涂布口金刮拭擦及光阻刮拭装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种涂布口金刮拭擦，包括刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体包括相对的前侧面和后侧面，引导部包括朝向刮拭擦本体底部的前引导面和背向刮拭擦本体底部的后引导面；自引导部开设有同时贯穿前侧面后侧面、前引导面和后引导面的V形的刮拭槽，刮拭槽包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面。本发明专利技术还公开了一种光阻刮拭装置。由于刮拭擦具有刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体顶部的引导部的前引导面可以将自涂布口金侧面刮拭下的废弃光阻引导至流向下方，可以避免在刮拭过程中口金顶部累积废弃光阻，提高光阻刮拭效果，避免对口金的不必要维护，也提高了生产产能。

Gold coated wipe and resist scraping scraping device

The invention discloses a coated gold scraping wipe, wipe the body and includes a self wiping scraping body is bent to guide, scraping wiping body includes front and rear sides relative to the guide portion comprises a front and back toward the guide surface scraping bottom wipe body to the body after wiping scraping bottom guide surface; self guide part is provided at the same time through the front side side, after scraping in front of the trough and the guide surface to guide the V shape of the scraping groove is coated in gold includes two adjacent faces two scraping surface. The invention also discloses an optical resistance and wiping device. The scraping body and wipe wipe with scraping scraping self wipe body is bent to a guide portion before the guide surface scraping wipe the top of the body of the guide portion can be coated in gold from scraping the side to resist waste flows below, can be avoided in the process of wiping mouth Jinding accumulated waste photoresist. To improve the resist wiping effect, avoid unnecessary maintenance to gold, but also improve the production capacity.

