【技术实现步骤摘要】
一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法
本专利技术涉及PCB板
,特指一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法。
技术介绍
现有技术中,PCB板由于其生产过程较为繁琐,所需化学反应工序较多,因此目前只能保证板面上的铜厚度一致,若不一致,则为蚀刻过程中失败所致。然而,目前市场上却有局部铜厚度的需求,需要以特定的方式实现局部铜厚增加或减少,增加PCB板的功能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于针对已有的技术现状,提供一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法,实现成品同层面导线或焊盘铜厚度不同。为达到上述目的,本专利技术采用如下技术方案:本专利技术为一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法,包括以下步骤:(1)将PCB板进行开料、内层、合压、钻孔、沉铜;(2)一次铜、印湿油、曝光、碱蚀;(3)局部退膜处理、酸蚀;(4)内层蚀刻后进行AOI、阻焊、表面处理后成型;其中,碱蚀完成C/S面2oz,酸蚀完成局部线路6oz,S/S面完成6oz。上述方案中,局部退膜处理可先用电吹风吹热带处理的图形,再用附有NaOH溶液的毛巾擦去即可。进一步的,步骤(3)中酸蚀时采用双氧水、盐酸以2: ...
【技术保护点】
一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将PCB板进行开料、内层、合压、钻孔、沉铜;(2)一次铜、印湿油、曝光、碱蚀;(3)局部退膜处理、酸蚀;(4)内层蚀刻后进行AOI、阻焊、表面处理后成型;其中,碱蚀完成C/S面2oz,酸蚀完成局部线路6oz,S/S面完成6oz。
【技术特征摘要】
1.一种同层面非均一铜厚PCB板的制造方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将PCB板进行开料、内层、合压、钻孔、沉铜;(2)一次铜、印湿油、曝光、碱蚀;(3)局部退膜处理、酸蚀;(4)内层蚀刻后进行AOI、阻焊、表面处理后成型;其中,碱蚀完成C/S面2oz,酸蚀完成局部线路6oz,S/S面完成6oz。2.根据权利要求1所述的一种同层面非均一铜厚PCB板的制...
【专利技术属性】
技术研发人员:余同德,江庆华,余梓元,吴文跃,郑宏波,
申请(专利权)人:汕头凯星印制板有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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