抗蚀剂剥离液组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种抗蚀剂剥离液组合物，更详细而言，涉及如下抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含极性有机溶剂、下述化学式1所表示的乙二醇胺化合物和下述化学式2或化学式3所表示的亚烷基二醇二烷基醚化合物(下述化学式1～3中取代基与说明书中定义相同)。[化学式1]

【技术实现步骤摘要】
抗蚀剂剥离液组合物
本专利技术涉及可将析出物产生最小化的抗蚀剂剥离液组合物。
技术介绍
滤色器(colorfilter)可通过内置于互补金属氧化物半导体(complementarymetaloxidesemiconductor，CMOS)或电荷耦合元件(chargecoupleddevice，CCD)之类的图像传感器的彩色摄影装置内来用于实际获得彩色图像，除此之外，也广泛应用于摄影元件、等离子体显示器面板(PDP)、液晶显示装置(LCD)、场发射显示器(FED)和发光显示器(LED)等中，其应用范围正在迅速扩大。特别是，近年来LCD的用途进一步扩大，因此认为在再现LCD的色彩方面滤色器是最重要的构件之一。滤色器基板由红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)图案和起到用于阻断各像素之间的漏光并提高对比的作用的黑矩阵、以及对液晶盒施加电压的共用电极构成。滤色器是通过将根据用途选择的黑矩阵材料涂布于玻璃基板上、形成黑色掩模图案后、利用光刻工序形成光致抗蚀剂图案而制造。例如，光刻工序通过如下工序来进行：在形成于基板上的铝、铝合金、铜、铜合金、钼、钼合金等导电性金属膜或氧化硅膜、氮化硅膜等绝缘膜上均匀涂布光致抗蚀剂，对其进行选择性曝光、显影处理而形成光致抗蚀剂图案后，将图案化的光致抗蚀剂作为掩模对上述导电性金属膜或绝缘膜以湿式或干式进行蚀刻，将微细电路图案转印于光致抗蚀剂下部层，然后将不再需要的光致抗蚀剂层利用剥离液(Stripper)去除。这样的滤色器制造工序中，会不可避免地发生光致抗蚀剂图案的不良，如果光致抗蚀剂一旦固化，则几乎不可能仅通过对错误的部分去除来进行修理，并且几乎没有能够将光致抗蚀剂去除的溶剂，因此就不良的滤色器而言，无法进行修理等重新加工，大部分会被直接废弃处理，因而存在生产率降低的问题。为了解决该问题，开发了用于将固化的光致抗蚀剂去除的组合物。光致抗蚀剂根据照射射线后在显影液中的溶解性的差异而被区分为负型或正型。负型光致抗蚀剂的意思是，被曝光的部位固化，对于显影液的溶解性降低，从而会以图案部存在的光致抗蚀剂。与此不同，被曝光的部分发生显影时称为正型光致抗蚀剂。负型光致抗蚀剂具有灵敏度、耐热性、与基板的粘接性优异的特征，并且与正型光致抗蚀剂相比，具有因耐镀性优异而在20μm以上的厚膜中也能够获得良好的形状的优点。然而，上述负型光致抗蚀剂与正型光致抗蚀剂相比，存在剥离不便或难以被剥离的缺点。作为光致抗蚀剂的剥离方法，采用利用剥离液的湿式剥离法，此时所使用的剥离液至少应能够将作为去除对象物的光致抗蚀剂完全剥离，且需要在冲洗(rinse)后不使残留物残留在基板上。此外，应具备不使光致抗蚀剂下部层的金属膜或保护金属膜的绝缘膜受到的损伤的低腐蚀性。对此，如果构成剥离液的组成成分间发生相互反应，则剥离液的储存稳定性会成为问题，且可能会因剥离液制造时的混合顺序而出现其他物性，因此应具备组成成分间的无反应性以及高温稳定性。进一步，剥离液操作容易、毒性低且安全为佳。此外，可被一定剥离液量处理的基板数应当多，且构成剥离液的成分的获得应当容易。上述多种条件中最重要的项目是，对于成为对象的光致抗蚀剂应具备优异的去除性能能，应具备不使光致抗蚀剂下部层的金属膜或绝缘膜受到损伤的低腐蚀性。为了使该性能得到满足，研究、开发了具有所中组成的光致抗蚀剂剥离液组合物。韩国注册专利第10-0779037号中公开了一种TFT-LCD用彩色抗蚀剂剥离液组合物，其包含(a)选自由氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾及它们的混合物组成的组中的无机碱氢氧化物1～50重量％、(b)亚烷基二醇醚5～35重量％、(c)水溶性胺化合物5～25重量％、和(d)水4～49重量％。上述现有文献虽然公开了通过将水溶性胺化合物和水混合来去除抗蚀剂，但存在如下问题：无机碱氢氧化物的碱基在以高温进行工序时会因剥离液的挥发而发生出现无机碱的析出的问题。韩国注册专利第10-1333779号公开了一种TFT-LCD用彩色抗蚀剂剥离液组合物，其包含：(a)选自由无机碱氢氧化物、氢氧化铵、具有碳原子数1～4的烷基的烷基氢氧化铵和具有碳原子数1～4的烷基的苯基烷基氢氧化铵组成的组中的氢氧化物化合物1～20重量％；(b)选自由具有碳原子数1～4的烷基的亚烷基二醇醚和亚烷基二醇组成的组中的一种以上的化合物1～70重量％；(c)羟胺0.5～10重量％；(d)烷氧基烷基胺0.5～50重量％；和(e)余量的水。上述现有文献虽然公开了通过使用羟胺和烷氧基烷基胺来去除抗蚀剂，但长时间使用低沸点原料时，存在挥发引起的组成变化大、由此导致试剂的使用量增加的问题。现有技术文献专利文献韩国注册专利第10-0779037号(2007.11.19.株式会社东进世美肯)韩国注册专利第10-1333779号(2013.11.21.株式会社东进世美肯)
技术实现思路
所要解决的课题本专利技术是用于解决上述那样的问题的专利技术，其目的在于，提供一种抗蚀剂剥离液组合物，通过使抗蚀剂剥离液组合物包含特定乙二醇胺化合物和特定亚烷基二醇二烷基醚化合物，且不包含含有羟基的亚烷基二醇化合物，从而能够提高抗蚀剂剥离力，且使析出发生最小化而提高稳定性。解决课题的方法用于达成上述目的的本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物的特征在于，包含极性有机溶剂、下述化学式1所表示的乙二醇胺化合物、以及下述化学式2或化学式3所表示的亚烷基二醇二烷基醚化合物，且不包含含有羟基的亚烷基二醇化合物。[化学式1][化学式2][化学式3](上述化学式1～3的取代基与说明书中定义相同)。专利技术效果如上所述，本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物通过包含极性有机溶剂、化学式1所表示的乙二醇胺化合物和化学式2至化学式3所表示的亚烷基二醇二烷基醚化合物，且不包含含有羟基的亚烷基二醇化合物，从而具有能够提高抗蚀剂剥离力、使析出发生最小化而提高稳定性的效果。具体实施方式本专利技术的抗蚀剂剥离液组合物包含极性有机溶剂、下述化学式1所表示的乙二醇胺化合物和下述化学式2至化学式3所表示的亚烷基二醇二烷基醚化合物，且不包含含有羟基的亚烷基二醇化合物，下文中将更详细描述。上述极性有机溶剂发挥渗透至固化的高分子抗蚀剂而使其溶胀，使分解的抗蚀剂溶解的作用。此时，极性有机溶剂可包含选自由二甲基亚砜、二乙基亚砜、二丙基亚砜、环丁砜、N-甲基吡咯烷酮、2-吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-丙基吡咯烷酮、1-羟基乙基-2-吡咯烷酮、1-羟基丙基-2-吡咯烷酮和它们的混合物组成的组中的一种以上。相对于抗蚀剂剥离液组合物总重量％，上述极性有机溶剂的含量优选为20～70重量％，如果极性有机溶剂的含量低于20重量％，则对于高分子树脂的渗透溶解力会降低，装置使用中发生过滤器堵塞之类的问题，如果含量超过70重量％，则与氢氧化物化合物的混和性降低，阻碍氢氧化物的活性，无法期待性能提高。上述乙二醇胺化合物由下述化学式1表示。[化学式1]上述化学式1中，n为1～7的整数。此时，n更优选为1～3的整数。上述乙二醇胺化合物可包含选自由2-(2-氨基乙氧基)乙醇、2-(2-(2-氨基乙氧基)乙氧基)乙醇、2-(2-(2-(2-氨基乙氧基)乙氧基)乙氧基)乙醇等组成的组中的一种以上。相对于抗蚀剂剥离液组合物总重量％，上述乙二醇胺化合物的含量优选为1～15本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含极性有机溶剂、下述化学式1所表示的乙二醇胺化合物、以及下述化学式2或化学式3所表示的亚烷基二醇二烷基醚化合物，所述抗蚀剂剥离液组合物不包含含有羟基的亚烷基二醇化合物，化学式1

