基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及的基板处理装置，包括：基板保持部，具有：板状保持台，对基板(10)以形成有微细图案(11)的面朝下的方式能够旋转地保持；多个保持销，设置在所述保持台上，在多个位置分别保持所述基板(10)的外周部；加热器，用于加热所述基板(10)；盖，在所述盖的内部收纳所述基板保持部和所述加热器，并形成处理室；泵，对所述处理室内部进行排气以形成负压环境；惰性气体供给口，与形成有所述微细图案(11)的面的相反侧一面相对而置，向所述处理室内部供给惰性气体；排气口，设置在所述保持台上，与朝向形成有所述微细图案(11)的面喷射清洗液的喷嘴以及所述泵相连通。

Substrate treatment device and substrate treatment method

A substrate processing apparatus includes: the present invention relates to a substrate holder, has a plate holder, the substrate (10) to form a fine pattern (11) face down way to maintain a plurality of rotation; retainer pin, keep on the table, in a number of positions do not stay the substrate (10) peripheral part; the heater for heating the substrate (10); cover with the lid housed inside the substrate holder and the heater, and a chamber; pump to the process chamber exhaust to form a vacuum environment; inert gas supply in the fine pattern formation and (11) the opposite side of the side opposite to the processing chamber, an inert gas supply; the exhaust port, set in the holder, formed with the fine pattern with a nozzle (11) spraying on the surface of the cleaning fluid to The pump is connected with the pump.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置以及基板处理方法
本专利技术涉及一种用于清洗或干燥半导体晶片或平板显示装置用玻璃基板等基板的基板清洗干燥处理装置及其方法，特别涉及以单片基板为单位进行清洗干燥处理的单片式基板处理装置和基板处理方法。
技术介绍
一般来说，半导体元件是通过重复在晶片上层叠(沉积)绝缘物质、半导体物质或金属等导电物质等后形成图案(蚀刻)的过程而制造出来的。如液晶显示装置的平板显示装置也与半导体元件一样，通过重复实施在玻璃基板上层叠各种物质后形成图案的过程而制造出来的。形成一个图案层后，为了在该图案层上层叠其他物质，在实施层叠前，通常进行下述工序：对残留在晶片或玻璃基板(以下，简称“基板”)上的图案碎屑或副产物、或用于图案形成的化学药品残渣、杂质等(以下，简称“异物”)进行清洗去除后，对基板进行干燥处理。现有的或者是图案相对简单并不微细的情况下，针对这种基板的清洗和干燥处理，出于生产性和效率方面考虑，采用将多个基板装载在盒子或托盘中进行一次性处理的批处理式方式(batchtype)。另一方面，在图案微细、图案之间的间隔狭窄或图案的纵横比较大的情况下，通过批处理式处理无法将夹在图案之间的又窄又深缝本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，对形成有微细图案的基板进行清洗并干燥，其特征在于，包括：基板保持部，包括：板状保持台，对所述基板以形成有微细图案的面朝下的方式能够旋转地保持；多个保持销，设置在所述保持台上，在多个位置分别保持所述基板的外周部；加热器，用于加热所述基板；盖，在所述盖的内部收纳所述基板保持部和所述加热器，并形成处理室；泵，对所述处理室内部进行排气以形成负压环境；惰性气体供给口，与形成有所述微细图案的面的相反侧一面相对而置，向所述处理室内部供给惰性气体；排气口，设置在所述保持台上，与朝向形成有所述微细图案的面喷射清洗液的喷嘴以及所述泵相连通，其中，所述盖按照下述方式构成：在搬入和搬出所述基板时被开...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.12 KR 10-2015-00832971.一种基板处理装置，对形成有微细图案的基板进行清洗并干燥，其特征在于，包括：基板保持部，包括：板状保持台，对所述基板以形成有微细图案的面朝下的方式能够旋转地保持；多个保持销，设置在所述保持台上，在多个位置分别保持所述基板的外周部；加热器，用于加热所述基板；盖，在所述盖的内部收纳所述基板保持部和所述加热器，并形成处理室；泵，对所述处理室内部进行排气以形成负压环境；惰性气体供给口，与形成有所述微细图案的面的相反侧一面相对而置，向所述处理室内部供给惰性气体；排气口，设置在所述保持台上，与朝向形成有所述微细图案的面喷射清洗液的喷嘴以及所述泵相连通，其中，所述盖按照下述方式构成：在搬入和搬出所述基板时被开放，在处理所述基板时被关闭，能够对所述处理室进行封闭。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷嘴和排气口设置在所述保持台的中央。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述加热器以与所述基板中形成有微细图案的面的相反侧一面相对而置的方式设置在所述基板保持部的上方。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，能够调节所述加热器与所述基板之间的距离。5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，形成有排水口，用于排出通过所述喷嘴所喷射的清洗液。6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板保持部能够旋转。7.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述惰性气体供给口贯通所述盖的顶部而形成。8.根据权利要求1～7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，形成有...

【专利技术属性】
技术研发人员：杉原一男，
申请(专利权)人：株式会社JET，
类型：发明
国别省市：日本,JP