掩膜制造技术

本发明专利技术公开一种掩膜，包含第一岛状物以及第二岛状物。第二岛状物连接第一岛状物。第二岛状物与第一岛状物在行列方向上都交错排列。每两个邻近的第一岛状物与对应的两个第二岛状物之间夹有通孔。第一岛状物的顶面面积大于第二岛状物的顶面面积。

Mask

The invention discloses a mask, which comprises a first island and second islands. The second islands connect the first island. The second islands are interlaced with the first island in the direction of row and row. There is a through hole between two adjacent first island objects and the corresponding two second islands. The top area of the first island is larger than the top area of the second island.

【技术实现步骤摘要】
掩膜
本专利技术是有关于一种掩膜，且特别是有关于一种精细金属掩膜(FineMetalMask)。
技术介绍
随着科技的进步，显示设备例如是有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器或液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)的屏幕尺寸也越做越大。为了制作这些大尺寸的显示器，在形成图案化的导线或像素时，必须使用大面积的掩膜，图1是一种现有的的掩膜10的上视示意图，掩膜10具有多个通孔OP1。然而，使用大面积的掩膜时，当撑开掩膜的时后，掩膜的中间容易受到重力而下垂，使掩膜的中间变形，导致借由掩膜所形成的像素图案也跟着变形，影响显示设备的质量。因此，目前亟需一种能解决前述问题的掩膜。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜，在撑开时不会有明显的变形。本专利技术的一种掩膜包含多个第一岛状物以及多个第二岛状物。多个第二岛状物连接多个第一岛状物且与多个第一岛状物在行列方向上皆交错排列。每两个邻近的第一岛状物与对应的两个第二岛状物之间夹有通孔。第一岛状物的顶面面积大于第二岛状物的顶面面积。其中，该些第一岛状物以及该些第二岛状物沿着一第一方向以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜，其特征在于，包含：多个第一岛状物；以及多个第二岛状物，连接该多个第一岛状物且与该多个第一岛状物在行列方向上都交错排列，每两个邻近的该第一岛状物与对应的两个该第二岛状物之间夹有一通孔，其中该些第一岛状物的顶面面积大于该些第二岛状物的顶面面积。

【技术特征摘要】
2017.05.09 TW 1061152511.一种掩膜，其特征在于，包含：多个第一岛状物；以及多个第二岛状物，连接该多个第一岛状物且与该多个第一岛状物在行列方向上都交错排列，每两个邻近的该第一岛状物与对应的两个该第二岛状物之间夹有一通孔，其中该些第一岛状物的顶面面积大于该些第二岛状物的顶面面积。2.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该些第一岛状物以及该些第二岛状物沿着一第一方向以及一第二方向交错排列，该第一方向与该第二方向之间的夹角大于0度且小于等于90度。3.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，每一该第一岛状物的侧壁具有一第一坡度，且每一该第二岛状物的侧壁具有一第二坡度，该第一坡度大于该第二坡度。4.根据权利要求3...

【专利技术属性】
技术研发人员：江南辉，陈瑞祥，赖俊志，邓博文，陈信宏，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71