【技术特征摘要】
2016.06.15 KR 10-2016-0074413;2017.03.07 KR 10-2011.一种抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，包含极性有机溶剂、下述化学式1所表示的乙二醇胺化合物、以及下述化学式2或化学式3所表示的亚烷基二醇二烷基醚化合物，所述抗蚀剂剥离液组合物不包含含有羟基的亚烷基二醇化合物，化学式1所述化学式1中，n为1～7的整数，化学式2所述化学式2中，R1为碳原子数1或2的烷基，R2为碳原子数1～4的烷基，m为2～4的整数，化学式3所述化学式3中，R3为碳原子数1或2的烷基，l为2～4的整数。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，相对于所述抗蚀剂剥离液组合物总重量％，包含极性有机溶剂20～70重量％、所述化学式1所表示的乙二醇胺化合物1～15重量％、以及所述化学式2或化学式3所表示的亚烷基二醇二烷基醚化合物1～30重量％。3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，所述极性有机溶剂包含选自由二甲基亚砜、二乙基亚砜、二丙基亚砜、环丁砜、N-甲基吡咯烷酮、2-吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-丙基吡咯烷酮、1-羟基乙基-2-吡咯烷酮、1-羟基丙基-2-吡咯烷酮和它们的混合物组成的组中的一种以上。4.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，所述乙二醇胺化合物包含选自由2-(2-氨基乙氧基)乙醇、2-(2-(2-氨基乙氧基)乙氧基)乙醇...

【专利技术属性】
技术研发人员：房淳洪，金佑逸，崔庆默，金炳默，白钟旭，洪宪杓，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR