一种光刻胶剥离液制造技术

本发明专利技术涉及一种光刻胶剥离液，其特征在于，包括有机胺化合物、有机溶剂和添加剂；所述添加剂选自8‑羟基喹啉、油酸三乙醇胺脂、天门冬氨酸三乙醇胺盐或烷醇酰胺中的至少一种；所述光刻胶剥离液中，所述有机胺化合物的重量百分比含量为15‑30％，所述有机溶剂的重量百分比含量为70‑85％，所述添加剂的重量百分比含量为0.1‑0.5％；且所述光刻胶剥离液中，各组分的总含量为100％。本发明专利技术的光刻胶剥离液能同时实现ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo结构层中光刻胶的快速剥离且低温性能好，有效地解决金属配线腐蚀、环境污染、操作人员安全性、毒性和剥离效果差等问题。

A photoresist stripping solution

The present invention relates to a photoresist stripping liquid, characterized in that, including organic amine compounds, organic solvents and additives; at least one of the 8 additive selected from the group consisting of 8-hydroxyquinoline, triethanolamine oleate fat, aspartic acid, triethanolamine salt or alkylolamide in stripping solution; the light weight percentage moment the organic amine compounds for 15 30% weight percentage of the organic solvent is 70 85% weight percentage of the additive is 0.1 0.5%; and the photoresist stripping solution, the total content of each component was 100%. The photoresist stripper of the invention can achieve fast stripping of photoresist in ITO/Ag/ITO and Mo/Al/Mo structure layer at the same time, and has low temperature performance. It effectively solves the problems of metal wiring corrosion, environmental pollution, operator safety, toxicity and stripping effect.

