【技术实现步骤摘要】
研究缺血性卒中病灶区和半暗带区病理变化的定位方法
本专利技术涉及磁共振成像技术的临床应用研究,具体涉及磁共振弥散加权成像梗死病灶和磁共振灌注图像半暗带区选样方法的准确定位,是研究缺血性卒中病灶区和半暗带区病理变化的定位方法。
技术介绍
急性缺血性卒中是造成致死、致残的主要病因。在急性卒中发生后,在缺血性病灶和半暗带区微循环灌注出现严重受损,及时恢复上述区域的微循环灌注成为卒中治疗的关键。若能准确定位选择缺血性病灶区和半暗带区,进而观察其受损微循环灌注改变规律,不但可以发现卒中后不同区域脑微循环灌注病理变化特征及其机制,还能为进一步的选择性干预治疗提供客观判断标准。传统的半暗带概念是指缺血性病灶周围3cm内的低灌注区域,因此研究缺血性卒中半暗带区脑灌注变化,必须准确选择半暗带区作为研究对象,即脑兴趣区的选择必须准确定位于病灶周围3cm内的半暗带区。但目前尚未有准确定位于缺血性病灶区和半暗带区的研究方法应用于临床研究。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种简单、方便、实用的研究缺血性卒中病灶区和半暗带区病理变化的定位方法,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:研究缺血性卒中病灶区和半暗带区病理变化的定位方法,具体步骤如下:(1)制作半径差为0.5cm的6个同心圆;(2)将同心圆与灌注图像的标尺进行叠加,显示放大倍数为2;(3)在灌注图像上随机选择兴趣点;(4)进行图像融合;(5)把同心圆与融合图像进行叠加,确保同心圆最小圆的边缘与弥散加权磁共振图像上病灶的边缘融合;(6)观察所选兴趣区位于病灶区或病灶周围3cm内的半暗带 ...
【技术保护点】
研究缺血性卒中病灶区和半暗带区病理变化的定位方法,其特征在于,具体步骤如下:(1)制作半径差为0.5cm的6个同心圆;(2)将同心圆与灌注图像的标尺进行叠加,显示放大倍数为2;(3)在灌注图像上随机选择兴趣点;(4)进行图像融合;(5)把同心圆与融合图像进行叠加,确保同心圆最小圆的边缘与弥散加权磁共振图像上病灶的边缘融合;(6)观察所选兴趣区位于病灶区或病灶周围3cm内的半暗带区。
【技术特征摘要】
1.研究缺血性卒中病灶区和半暗带区病理变化的定位方法,其特征在于,具体步骤如下:(1)制作半径差为0.5cm的6个同心圆;(2)将同心圆与灌注图像的标尺进行叠加,显示放大倍数为2;(3)在灌注图像上随机选择兴趣点;(4)进行图像融合;(5)把同心圆与融合图像进行叠加,确保同心圆最小圆的边缘...
【专利技术属性】
技术研发人员:彭建伟,魏静雅,孟改,张金焱,李星,
申请(专利权)人:彭建伟,
类型:发明
国别省市:河南,41
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