The invention relates to a preparation method of a quasi single crystal cell, comprising the following steps: quasi monocrystalline silicon wafer in the first mixture first preset temperature dipped in the first preset time, wherein the first mixed solution including hydrofluoric acid and hydrogen peroxide; adding second mixture to the first mixture to obtain neutral mixture, and quasi monocrystalline silicon in the neutral mixed liquid cleaning second preset time, second of them including the mixture of potassium hydroxide and ammonium hydroxide; pickling mixture third preset time third quasi monocrystalline silicon wafer after pre cleaning in second preset temperature; the quasi monocrystalline silicon wafer after etching followed by chemical reaction and physical etching ion bombardment processing; quasi silicon dry black silicon treated by boron diffusion, phosphorus diffusion, coating and printing electrode is obtained after the treatment of quasi single crystal cell. The quasi single crystal cell prepared by the invention has better effect of suede subsidence and higher conversion efficiency of the battery, and the quality of the battery is improved.
【技术实现步骤摘要】
一种准单晶电池的制备方法
本专利技术涉及太阳能电池制备
,特别涉及一种准单晶电池的制备方法。
技术介绍
近年来,随着燃料资源的逐步紧缺,太阳能电池作为一种新的能量利用方式,由于其具有清洁且可再生等优点,已经逐步得到了越来越广泛的应用研究。在太阳能电池的制备过程中,N型准单晶硅片也是一种较为常见的硅片原料。N型准单晶指的是一种在单晶籽晶基础上通过定向凝固方式生长出的一种新型晶体结构,其品质介于单晶与多晶之间。具体的,N型准单晶硅片掺杂元素为磷,其生产出的太阳能电池具有低光衰、高少子寿命、高转换效率以及高发电量等多项优势。与此同时,通过铸锭方式生产出来的N型准单晶,其硅片面积(24571mm2)相较于圆角N型单晶(以直径为210mm,面积24431mm2为例)的面积而言要高出0.56%,若折算成太阳能效率,则对应提升大约0.12%,因此N型准单晶将具有较大的市场开发潜力。然而,现有的太阳能电池的制备过程中,由于对准单晶硅片采用传统的碱制绒技术,硅片表面会产生较多的亮斑,产生的亮斑会将太阳光更多地反射出去从而降低了太阳能的转换效率。
技术实现思路
基于此,本专利技术的目的在于提出一种能够在一定程度上提高准单晶电池的太阳能转换效率的准单晶电池的制备方法,以满足实际应用需求。本专利技术提出一种准单晶电池的制备方法,用于基于一准单晶硅片制备所述准单晶电池,其中,所述方法包括:湿法黑硅制绒:将所述准单晶硅片在第一预设温度的第一混合液中浸泡第一预设时间,其中所述第一混合液包括氢氟酸与双氧水;预清洗:向所述第一混合液中加入第二混合液以得到中性混合液,并将所述准单晶硅片在所 ...
【技术保护点】
一种准单晶电池的制备方法,用于基于一准单晶硅片制备所述准单晶电池,其特征在于,所述方法包括:湿法黑硅制绒:将所述准单晶硅片在第一预设温度的第一混合液中浸泡第一预设时间,其中所述第一混合液包括氢氟酸与双氧水;预清洗:向所述第一混合液中加入第二混合液以得到中性混合液,并将所述准单晶硅片在所述中性混合液中清洗第二预设时间,其中所述第二混合液包括氢氧化钾以及氢氧化铵;酸洗:将预清洗后的所述准单晶硅片在第二预设温度的第三混合液中酸洗第三预设时间,其中所述第三混合液包括氢氟酸以及盐酸;干法黑硅处理:将经酸洗后的所述准单晶硅片依次进行化学反应刻蚀以及物理离子轰击处理;准单晶电池制备:将干法黑硅处理后的所述准单晶硅片依次进行硼扩散、磷扩散、镀膜以及印刷电极处理后得到所述准单晶电池。
【技术特征摘要】
1.一种准单晶电池的制备方法,用于基于一准单晶硅片制备所述准单晶电池,其特征在于,所述方法包括:湿法黑硅制绒:将所述准单晶硅片在第一预设温度的第一混合液中浸泡第一预设时间,其中所述第一混合液包括氢氟酸与双氧水;预清洗:向所述第一混合液中加入第二混合液以得到中性混合液,并将所述准单晶硅片在所述中性混合液中清洗第二预设时间,其中所述第二混合液包括氢氧化钾以及氢氧化铵;酸洗:将预清洗后的所述准单晶硅片在第二预设温度的第三混合液中酸洗第三预设时间,其中所述第三混合液包括氢氟酸以及盐酸;干法黑硅处理:将经酸洗后的所述准单晶硅片依次进行化学反应刻蚀以及物理离子轰击处理;准单晶电池制备:将干法黑硅处理后的所述准单晶硅片依次进行硼扩散、磷扩散、镀膜以及印刷电极处理后得到所述准单晶电池。2.根据权利要求1所述的准单晶电池的制备方法,其特征在于,进行所述化学反应刻蚀的步骤包括:将酸洗后得到的所述准单晶硅片,在SF6的气体氛围中进行反应以得到SiF4气体;所述SiF4气体与所述准单晶硅片之间发生钝化反应得到第一钝化产物后,所述第一钝化产物沉积至所述准单晶硅片内。3.根据权利要求2所述的准单晶电池的制备方法,其特征在于,进行所述物理离子轰击处理的步骤包括:利用直流脉冲偏压作用下的高能离子,撞击所述准单晶硅片内的所述第一钝化产物以形成第一绒面。4.根据权利要求3所述的准单晶电池的制备方法,其特征在于,在所述将干法黑硅处理后的所述准单晶硅片进行硼扩散的...
【专利技术属性】
技术研发人员:王海涛,包健,廖晖,李林东,陈伟,金浩,
申请(专利权)人:晶科能源有限公司,浙江晶科能源有限公司,
类型:发明
国别省市:江西,36
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