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶剥离液
本专利技术涉及化学蚀刻技术，特别涉及一种光刻胶剥离液。
技术介绍
光刻胶又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、最后通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉，从而完成整个图形转移过程，当然对于不同制程的面板，由于制程及光刻胶成分的差异性，所用剥离液的成分存在一定的差异。目前技术中，AMOLED类面板中用于去除光刻胶的剥离液以水性剥离液为主，主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水，其中有机胺类主要是一些脂肪胺和羟胺类物质中的一种以上，有机溶剂主要包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单烷基醚、γ-丁内酯(GBL)、1，3-二甲基-2-咪唑酮(DMI)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、二甲基亚砜(DMSO)、二丙二醇单甲醚和二丙二醇单乙醚等。上述水性剥离液相对有机剥离液具有明显的价格优势，但是由于有较大含量的水存在，它具有使用寿命短，剥离能力较差、金属配线腐蚀严重和难以重复利用等问题，而Al制程中用的剥离液为有机剥离液，现有技术中，上述有机剥离液的主要成分为乙醇胺，还有一定量的有机溶剂，如DMSO，但此种剥离液一般只能用于具有Mo/Al/Mo结构的Al制程中，无法用于ITO/Ag/ITO；且乙醇胺的含量高达60％以上，有很强的腐蚀性，另外由于溶液的熔点较低，低温下易发生结晶现象。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种剥离效果好，可同时用于具有Mo/Al/Mo和ITO/Ag/ITO结构的面板且抗腐蚀性高的光刻胶剥离液。为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：一种光刻胶剥离液，包括有机胺化合物、有机溶剂和添加剂；所述添加剂选自8-羟基喹啉、油酸三乙醇胺脂、天门冬氨酸三乙醇胺盐或烷醇酰胺中的至少一种；所述光刻胶剥离液中，所述有机胺化合物的重量百分比含量为15-30％，所述有机溶剂的重量百分比含量为70-85％，所述添加剂的重量百分比含量为0.1-0.5％；且所述光刻胶剥离液中，各组分的总含量为100％。本专利技术的有益效果在于：(1)本专利技术的光刻胶剥离液，由于同时含有机胺和添加剂，通过二者的配合，使光刻胶剥离液具有较强的溶解光刻胶的能力，实现快速剥离；同时，添加剂的存在可减缓有机胺渗透到要形成的图形层中而对其产生腐蚀，从而抑制终端产品受腐蚀的几率，提高质量；并且，本专利中加入的有机溶剂不仅具有较好的溶解性，同时亲水性强，在配线工艺时可以避免光刻胶的在附着；(2)添加的上述添加剂，可防止金属层的腐蚀，少量的添加剂不仅具有很好的缓蚀作用，同时属于水溶性成份，不会造成残留，对环境污染小；剥离过程完成后，添加剂可直接用水清洗而不会造成添加剂在金属上的残留，节省了成本；(3)低温性能较好，不易发生结晶；低挥发性和低毒性，不会给操作人员的健康及其环境带来危害；(4)能同时实现ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo结构层中光刻胶的快速剥离和对金属配线良好的防腐蚀性，不仅剥离效果强，使用寿命长，且不同制程中共用一种剥离液体系，药液使用后不需要对废液分类处理，有利于一次回收废液，大大节约了回收成本。附图说明图1为本专利技术实施例的光刻胶剥离液对ITO/Ag/ITO金属层剥离后的SEM图；图2为本专利技术实施例的光刻胶剥离液对ITO/Ag/ITO金属层剥离后的OM图；图3为本专利技术实施例的光刻胶剥离液对Mo/Al/Mo金属层剥离后的SEM图；图4为本专利技术实施例的光刻胶剥离液对Mo/Al/Mo金属层剥离后的OM图。具体实施方式为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。有机胺化合物：本专利技术的有机胺化合物理论上可以选择现有技术中的所有有机胺。有机胺类化合物的作用包括将大分子光刻胶中的树脂类物质断键为小分子，既保证较强的剥离性能，又不会造成其它金属层的严重腐蚀。主要包括氮唑类、烷基胺类、亚烷基胺类，优选1,4-二甲基-1H-咪唑、7-氨基吲唑、5-氨基四唑、1-氨基-4-甲基哌嗪、丙醇胺、异丙醇胺、乙醇胺或二乙醇胺中的一种。有机溶剂：本专利技术的有机溶剂理论上可以选择现有技术中的所有用于剥离液的有机溶剂，可根据所需剥离液的各方面情况或成本等进行选择。本专利技术用到的有机溶剂能浸湿光刻胶，更有利于有机胺的快速作用，同时还具有清洗PAC感光材料及有机胺分解作用后得到的酚醛树脂小分子物质，可选用醇类、醇类衍生物、酯类，其中以醇醚类溶剂效果最佳，优选二乙二醇单甲醚，二乙二醇单丁醚、二乙二醇叔丁基醚或二乙二醇乙醚中一种或两种。本专利技术最关键的构思在于：设计包括有机胺、有机溶剂和上述特定的添加剂，从而获得很强的溶解光刻胶的能力和抗腐蚀性。请参照图1、图2、图3以及图4，一种光刻胶剥离液，包括有机胺化合物、有机溶剂和添加剂；所述添加剂选自8-羟基喹啉、油酸三乙醇胺脂、天门冬氨酸三乙醇胺盐或烷醇酰胺中的至少一种；所述光刻胶剥离液中，所述有机胺化合物的重量百分比含量为15-30％，所述有机溶剂的重量百分比含量为70-85％，所述添加剂的重量百分比含量为0.1-0.5％；且所述光刻胶剥离液中，各组分的总含量为100％。上述配比的光刻胶剥离液，添加剂可防止金属层的腐蚀，有机胺化合物主要是将光刻胶溶解成小分子的PAC感光材料及酚醛树脂，有机溶剂作用主要是浸湿光刻胶同时清洗PAC感光材料及酚醛树脂小分子物质。通过添加上述有机胺化合物、有机溶剂和上述特定的添加剂，从而获得很强的溶解光刻胶的能力和抗腐蚀性，可同时实现ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo结构层中光刻胶的快速剥离，还能获得很好的低温性能。从上述描述可知，本专利技术的有益效果在于：(1)本专利技术的光刻胶剥离液，由于同时含有机胺和添加剂，通过二者的配合，使光刻胶剥离液具有较强的溶解光刻胶的能力，实现快速剥离；同时，添加剂的存在可减缓有机胺渗透到要形成的图形层中而对其产生腐蚀，从而抑制终端产品受腐蚀的几率，提高质量；并且，本专利中加入的有机溶剂不仅具有较好的溶解性，同时亲水性强，在配线工艺时可以避免光刻胶的在附着；(2)添加的上述添加剂，可防止金属层的腐蚀，少量的添加剂不仅具有很好的缓蚀作用，同时属于水溶性成份，不会造成残留，对环境污染小；剥离过程完成后，添加剂可直接用水清洗而不会造成添加剂在金属上的残留，节省了成本；(3)低温性能较好，不易发生结晶；低挥发性和低毒性，不会给操作人员的健康及其环境带来危害；(4)能同时实现ITO/Ag/ITO及Mo/Al/Mo结构层中光刻胶的快速剥离和对金属配线良好的防腐蚀性，不仅剥离效果强，使用寿命长，且不同制程中共用一种剥离液体系，药液使用后不需要对废液分类处理，有利于一次回收废液，大大节约了回收成本。进一步的，所述有机胺化合物选自烷基胺类化合物、亚烷基胺类化合物或氮唑类化合物中的至少一种。进一步的，所述有机胺化合物选自1,4-二甲基-1H-咪唑、7-氨基吲唑、5-氨基四唑、1-氨基-4-甲基哌嗪、丙醇胺、异丙醇胺或乙醇胺中的至少一种。进一步的，所述有机溶剂选自二乙二醇单甲醚，二乙本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻胶剥离液，其特征在于，包括有机胺化合物、有机溶剂和添加剂；所述添加剂选自8‑羟基喹啉、油酸三乙醇胺脂、天门冬氨酸三乙醇胺盐或烷醇酰胺中的至少一种；所述光刻胶剥离液中，所述有机胺化合物的重量百分比含量为15‑30％，所述有机溶剂的重量百分比含量为70‑85％，所述添加剂的重量百分比含量为0.1‑0.5％；且所述光刻胶剥离液中，各组分的总含量为100％。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶剥离液，其特征在于，包括有机胺化合物、有机溶剂和添加剂；所述添加剂选自8-羟基喹啉、油酸三乙醇胺脂、天门冬氨酸三乙醇胺盐或烷醇酰胺中的至少一种；所述光刻胶剥离液中，所述有机胺化合物的重量百分比含量为15-30％，所述有机溶剂的重量百分比含量为70-85％，所述添加剂的重量百分比含量为0.1-0.5％；且所述光刻胶剥离液中，各组分的总含量为100％。2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机胺化合物选自烷基胺类化合物、亚烷基胺类化合物或氮唑类化合物中的至少一种。3.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机胺化合物选自1,4-二甲基-1H-咪唑、7-氨基吲唑、5-氨基四唑、1-氨基-4-甲基哌嗪、丙醇胺、异丙醇胺或乙醇胺中的至少一种。4.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：鄢艳华，康威，尹静雅，陈昊，
申请(专利权)人：深圳新宙邦科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44