抗蚀剂剥离液和抗蚀剂的剥离方法技术

本发明专利技术的课题在于提供一种抗蚀剂剥离液和抗蚀剂的剥离方法，所述抗蚀剂剥离液为用于将抗蚀剂从具备金属配线和/或金属氧化物膜的基材剥离的抗蚀剂剥离液，该抗蚀剂剥离液的剥离性优异，所剥离的抗蚀剂的再附着量少，消泡性也优异。一种抗蚀剂剥离液，其特征在于，其含有(A)胺、(B)有机溶剂和(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐，(C)成分的含量为5.0重量％以下，不含有(D)水，或者含有(D)水且(D)成分的含量为60重量％以下。

Stripping method of resist stripping solution and resist

The subject of the invention is to provide a resist stripping liquid and resist stripping method, the resist peeling liquid for resist stripping liquid from the resist substrate with stripping metal wiring and / or metal oxide film, excellent stripping of the photoresist stripping liquid the stripping, resist the adhesion amount, defoaming property is also excellent. A resist stripping liquid, characterized in that it contains amine (A), (B) organic solvent (C) and the weight average molecular weight is 5000 ~ 1000000 sulfonic acid or carboxylic acid or salt thereof, (C) content of 5 wt% or less, do not contain (D) water. Of or containing (D) and water (D) content is less than 60 weight percent.

