抗蚀剂剥离液组合物、平板及其制造方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种抗蚀剂剥离液组合物、显示装置用平板及其制造方法和显示装置。所述抗蚀剂剥离液组合物包含(a)下述化学式1所表示的化合物和(b)碱系化合物，并且选择性地进一步包含上述(a)成分和(b)成分以外的(c)其他成分。下述化学式1中，n为1～3的整数；R1和R2各自独立地为氢、C1～C10的烷基，或者为包含1～5个氧原子和2～10个碳原子且氧原子和碳原子形成醚键的基团；R3和R4不存在，或者各自独立地为C1～C5的烷氧基；C6～C12的芳基；被氨基或C1～C5的烷基取代或非取代的C6～C12的芳氧基；羟基；‑CN；或氨基。[化学式1]

Resist stripping liquid composition, flat plate, method for producing the resist and display device

The present invention relates to a resist stripping fluid composition, a flat plate for a display device, a method of manufacturing the same and a display device. The resist stripping liquid composition comprises (a) compounds and (b) base compounds represented by the following chemical formula 1, and optionally includes further (a) components and (b) other ingredients (C). The following chemical formula 1, n is 1 ~ 3 integer; R1 and R2 independently of C1 ~ C10 is hydrogen, alkyl, or to contain 1 to 5 oxygen atoms and 2 to 10 carbon atoms and oxygen atoms and carbon atoms in the formation of ether groups; R3 and R4 does not exist, or independently based C5 alkoxy C1 ~ C6 ~ C12; aryl; C1 ~ C5 is amino or alkyl substituted or non substituted aryloxy C6 ~ C12; CN; amino or hydroxyl groups. [chemical formula 1]

【技术实现步骤摘要】
抗蚀剂剥离液组合物、平板及其制造方法和显示装置
本专利技术涉及抗蚀剂剥离液组合物、使用上述剥离液的显示装置用平板的制造方法及利用其制造的显示装置用平板、和包含上述平板的显示装置。
技术介绍
随着近年来对于平板显示装置的高分辨率呈现的要求增加，正持续进行着使每单位面积的像素增加的努力。面对这样的趋势，也要求配线宽度的减小，为了应对这些要求，引入了干式蚀刻工序等以致工序条件也越来越苛刻。此外，因平板显示装置的大型化，还要求配线中的信号速度加快，因此作为配线材料，电阻率比铝低的铜得到实用化。随之，对于作为抗蚀剂去除工序的剥离工序中所使用的剥离液的需求性能也变高。具体而言，对于针对干式蚀刻工序后产生的蚀刻残渣的去除力和针对金属配线的腐蚀抑制力等，要求相应水平的剥离特性。特别是，还要求针对铝以及铜的腐蚀抑制力，并且为了确保价格竞争力，也要求如基板的处理张数增多这样的经济性。应对这样的要求，开发了新的技术。例如，韩国公开专利2012-0055449号公开了，将乙二醇醚和乙酸酯类用作添加剂的光致抗蚀剂剥离液组合物。上述技术的特征在于，将乙二醇醚和乙酸酯类用作添加剂和溶剂。然而，沸点低的一部分乙二醇本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含(a)下述化学式1所表示的化合物和(b)碱系化合物，并且选择性地进一步包含所述(a)成分和(b)成分以外的(c)其他成分，[化学式1]

【技术特征摘要】
2016.03.28 KR 10-2016-00368181.一种抗蚀剂剥离液组合物，其包含(a)下述化学式1所表示的化合物和(b)碱系化合物，并且选择性地进一步包含所述(a)成分和(b)成分以外的(c)其他成分，[化学式1]所述化学式1中，n为1～3的整数；R1和R2各自独立地为氢、C1～C10的烷基，或者为包含1～5个氧原子和2～10个碳原子且氧原子和碳原子形成醚键的基团；R3和R4不存在，或者各自独立地为C1～C5的烷氧基；C6～C12的芳基；被氨基或C1～C5的烷基取代或非取代的C6～C12的芳氧基；羟基；-CN；或氨基。2.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，相对于组合物总重量，包含所述(a)化学式1所表示的化合物10～99.9重量％、(b)碱系化合物0.1～20重量％、及(c)其他成分0～70重量％。3.根据权利要求1所述的抗蚀剂剥离液组合物，其特征在于，所述(a)化学式1所表示的化合物为选自由双(2-乙氧基乙氧基)甲烷、双(2-甲氧基乙氧基)甲烷、双(2-丁氧基乙氧基)甲烷、1,13-二乙氧基-3,6,8,11-四氧杂-十三烷、1,13-二甲氧基-3,6,8,11-四氧杂-十三烷、甲醛[双-(2-苯氧基乙基)乙缩醛]、4-(2-((2-乙氧基乙氧基)甲氧基)乙氧基)苯胺、甲醛[双(2-邻甲苯氧基乙基)乙缩醛]、2,4,7,9,12,14-六氧杂十五烷、3,6,9,...

【专利技术属性】
技术研发人员：高京俊，金正铉，崔汉永，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR