一种遮光层、彩色滤光片及显示面板制造技术

本发明专利技术公开了一种遮光层、彩色滤光片及显示面板。多个拼接的镜头的曝光机通过该遮光层进行曝光，该曝光机包括交替设置的第一区域和第二区域，第二区域对应于多个镜头的拼接处，在该曝光机进行曝光时，该曝光机所产生的光通过第一区域的光强度和通过第二区域的光强度相等。通过这种方式，能够在提高彩色滤光片及显示面板的透光率的同时，改善其显示效果。

【技术实现步骤摘要】
一种遮光层、彩色滤光片及显示面板
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种遮光层、彩色滤光片及显示面板。
技术介绍
在现有的显示屏技术中，为提高背光的透过率，节省电能，通常采用减小彩色滤光片的黑色矩阵层的尺寸，增大开口率来实现。传统的彩膜曝光设备无法有效的减少被曝光图形的尺寸，因此，越来越多的厂家引入了可实现更加细线化的设备，如尼康曝光机，尼康曝光机利用多镜头拼接的方式实现对图形的曝光，曝光后的图形宽度可达几微米的精度。本专利技术的专利技术人在长期的研发中发现，在目前现有技术中，该光学镜头拼接曝光在镜头拼接处会因曝光能量损耗等因素，造成曝光后的镜头拼接处的图形尺寸与非镜头拼接处的图形尺寸存在差异，从而影响彩色滤光片及整个显示面板的显示效果。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种遮光层、彩色滤光片及显示面板，以在提高彩色滤光片及显示面板的透光率的同时，改善其显示效果。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种遮光层，曝光机通过所述遮光层进行曝光，所述曝光机包括多个拼接的镜头。所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮光层，曝光机通过所述遮光层进行曝光，所述曝光机包括多个拼接的镜头，其特征在于，所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接处，在所述曝光机进行曝光时，所述曝光机所产生的光通过所述第一区域的光强度和通过所述第二区域的光强度相等。

【技术特征摘要】
1.一种遮光层，曝光机通过所述遮光层进行曝光，所述曝光机包括多个拼接的镜头，其特征在于，所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接处，在所述曝光机进行曝光时，所述曝光机所产生的光通过所述第一区域的光强度和通过所述第二区域的光强度相等。2.根据权利要求1所述的遮光层，其特征在于，所述遮光层进一步包括掩膜板，所述曝光机所产生的光通过位于所述第一区域的掩膜板的光强度大于通过位于所述第二区域的掩膜板的光强度。3.根据权利要求2所述的遮光层，其特征在于，所述遮光层进一步包括半透膜，设置在所述掩膜板上，所述半透膜位于所述第一区域的透光率小于所述半透膜位于所述第二区域的透光率。4.根据权利要求2所述的遮光层，其特征在于，所述遮光层进一步包括半色调膜，所述半色调膜位于所述第一区域的平均透光率小于所述半色调膜位于所述第二区域的平均透光率。5.根据权利要求4所述的遮光层，其特征在于，所述半色调膜包括多个透光区及多个遮光区，多个所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐道矜，翁国光，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42