The invention provides a method for making a OLED display and a OLED display. A method of making the OLED display before making OLED light emitting layer, a plurality of pixel regions in TFT substrate in conductive materials were printed solution state and its drying to remove the solvent, resulting in the flat surface of the conductive layer, the pixel electrode conductive layer and TFT substrate as the anode structure, and then in the a plurality of pixel regions of TFT substrate respectively in the print solution state OLED luminescent material and its drying formed on the conductive layer OLED layer due to the conductive layer disposed on the conductive layer on the flat surface, by printing the prepared OLED light emitting layer with uniform thickness, uniform OLED display make the light, effective to enhance the display effect of OLED display.
【技术实现步骤摘要】
OLED显示器的制作方法及OLED显示器
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种OLED显示器的制作方法及OLED显示器。
技术介绍
有机发光二极管显示装置(OrganicLightEmittingDisplay,OLED)具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽,可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点,被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。OLED按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(PassiveMatrixOLED,PMOLED)和有源矩阵型OLED(ActiveMatrixOLED,AMOLED)两大类,即直接寻址和薄膜晶体管(TFT)矩阵寻址两类。其中,AMOLED具有呈阵列式排布的像素,属于主动显示类型,发光效能高,通常用作高清晰度的大尺寸显示装置。OLED器件通常包括:基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层、及设于电子注入层上的阴极。OLED器件的发光原理为半导体材料和有 ...
【技术保护点】
一种OLED显示器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、提供TFT基板(100),在所述TFT基板(100)上形成像素定义层(200);所述像素定义层(200)上设有多个通孔(210);所述多个通孔(210)在TFT基板(100)上限定出多个像素区域(101);步骤S2、在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内分别打印溶液态的导电材料,对溶液态的导电材料进行干燥,形成覆盖像素区域(101)的导电层(300);步骤S3、在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内分别打印溶液态的OLED发光材料,对溶液态的OLED发光材料进行干燥,形成位于导电层(300 ...
【技术特征摘要】
1.一种OLED显示器的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤S1、提供TFT基板(100),在所述TFT基板(100)上形成像素定义层(200);所述像素定义层(200)上设有多个通孔(210);所述多个通孔(210)在TFT基板(100)上限定出多个像素区域(101);步骤S2、在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内分别打印溶液态的导电材料,对溶液态的导电材料进行干燥,形成覆盖像素区域(101)的导电层(300);步骤S3、在TFT基板(100)的多个像素区域(101)内分别打印溶液态的OLED发光材料,对溶液态的OLED发光材料进行干燥,形成位于导电层(300)上的OLED发光层(400)。2.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法,其特征在于,还包括:步骤S4、在像素定义层(200)及OLED发光层(400)上形成阴极层(500),得到OLED显示器。3.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述TFT基板(100)包括:TFT阵列层(110)、覆盖于TFT阵列层(110)上的平坦化层(120)、及设于平坦化层(120)上的像素电极(130);所述多个通孔(210)均暴露出像素电极(130)。4.如权利要求3所述的OLED显示器的制作方法,其特征在于,所述像素电极(130)的材料为透明金属氧化物。5.如权利要求1所述的OLED显示器的制作方...
【专利技术属性】
技术研发人员:张晓星,
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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