像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置。该像素界定层包括多个像素开口，并且所述像素开口包括长边部分和短边部分，所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。该像素界定层中具有较大坡度角的长边部分会对墨水的扩散产生较大的阻力，从而墨水更趋向于沿长边方向扩散，使得墨水在像素开口中的分布更加均匀。

A pixel definition layer and a preparation method, a display substrate, a preparation method and a display device

A pixel definition layer and a preparation method, a display substrate, a preparation method and a display device. The pixel definition layer includes a plurality of pixel openings, and the pixel opening comprises a long edge part and a short edge part, and the slope angle of the long side part is larger than the slope angle of the short edge part. The long part of the pixel defined layer with larger slope angle will cause greater resistance to the diffusion of the ink, so that the ink tends to diffuse along the long edge, making the ink distribution more evenly in the pixel opening.

【技术实现步骤摘要】
像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置
本公开的实施例涉及一种像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
有机发光显示装置具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，因此成为一种重要的显示技术。目前，有机发光显示装置的有机发光层可以采用喷墨打印的方式形成，而利用喷墨打印法形成有机发光层需要预先在衬底基板上制作像素界定层，以限定墨滴精确的喷入指定的像素区域内。通常，上述像素界定层具有多个开口，在喷墨打印的过程中，喷墨打印的墨水在该开口中的扩散可能不均匀，这将使得在开口的不同位置形成的有机发光层的形态不均匀，由此导致显示装置在发光时其像素区域的亮度不均匀，严重影响有机发光显示装置的显示效果。
技术实现思路
本公开至少一实施例提供一种像素界定层，该像素界定层包括多个像素开口；其中，所述像素开口包括长边部分和短边部分，并且所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述像素界定层采用具有疏液性质的材料制备。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述材料为负性光刻胶。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述像素界定层包括远离衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层；所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层中，所述像素开口呈矩形、平行四边形或梯形。本公开至少一实施例提供一种显示基板，该显示基板具有多个像素结构，并包括上述任一所述的像素界定层；其中，每个所述像素开口中有所述像素结构。本公开至少一实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。本公开至少一实施例提供一种像素界定层的制备方法，包括：在衬底基板上涂覆像素界定层材料；形成所述像素界定层的长边部分；形成所述像素界定层的短边部分；其中，所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，所述像素界定层材料为具有疏液性质的负性光刻胶，并通过曝光工艺和显影工艺形成所述长边部分和所述短边部分。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，通过两次曝光工艺分别对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，沿所述长边部分的曝光量小于沿所述短边部分的曝光量。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，利用灰色调掩模或半色调掩模通过一次曝光工艺同时对所述长边部分和所述短边部分进行曝光。例如，本公开至少一实施例提供的一种像素界定层的制备方法中，所述像素界定层包括：形成于远离所述衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近所述衬底基板一侧的第二像素界定层；其中，所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。本公开至少一实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：形成上述任一所述的像素界定层，以及在所述像素界定层的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。例如，本公开至少一实施例提供的一种显示基板的制备方法中，所述有机功能层为发光层、电子注入层、空穴注入层、电子传输层和空穴传输层中的一种或几种。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。图1为本公开一实施例提供的像素界定层的平面示意图一；图2为本公开一实施例提供的像素界定层的剖视图一；图3为本公开一实施例提供的像素界定层的剖视图二；图4为本公开一实施例提供的像素界定层的剖视图三；图5A-5D为本公开一实施例提供的像素界定层中开口形状的示意图；图6为本公开一实施例提供的显示基板的示意图；图7为本公开一实施例提供的像素界定层的制备流程图；图8A-8C为本公开一实施例提供的像素界定层在制备过程中的示意图；图9为本公开一实施例提供的一种掩膜板的示意图；图10A-10B为本公开一实施例提供的显示基板在制备过程中的示意图。附图标记：10-衬底基板；101-像素开口；1011-长边部分；1012-短边部分；102-像素界定层；1021-第一像素界定层；1022-第二像素界定层；103-有机功能层。具体实施方式为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。利用喷墨打印法形成有机发光显示装置的有机发光层需要预先在衬底基板上制作像素界定层，以限定墨滴精确的喷入指定的像素区域内。通常，像素界定层具有多个开口，并且该开口往往形成一定的形状，在喷墨打印的过程中，当喷墨打印的墨水滴在具有一定形状的开口中时，墨水会从开口中部向四周扩散，由于像素界定层的开口往往具有不规则的形状，因此墨水沿不同方向的扩散会受到不同的影响。例如，当像素界定层的开口呈矩形时，墨水从开口中部到达开口各个边界的路程不同，因此墨水沿不同方向的扩散往往会不均匀。本公开至少一实施例提供一种像素界定层，该像素界定层包括多个像素开口。每个像素开口包括长边部分和短边部分，并且长边部分的坡度角大于短边部分的坡度角。本公开至少一实施例提供的一种显示基板，该显示基板具有多个像素结构，并包括上述像素界定层。显示基板的每个像素开口中有像素结构。本公开至少一实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。本公开至少一实施例提供一种像素界定层的制备方法，包括：在衬底基板上涂覆像素界定层材料；形成像素界定层的长边部分；形成像素界定层的短边部分。长边部分的坡度角大于短边部分的坡度角。本公开至少一实施例提供一种显示基板的制备方法，包括：形成上述像素界定层，以及在所述像素界定层的开口内喷墨打印有机材料以形成有机功能层。下面通过几个具体的实施例对本公开的像素界定层及其制备方法、显示基板及其制备方法、显示装置进行说明。实施例一本实施例提供一种像素界定层，该像素界定层例如可用于有机发光二极管(OLED)显示面板，图1为本实施例提供的像素界定层的平面示意图，图2和图3分别为图1中像素界定层沿线A-A和线B-B方向的剖视图。如图1-图3所示，像素界定层102包括多个像素开口101；每个像素开口101包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种像素界定层，包括多个像素开口，其中，所述像素开口包括长边部分和短边部分，并且所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定层，包括多个像素开口，其中，所述像素开口包括长边部分和短边部分，并且所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。2.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素界定层采用具有疏液性质的材料制备。3.根据权利要求2所述的像素界定层，其中，所述材料为负性光刻胶。4.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素界定层包括远离衬底基板一侧的第一像素界定层和靠近衬底基板一侧的第二像素界定层；所述第一像素界定层采用具有疏液性质的材料制备，所述第二像素界定层采用具有亲液性质的材料制备。5.根据权利要求1所述的像素界定层，其中，所述像素开口呈矩形、平行四边形或梯形。6.一种显示基板，具有多个像素结构，包括权利要求1-5任一所述的像素界定层；其中，每个所述像素开口中有所述像素结构。7.一种显示装置，包括权利要求6所述的显示基板。8.一种像素界定层的制备方法，包括：在衬底基板上涂覆像素界定层材料；形成所述像素界定层的长边部分；形成所述像素界定层的短边部分；其中，所述长边部分的坡度角大于所述短边部分的坡度角。9.根据权利要求8所述的像素界定层的制备方法，其中，所述像素...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯文军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11