非达霉素晶型I及其制备方法技术

本发明专利技术公开了非达霉素晶型I及其制备方法。该晶型的X射线粉末衍射光谱中在4.22°、7.60°、8.17°、9.51°、10.07°、11.07°、11.51°、12.85°、13.28°、15.47°、16.24°、18.55°、19.78°、20.15°、20.80°、21.47°2θ具有X-射线粉末衍射峰。本发明专利技术提供的晶型稳定，制备方法简单，可操作性强，适合工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
非达霉素晶型 I，其特征在于，所述晶型的X‑射线粉末衍射图中在4.22°、7.60°、8.17°、9.51°、10.07°、11.07°、11.51°、12.85°、13.28°、15.47°、16.24°、18.55°、19.78°、20.15°、20.80°、21. 47°2θ具有X‑射线粉末衍射峰。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：任风芝，张雪霞，段宝玲，陈书红，李晓露，佟杰，王海燕，李宁，李丽红，胡卫国，
申请(专利权)人：华北制药集团新药研究开发有限责任公司，
类型：发明
国别省市：河北;13