【技术实现步骤摘要】
抗蚀剂剥离液和抗蚀剂的剥离方法
本专利技术涉及抗蚀剂剥离液和抗蚀剂的剥离方法。
技术介绍
半导体基板等具有实施了微细的配线的电极结构，在其制造工序中使用抗蚀剂。关于薄膜晶体管(TFT)，已知将IGZO等氧化物半导体膜与铜等金属配线组合而成的电极结构。电极结构例如如下制造：在形成于基材上的铜等金属配线或IGZO等氧化物半导体膜上涂布抗蚀剂，对其实施曝光、显影的处理而形成抗蚀剂图案，将该抗蚀剂图案作为掩模，对导电性金属层或氧化物半导体膜等进行蚀刻处理后，用抗蚀剂剥离液除去不需要的抗蚀剂，由此来进行制造。例如专利文献1中提出了一种组合物，其为半水溶性的剥离和清洗组合物，含有特定量的氨基苯磺酸、水混合性有机溶剂和水。但是，专利文献1中记载的组合物在用于具备金属配线和/或金属氧化物膜的基材上的抗蚀剂的剥离时存在下述问题：一度被剥离下来的抗蚀剂会再附着于具备金属配线和/或金属氧化物膜的基材上。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-224782号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术的目的在于提供一种抗蚀剂剥离液，其为用于将抗蚀剂从具备金属配线和/或金属氧化物膜的基材剥离的抗蚀剂剥离液，该抗蚀剂剥离液的剥离性优异，所剥离的抗蚀剂的再附着量少，消泡性也优异。用于解决课题的方案本专利技术人进行了深入研究，结果发现，在含有胺和有机溶剂的抗蚀剂剥离液中，使用特定量以下的具有特定重均分子量的磺酸或羧酸或者它们的盐作为再附着防止剂，并且不包含水，或者将水的含量调整为特定量以下，从而可得到在具有优异的剥离性的同时、所剥离的抗蚀剂的再附着量少、消泡性也优异的抗蚀剂剥离液，由此完成了本专利技术。即，本专利技术的抗蚀剂剥离液的特征在于，其含有：(A)胺、(B)有机溶剂、和(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐，(C)成分的含量为5.0重量％以下，不含有(D)水，或者含有(D)水且(D)成分的含量为60重量％以下。本专利技术的抗蚀剂剥离液中，(C)成分优选为聚苯胺磺酸、聚苯乙烯磺酸或聚丙烯酸或者它们的盐。本专利技术的抗蚀剂剥离液中，(C)成分的含量优选为0.0025重量％～5.0重量％。本专利技术的抗蚀剂剥离液中，优选(A)成分为烷醇胺，(A)成分的含量为1重量％～40重量％。本专利技术的抗蚀剂剥离液优选进一步含有(D)水，(B)成分与(D)成分的重量比((B)：(D))为0.2：1～70：1。本专利技术的抗蚀剂剥离液优选用于剥离具备铜和/或IGZO的基材的抗蚀剂。本专利技术的抗蚀剂的剥离方法为将抗蚀剂从具备金属配线和/或金属氧化物膜的基材剥离的方法，其特征在于，使用本专利技术的抗蚀剂剥离液。本专利技术的抗蚀剂的剥离方法中，优选金属配线的材质为铜，金属氧化物膜的材质为IGZO。专利技术的效果本专利技术的抗蚀剂剥离液由于含有特定量以下的具有特定重均分子量的磺酸或羧酸或者它们的盐作为再附着防止剂，并且不包含水，或者将水的含量调整为特定量以下，因此在具有优异的剥离性的同时，所剥离的抗蚀剂的再附着量少，消泡性也优异。具体实施方式<<抗蚀剂剥离液>>本专利技术的抗蚀剂剥离液的特征在于，其含有：(A)胺、(B)有机溶剂、和(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐，(C)成分的含量为5.0重量％以下，不含有(D)水，或者含有(D)水且(D)成分的含量为60重量％以下。该抗蚀剂剥离液优选用于剥离具备铜和/或IGZO的基材的抗蚀剂。<(A)胺>作为(A)胺(下文中也简称为(A)成分)，没有特别限定，可以举出例如N-甲基乙醇胺、单乙醇胺、单甲基二乙醇胺、三乙醇胺、单甲胺、单乙胺、丙胺、丁胺、2-乙基己胺、2-乙基己氧基丙胺、2-乙氧基丙胺、二甲胺、二乙胺、二丙胺、二丁胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、3-二乙基氨基丙胺、二-2-乙基己胺、二丁基氨基丙胺、四甲基乙二胺、三正辛胺、叔丁胺、仲丁胺、甲基氨基丙胺、二甲基氨基丙胺，甲基亚氨基双丙胺、3-甲氧基丙胺、烯丙胺、二烯丙胺、三烯丙胺、异丙胺、二异丙胺、亚氨基丙胺、亚氨基双丙胺、乙二胺、二亚乙基三胺、三亚乙基四胺、四亚乙基五胺、五亚乙基六胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、氨基乙基乙醇胺、N-甲基-N,N-二乙醇胺、N,N-二丁基乙醇胺、N-甲基乙醇胺、3-氨基-1-丙醇、N,N-双(2-羟乙基)环己胺等。这些之中，从抗蚀剂剥离性的方面出发，优选烷醇胺，更优选N-甲基乙醇胺(MMA)、单乙醇胺(MEA)、单甲基二乙醇胺(MDA)、三乙醇胺(TEA)。这些(A)成分可以单独使用，也可以将两种以上进行合用。本专利技术的抗蚀剂剥离液中，(A)成分的含量没有特别限定，优选为1重量％～40重量％、更优选为5重量％～25重量％。若(A)成分的含量小于1重量％，则抗蚀剂剥离性有时会降低，若超过40重量％，则粘度升高，有时会发生作业上的不良情况。<(B)有机溶剂>作为(B)有机溶剂(下文中也简称为(B)成分)，没有特别限定，可以举出例如丙酮、一元醇类(例如，甲醇、乙醇等)、二醇类(例如，乙二醇、二乙二醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇、丙二醇甲醚、二丙二醇等)、吡咯烷酮类(例如，N-甲基-2-吡咯烷酮等)、酰胺类(例如，N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺等)、腈类(例如，乙腈等)、亚砜类(例如，二甲基亚砜等)、砜类(例如，环丁砜等)、碳酸亚乙酯等。这些之中，从抗蚀剂剥离性的方面出发，优选选自由二醇类、亚砜类和酰胺类组成的组中的至少一种，更优选二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚。这些(B)成分可以单独使用，也可以将两种以上进行合用。本专利技术的抗蚀剂剥离液中，(B)成分的含量没有特别限定，从抗蚀剂剥离性等方面出发，优选为10重量％～95重量％、更优选为15重量％～90重量％、进一步优选为25重量％～80重量％。<(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐>本专利技术的抗蚀剂剥离液含有(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐(下文中也简称为(C)成分)作为再附着防止剂，因而在具有优异的剥离性的同时，所剥离的抗蚀剂的再附着量少。作为用作(C)成分的磺酸，没有特别限定，可以举出例如聚苯胺磺酸、聚苯乙烯磺酸、苯乙烯/苯乙烯磺酸共聚物、聚{2-(甲基)丙烯酰基氨基-2,2-二甲基乙磺酸}、2-(甲基)丙烯酰基氨基-2,2-二甲基乙磺酸/苯乙烯共聚物、2-(甲基)丙烯酰基氨基-2,2-二甲基乙磺酸/丙烯酰胺共聚物、2-(甲基)丙烯酰基氨基-2,2-二甲基乙磺酸/(甲基)丙烯酸共聚物、2-(甲基)丙烯酰基氨基-2,2-二甲基乙磺酸/(甲基)丙烯酸/丙烯酰胺共聚物、2-(甲基)丙烯酰基氨基-2,2-二甲基乙磺酸/苯乙烯/丙烯酰胺共聚物、2-(甲基)丙烯酰基氨基-2,2-二甲基乙磺酸/苯乙烯/(甲基)丙烯酸共聚物、萘磺酸甲醛缩合物、甲基萘磺酸甲醛缩合物、二甲基萘磺酸甲醛缩合物、蒽磺酸甲醛缩合物、三聚氰胺磺酸甲醛缩合物、苯胺磺酸-苯酚-甲醛缩合物等。作为羧酸，没有特别限定，可以举出脂肪族羧酸、芳香族羧酸的聚合物、例如聚丙烯酸、聚马来酸、丙烯酸/马来酸共聚物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离液，其特征在于，其含有：(A)胺、(B)有机溶剂、和(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐，(C)成分的含量为5.0重量％以下，不含有(D)水，或者含有(D)水且(D)成分的含量为60重量％以下。

【技术特征摘要】
2016.11.22 JP 2016-226997;2017.06.06 JP 2017-111721.一种抗蚀剂剥离液，其特征在于，其含有：(A)胺、(B)有机溶剂、和(C)重均分子量为5000～1000000的磺酸或羧酸或者它们的盐，(C)成分的含量为5.0重量％以下，不含有(D)水，或者含有(D)水且(D)成分的含量为60重量％以下。2.如权利要求1所述的抗蚀剂剥离液，其中，(C)成分为聚苯胺磺酸、聚苯乙烯磺酸或聚丙烯酸或者它们的盐。3.如权利要求1或2所述的抗蚀剂剥离液，其中，(C)成分的含量为0.0...

【专利技术属性】
技术研发人员：向喜广，
申请(专利权)人：长濑化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP