正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法及2,4‑二氯苯氧基乙酸盐的负载方法技术

本发明专利技术公开正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法及2,4‑二氯苯氧基乙酸盐的负载方法，包括如下步骤(1‑1)将十六烷基三甲基溴化铵溶于水中，搅拌，加入氢氧化钠溶液，加热；(1‑2)向步骤(1‑1)得到的溶液中加入正硅酸乙酯，搅拌；(1‑3)将步骤(1‑2)中得到的混合溶液离心，将离心后得到的固体干燥；(1‑4)将步骤(1‑3)中得到的白色固体物煅烧，得到介孔二氧化硅材料；(1‑5)将步骤(1‑4)中得到的介孔二氧化硅分散于有机溶剂中，并向有机溶剂中加入有机盐，加热回流，离心后将所得固体干燥即得正电荷修饰介孔二氧化硅。本发明专利技术通过MSN表面季铵盐化，进行正电荷修饰，通过静电作用调控2,4‑D钠盐的负载和释放，同时降低土壤的淋溶，释放具有明显的环境因子(pH、温度和离子强度)敏感性。

Load method for preparing positive charge modified mesoporous silica and 2,4 two chlorophenoxyacetic acid salt

【技术实现步骤摘要】
正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法及2,4-二氯苯氧基乙酸盐的负载方法
本专利技术涉及农药负载及应用。更具体地，涉及一种正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法及2,4-二氯苯氧基乙酸盐的负载方法。
技术介绍
2,4-二氯苯氧基乙酸(2,4-D)是一种苯氧羧类除草剂，主要用于控制阔叶类杂草的生长，在世界范围内广泛使用。由于2,4-D良好的水溶性，容易在土壤中迁移和渗透，从而导致地下水和地表水污染。根据有害生物发生规律、危害特点及环境条件，合理设计和调节活性成分释放速率的农药控制释放技术，是目前提高2,4-D有效利用率，降低环境污染最为有效的途径之一，其中载体材料的性能是关键。介孔二氧化硅(MSN)具有高度有序且连续可调控的介孔结构，大的比表面积，表面官能团易于修饰，优良的生物相容性等一系列的优点，引起了人们的广泛关注。现有技术中MSN与药物分子之间主要通过氢键和疏水作用进行负载和释放性能调控，但使用介孔二氧化硅负载2,4-二氯苯氧基乙酸依旧存在着2,4-二氯苯氧基乙酸的利用率不够高、环境污染相对较大的缺点。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种能够提高2,4-二氯苯氧基乙酸的利用率且有效本文档来自技高网...

【技术保护点】
正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1‑1)将十六烷基三甲基溴化铵溶于水中，搅拌，加入氢氧化钠溶液，加热；(1‑2)向步骤(1‑1)得到的溶液中加入正硅酸乙酯，搅拌；(1‑3)将步骤(1‑2)中得到的混合溶液离心，将离心后得到的固体干燥；(1‑4)将步骤(1‑3)中得到的白色固体物煅烧，得到介孔二氧化硅材料；(1‑5)将步骤(1‑4)中得到的介孔二氧化硅分散于有机溶剂中，并向有机溶剂中加入有机盐，加热回流，离心后将所得固体干燥即得正电荷修饰介孔二氧化硅。

【技术特征摘要】
1.正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1-1)将十六烷基三甲基溴化铵溶于水中，搅拌，加入氢氧化钠溶液，加热；(1-2)向步骤(1-1)得到的溶液中加入正硅酸乙酯，搅拌；(1-3)将步骤(1-2)中得到的混合溶液离心，将离心后得到的固体干燥；(1-4)将步骤(1-3)中得到的白色固体物煅烧，得到介孔二氧化硅材料；(1-5)将步骤(1-4)中得到的介孔二氧化硅分散于有机溶剂中，并向有机溶剂中加入有机盐，加热回流，离心后将所得固体干燥即得正电荷修饰介孔二氧化硅。2.根据权利要求1所述的正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法，其特征在于，在步骤(1-1)中：将十六烷基三甲基溴化铵溶于水时，十六烷基三甲基溴化铵与水的质量体积比为3.0:2000g/mL；氢氧化钠溶液的浓度为2mol/L，十六烷基三甲基溴化铵与氢氧化钠溶液质量体积比为3：10.5g/mL；将混合液加热至80℃。3.根据权利要求1所述的正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法，其特征在于，在步骤(1-2)中：正硅酸乙酯的加入量与氢氧化钠溶液的加入量体积之比为3:2，在80℃条件下搅拌6h。4.根据权利要求1所述的正电荷修饰介孔二氧化硅的制备方法，其特征在于，在步...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹立冬，黄啟良，李凤敏，曹冲，
申请(专利权)人：中国农业科学院植物保护研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11