【技术实现步骤摘要】
涂布口金刮拭擦及光阻刮拭装置
本专利技术涉及光阻涂布
，尤其涉及一种涂布口金刮拭擦及光阻刮拭装置。
技术介绍
目前，在TFT-LCD(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)行业的光阻涂布制程中，多采用狭缝型口金对基板进行光阻涂布制程。狭缝型口金一般呈三棱柱形，因光阻本身存在较大粘性(一般大于3cp)，每次涂布后均会有些许光阻残留在口金两侧，为避免影响下一次涂胶制程，目前设计多采用刮拭擦由一端向另一端刮拭的方式对口金表面残留的光阻进行刮拭。然而，此种刮拭擦在刮拭口金表面的光阻的过程中，存在如下几种不足：1、当前刮拭擦设计为一个具有与口金外形匹配的楔形开口，该楔形开口的两个面贴紧在口金的两个表面进行刮拭，刮拭擦在快速刮拭光阻时，会在口金上还未刮拭的前段累积刮拭下的废弃光阻，废弃光阻积累过多进而从刮拭擦顶部溢出，导致光阻溢出至口金已刮拭的后段，沾到口金喷嘴的顶侧，无法刮拭干净。2、鉴于以上原因，目前，对口金喷嘴顶侧的残留光阻，需要进行周期(每日)停机维护，人工使用酒精无尘布擦拭，防止长期积累造成微尘粒子(Particle)影响基板制程的问题。每次维护时需停机、擦拭、复机，至少需要2小时以上时间来完成，严重影响了生产产能。
技术实现思路
鉴于现有技术存在的不足，本专利技术提供了一种涂布口金刮拭擦及光阻刮拭装置，可以避免在刮拭过程中口金顶部累积废弃光阻，提高光阻刮拭效果，避免对口金的不必要维护，提高生产产能。为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：一种涂布口金刮拭擦，用于沿涂布口金的长度方向刮拭残留光阻，包括刮拭擦本体和自所述刮拭擦本体弯折的引导部，所述刮拭擦本体包括相对的前侧面和后侧面，所述引导部包括朝向所述刮拭擦本体底部的前引导面和背向所述刮拭擦本体底部的后引导面；自所述引导部开设有同时贯穿所述前侧面、所述后侧面、所述前引导面和所述后引导面的V形的刮拭槽，所述刮拭槽包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面。作为其中一种实施方式，所述前引导面与所述刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角。作为其中一种实施方式，所述前侧面与所述前引导面所形成的角度小于180°。作为其中一种实施方式，所述前侧面与所述刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角。作为其中一种实施方式，所述前侧面与所述前引导面所形成的角度为45°～90°。作为其中一种实施方式，所述刮拭擦本体在所述刮拭擦的刮拭方向的投影完全覆盖所述引导部在所述刮拭擦的刮拭方向的投影。或者，所述前侧面与所述前引导面所形成的角度为130°～160°。作为其中一种实施方式，所述前侧面垂直于所述刮拭擦的刮拭方向。作为其中一种实施方式，所述前侧面开设有引流槽，所述引流槽沿所述刮拭擦本体的高度方向延伸，用于引导沿所述引导部流下的残留光阻流下。本专利技术的另一目的在于提供一种光阻刮拭装置，包括所述的涂布口金刮拭擦。本专利技术的刮拭擦具有刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体顶部的引导部的前引导面可以将自涂布口金侧面刮拭下的废弃光阻引导至流向下方，避免了在刮拭过程中口金顶部累积废弃光阻，提高了光阻刮拭效果，避免了对口金的不必要维护，也提高了生产产能。附图说明图1为本专利技术实施例1的一种涂布口金刮拭擦的结构示意图；图2为本专利技术实施例1的一种光阻刮拭装置的结构示意图；图3为本专利技术实施例1的另一种涂布口金刮拭擦的结构示意图；图4为本专利技术实施例1的另一种光阻刮拭装置的结构示意图；图5为本专利技术实施例2的涂布口金刮拭擦的结构示意图。具体实施方式在本专利技术中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本专利技术及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本专利技术中的具体含义。为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术的涂布口金刮拭擦，用于沿涂布口金的长度方向刮拭残留光阻，具有自顶部开设的刮拭槽，刮拭槽呈V形，刮拭槽具有分别正对涂布口金的面的两个刮拭面，用于与涂布口金的两个相邻面组成的V形的涂布面匹配并贴合，当涂布口金刮拭擦使用时，V形的刮拭槽紧贴在涂布口金的涂布面上，涂布口金刮拭擦通过刮拭面沿着涂布口金的长度方向上进行擦拭，而擦拭掉涂布面残留的废弃光阻等杂质。涂布口金刮拭擦包括刮拭擦本体和自刮拭擦本体弯折的引导部，刮拭擦本体包括相对的前侧面和后侧面，引导部包括朝向刮拭擦本体底部的前引导面和背向刮拭擦本体底部的后引导面；自引导部开设有同时贯穿前侧面、后侧面、前引导面和后引导面的V形的刮拭槽。当使用涂布口金刮拭擦时，引导部朝向刮拭方向斜上方倾斜，引导部的前引导面、刮拭擦本体的前侧面位于涂布口金刮拭擦前方所在面，引导部的后引导面、刮拭擦本体的后侧面位于涂布口金刮拭擦后方所在面，前引导面、前侧面可以对刮拭下的废弃光阻进行引导，口金顶部不会再累积废弃光阻，刮拭效果好。实施例1参阅图1和图2，本实施例的涂布口金刮拭擦G用于沿涂布口金K的长度方向刮拭残留光阻R，包括刮拭擦本体1和自刮拭擦本体1弯折的引导部2，刮拭擦本体1包括相对的前侧面11和后侧面12，引导部2包括朝向刮拭擦本体1底部的前引导面21和背向刮拭擦本体1底部的后引导面22；自引导部2开设有同时贯穿前侧面11、后侧面12、前引导面21和后引导面22的V形的刮拭槽10，刮拭槽10包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面13。其中，两个刮拭面13形成贯穿前侧面11和后侧面12的V形的刮拭槽10，引导面21与前侧面11位于涂布口金刮拭擦G的同一侧(刮拭方向的前方所在侧)，且二者同时与刮拭面13相邻，两个引导部2在垂直于刮拭方向上分别设于刮拭槽10的两侧，引导部2端部朝向刮拭方向斜上方倾斜，即前引导面21与涂布口金刮拭擦G的刮拭方向所呈角度(即前引导面21到刮拭方向的角)可以为直角或锐角，这里优选为锐角。刮拭面13同时形成在引导部2和刮拭擦本体1上，在刮拭时，两个刮拭面13分别贴合在涂布口金的两个相邻的涂布面上。由于刮拭槽10同时贯穿刮拭擦本体1和自刮拭擦本体1和其顶部的引导部2，前引导面21与涂布口金刮拭擦G的刮拭方向所呈角度为锐角，当涂布口金刮拭擦G沿着涂布口金K的长度方向刮拭时，其顶端倾斜的前引导面21将刮拭下的残留光阻进行搜集，当光阻累积到一定量时，会依次顺着引导面21、前侧面11流下。如图2所示，本实施例的光阻刮拭装置除了具有涂布口金刮拭擦G以外，还具有和清洁喷头P，废光阻槽C位于涂布口金刮拭擦G上方，为顶部开口的容器，用于对涂布口金刮拭擦G上流下的残留光阻进行搜集，清洁喷头P连接有高压水管，清洁喷头P固定在废光阻槽C端部，且朝向废光阻槽C的斜上方，当涂布口金刮拭擦G本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂布口金刮拭擦，用于沿涂布口金的长度方向刮拭残留光阻，其特征在于，包括刮拭擦本体(1)和自所述刮拭擦本体(1)弯折的引导部(2)，所述刮拭擦本体(1)包括相对的前侧面(11)和后侧面(12)，所述引导部(2)包括朝向所述刮拭擦本体(1)底部的前引导面(21)和背向所述刮拭擦本体(1)底部的后引导面(22)；自所述引导部(2)开设有同时贯穿所述前侧面(11)、所述后侧面(12)、所述前引导面(21)和所述后引导面(22)的V形的刮拭槽(10)，所述刮拭槽(10)包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面(13)。

【技术特征摘要】
1.一种涂布口金刮拭擦，用于沿涂布口金的长度方向刮拭残留光阻，其特征在于，包括刮拭擦本体(1)和自所述刮拭擦本体(1)弯折的引导部(2)，所述刮拭擦本体(1)包括相对的前侧面(11)和后侧面(12)，所述引导部(2)包括朝向所述刮拭擦本体(1)底部的前引导面(21)和背向所述刮拭擦本体(1)底部的后引导面(22)；自所述引导部(2)开设有同时贯穿所述前侧面(11)、所述后侧面(12)、所述前引导面(21)和所述后引导面(22)的V形的刮拭槽(10)，所述刮拭槽(10)包括分别正对涂布口金的两个相邻面的两个刮拭面(13)。2.根据权利要求1所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述前引导面(21)与所述刮拭擦的刮拭方向所呈角度为锐角。3.根据权利要求2所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述前侧面(11)与所述前引导面(21)所形成的角度小于180°。4.根据权利要求3所述的涂布口金刮拭擦，其特征在于，所述前侧面(11)...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗善高，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44