在所述基板本体上涂覆光阻层；利用曝光机的多个镜头透过光罩对所述光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括光线直射区以及光线重叠区，在所述光线重叠区中包括透光区以及非透光区，在所述光罩的光线直射区中包括透光区以及非透光区；其中，所述光线重叠区的每一透光区的面积均大于或小于所述光线直射区的每一透光区的面积；对曝光后的所述光阻层进行显影，以获得光阻图案。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板为阵列基板或彩膜基板。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用负性光阻时，所述光线重叠区的每一透光区的面积大于所述光线直射区的每一透光区的面积。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，当所述基板本体上涂覆的光阻层采用正性光阻时，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨昆，王幸，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42