一种防污基板及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种防污基板，包括：基底；所述基底的表面至少具有一个功能区域；所述功能区域至少一部分具有涂层；所述功能区域上具有多个凸台，所述凸台的平均高度为10～2000nm，凸台的平均上表面积为78～1.964×10

【技术实现步骤摘要】
一种防污基板及其制备方法
本专利技术涉及一种防污材料，具体涉及一种防污基板及其制备方法。
技术介绍
防污材料的表面一般具有疏水表面，疏水表面一般是指固体表面与水的接触角大于120°的表面。由于疏水表面与水滴的接触面积非常小，水滴极易从表面滚落。因此，疏水表面不仅具有自清洁功能，而且还具有防电流传导、防腐蚀、防水、防雾、防毒、防雪、防霜冻、防黏附、防污染等功能，因而在建筑、服装纺织、液体输送、生物医学、日用品与包装、交通运输工具以及微量分析等领域都具有广泛的应用前景。为了使样品具有防污功能，大多是在样品的表面制备超疏水涂层，但是这样制备的样品存在表面耐磨性差的问题，经过反复摩擦难以维持样品表面原本形貌。为了使样品表面具有耐磨性，在传统的制备工艺中，通常通过特定的工艺在基底表面植入凸起阵列，凸起阵列与基底形成界面粘接，经过反复摩擦，凸起阵列容易从基底表面剥离，从而容易导致样品表面的耐磨性较差的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术存在的不足之处而提供一种具有防粘附、防污染且耐磨的防污基板及其制备方法。为实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：本专利技术提供了一种防污基板，包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防污基板，其特征在于，包括：基底；所述基底的表面至少具有一个功能区域；所述功能区域至少一部分具有涂层；所述功能区域上具有多个凸台，所述凸台的平均高度为10～2000nm，凸台的平均上表面积为78～1.964×10

【技术特征摘要】
1.一种防污基板，其特征在于，包括：基底；所述基底的表面至少具有一个功能区域；所述功能区域至少一部分具有涂层；所述功能区域上具有多个凸台，所述凸台的平均高度为10～2000nm，凸台的平均上表面积为78～1.964×105nm2，相邻凸台之间的平均间距为7～5000nm；所述涂层采用疏水材料制成。2.如权利要求1所述的防污基板，其特征在于，所述涂层的厚度为2～200nm；优选地，所述涂层的厚度为5～100nm。3.如权利要求1所述的防污基板，其特征在于，所述基底的材料包含二氧化硅、二氧化锆、碳化硅、氧化钇、氧化钙、氧化铈、氮化硅和碳化锆中的至少一种；所述涂层的材料为氟硅烷、全氟聚醚、全氟烷基磺酸盐和氟碳树脂中的至少一种；优选地，所述基底的材料为氧化钇、氧化钙或氧化铈掺杂的氧化锆。4.一种防污基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)、在基底表面涂覆一层光刻胶；(2)、对步骤(1)所得涂覆有光刻胶的基底进行曝光处理；(3)、对步骤(2)所得的曝光处理后的基底进行刻蚀，然后对刻蚀后的基底进行清洗，得具有凸台的基底；(4)、对步骤(3)所得的具有凸台的基底涂覆疏水材料，得所述防污基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱基华，
申请(专利权)人：潮州三环集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44