硅片慢提拉清洗槽制造技术

本实用新型专利技术涉及太阳能电池片制备技术领域，尤其是一种硅片慢提拉清洗槽，包括用于清洗硅片的水槽，水槽上具有开口向上的清洗腔，水槽的顶端位于清洗腔开口的两侧分别设置有热风刀及挡风板，热风刀内具有风腔，热风刀的内表面开设有若干与风腔连通的出风孔道，出风孔道的轴线由外至内向下倾斜，挡风板的内侧面由外至内向上倾斜，本实用新型专利技术的硅片慢提拉清洗槽具有脱水效果好、清洁度高、对硅片表面无损伤且不易留下水痕等优点，硅片进行脱水处理后，硅片表面不会留下水痕，热风刀的设置可以有效提升慢提拉速度，实现快速下降提升，以配合不同的清洗工艺要求。

Silicon wafer slow pulling cleaning tank

The utility model relates to the technical field of solar cell preparation, in particular to a slow pulling silicon wafer cleaning tank, including water tank for cleaning a silicon wafer, having an opening to the cleaning chamber on the top of the tank is located on both sides of the cleaning chamber opening are respectively provided with a hot air knife and a wind board, wind hot air knife with cavity the inner surface, the hot air knife is provided with a plurality of wind and the wind outlet cavity is communicated with the wind channel, channel axis from the outside to the inward sloping, the inner surface of the windshield from the outside to within the tilt, the utility model has slow pulling silicon wafer cleaning tank with good dewatering effect, high cleanliness of silicon surface without the injury is not easy to leave traces of water and other advantages, the silicon wafer surface after dehydration treatment, will not leave traces of water, hot air knife set can effectively improve the slow pulling speed, realize the rapid decline of promotion, to match Different cleaning process requirements.

【技术实现步骤摘要】
硅片慢提拉清洗槽
本技术涉及太阳能电池片制备
，尤其是一种硅片慢提拉清洗槽。
技术介绍
在太阳能电池片制备过程中，硅片需要经过酸洗去除硅片表面氧化物，然后硅片需经过水洗，接着烘干后进入下一道工序，现有的硅片水洗采用单一的清洗槽、提升机构、工装篮及托架等，在冷水中进行简单的下方，停留一段时候后，由机械手来慢提升花篮实现脱水并转移至烘干槽，由于机械手在抓取花篮时，机械爪会浸没在水槽内的水中，偶尔会发生机械手上提花篮时，机械手上的水珠滴落到烘干槽的硅片上从而导致硅片有水返工，这种单一的清洗槽，为了确保硅片脱水，需要机械手非常缓慢的提升花篮，显然会严重影响硅片的生产效率。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是：为了解决现有技术中硅片脱水效率低且在慢提花篮过程中容易有水珠滴落在硅片上的问题，现提供一种硅片慢提拉清洗槽。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种硅片慢提拉清洗槽，包括用于清洗硅片的水槽，所述水槽上具有开口向上的清洗腔，所述水槽的顶端位于清洗腔开口的两侧分别设置有热风刀及挡风板，所述热风刀内具有风腔，所述热风刀的内表面开设有若干与风腔连通的出风孔道，所述出风孔道的轴线由外至内向下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片慢提拉清洗槽，其特征在于：包括用于清洗硅片的水槽(1)，所述水槽(1)上具有开口向上的清洗腔(1‑1)，所述水槽(1)的顶端位于清洗腔(1‑1)开口的两侧分别设置有热风刀(2)及挡风板(3)，所述热风刀(2)内具有风腔(2‑1)，所述热风刀(2)的内表面开设有若干与风腔(2‑1)连通的出风孔道(2‑2)，所述出风孔道(2‑2)的轴线由外至内向下倾斜，所述挡风板(3)的内侧面由外至内向上倾斜。

【技术特征摘要】
1.一种硅片慢提拉清洗槽，其特征在于：包括用于清洗硅片的水槽(1)，所述水槽(1)上具有开口向上的清洗腔(1-1)，所述水槽(1)的顶端位于清洗腔(1-1)开口的两侧分别设置有热风刀(2)及挡风板(3)，所述热风刀(2)内具有风腔(2-1)，所述热风刀(2)的内表面开设有若干与风腔(2-1)连通的出风孔道(2-2)，所述出风孔道(2-2)的轴线由外至内向下...

【专利技术属性】
技术研发人员：虞凯，孙铁囤，姚伟忠，
申请(专利权)人：常州亿晶光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32