金属氧化膜的成膜方法技术

本发明专利技术的目的在于提供一种提高生产效率且得到高品质的金属氧化膜的金属氧化膜的成膜方法。并且，本发明专利技术的成膜方法实施以下的处理。在溶液容器(15)内，使含有金属元素即铝的原料溶液(14)雾化而得到原料溶液雾(M1)。在独立于溶液容器(15)的溶液容器(25)内，使反应辅助溶液(24)雾化而得到助剂雾(M2)。经由相互独立的路径L1和L2将得到的原料溶液雾(M1)和助剂雾(M2)供给到混合容器(8)中后，在混合容器(8)内，将原料溶液雾(M1)和助剂雾(M2)混合而得到混合雾(M3)。并且，在与混合容器(8)独立地设置的反应容器(11)内，向在大气压下处于加热状态的P型硅基板(4)的背面上供给混合雾(M3)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】金属氧化膜的成膜方法
本专利技术涉及一种使用雾法在基板上使金属氧化膜进行成膜的金属氧化膜的成膜方法。
技术介绍
在太阳能电池、FPD(FlatPanelDisplay，平板显示器)、LED(LightEmittingDiode，发光二极管)等发光装置或触控面板等领域中，在基板上形成有金属氧化膜。以往，作为使用非真空成膜技术使金属氧化膜在基板上进行成膜的方法，有喷涂法、溶胶凝胶法、雾CVD(ChemicalVaporDeposition，化学气相沉积)法等大气开放溶液体系的金属氧化膜的成膜方法。这些成膜方法在使作为目标的金属氧化膜进行成膜时，其原料溶液为一种。可以预先调配原料溶液，但在金属氧化膜的成膜时，利用调配的一种原料溶液。这样，使用以往的非真空成膜技术的金属氧化膜的成膜方法由于在成膜时利用调配的一种原料溶液，因此为了通过原料溶液使金属氧化膜进行成膜所需要的反应能量是唯一地确定的。作为使通过原料溶液将金属氧化膜成膜时的反应能量降低、促进金属氧化膜的成膜速度的方法，以往有以下2种方法。首先，作为直接进行的第1方法，可考虑通过预先在原料溶液中混合反应助剂使上述反应能量降低的方法。作为第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属氧化膜的成膜方法，其特征在于，具备以下步骤：(a)在第1容器(15)内，使含有金属元素的原料溶液(14)雾化而得到原料溶液雾(M1)的步骤；(b)在独立于所述第1容器的第2容器(25)内，使含有所述金属元素用的反应助剂的反应辅助溶液(24)雾化而得到助剂雾(M2)的步骤；(c)在经由相互独立的第1和第2路径(L1，L2)接受所述原料溶液雾和所述助剂雾的混合容器(8)内，将所述原料溶液雾和所述助剂雾混合而得到混合雾(M3)的步骤；以及，(d)将所述步骤(c)中得到的所述混合雾供给到反应容器内的基板的一个主面上，并将所述基板(4)加热，在所述基板的一个主面上使含有所述金属元素的金属氧化膜成...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种金属氧化膜的成膜方法，其特征在于，具备以下步骤：(a)在第1容器(15)内，使含有金属元素的原料溶液(14)雾化而得到原料溶液雾(M1)的步骤；(b)在独立于所述第1容器的第2容器(25)内，使含有所述金属元素用的反应助剂的反应辅助溶液(24)雾化而得到助剂雾(M2)的步骤；(c)在经由相互独立的第1和第2路径(L1，L2)接受所述原料溶液雾和所述助剂雾的混合容器(8)内，将所述原料溶液雾和所述助剂雾混合而得到混合雾(M3)的步骤；以及，(d)将所述步骤(c)中得到的所述混合雾供给到反应容器内的基板的一个主面上，并将所述基板(4)加热，在所述基板的一个主面上使含有所述金属元素的金属氧化膜成膜的步骤。2.根据权利要求1所述的金属氧化物的成膜方法，其中，所述混合容器包含：容器本体(80)；第1和第2雾供给部(81，82)，其与所述第1和第2路径连接，将所述原料溶液雾和所述助剂雾供给到所述容器本体内；以及，雾取出部(83)，其具有设置于所述容器本体的内部的混合雾输入口(83I)和设置于所述容器本体的外部的混合雾输...

【专利技术属性】
技术研发人员：平松孝浩，织田容征，川原村敏幸，藤田静雄，内田贵之，
申请(专利权)人：东芝三菱电机产业系统株式会社，高知县公立大学法人，国立大学法人京都大学，
类型：发明
国别省市：日本,JP