The utility model discloses a lifting device of nano metal plasma polishing machine, including lifting device and the rack is located at the bottom of the hoist, lifting device is arranged on the top of the mat lifting device is arranged at one side of the bar, the bar is arranged at one side of the lifting gear, lifting speed reducer is arranged at one side of the drive shaft, the drive shaft is arranged inside the drive the chain drive chain is arranged on the top of the drive gear, the chassis is arranged inside the motor, one side of the frame is provided with a power switch, a shock absorber is arranged at the bottom of the support legs, damping support legs are arranged at one side of the anti slide through the fixed lifter bar, reduce the error when polishing, power inverter design can change the motor. The device can be very good for lifting nano plasma polishing machine, polishing machine, which greatly improves the work efficiency, It can be very convenient to complete the speed change, reduce the wear between the equipment, and good protection of the lifting equipment.
【技术实现步骤摘要】
一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置
本技术涉及抛光
,具体为一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置。
技术介绍
等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面,工件凸起处电流冲击高而去除快,电流流动,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被整平,等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正电的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。溶液不参加化学反应,成本低,与传统的化学电解抛光相比,成本非常低。等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,目前出现了一种纳米级的等离子抛光机,但是抛光机机床工作的过程中不能很好的调节工作的速度,而且机场长时间使用会导致升降系统受损,需要更换零件十分麻烦,因此设计了一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置。所以,如何设计一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置,成为我们当前要解决的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置,包括升降器和位于升降器底部的机架,所述升降器顶部设置有防滑垫,所述升降器底部设置有横杆,所述横杆底部设置有升降减速机,所述升降减速机一侧设置有传动轴,所述传动轴内部设置有 ...
【技术保护点】
一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置,包括升降器(13)和位于升降器底部的机架(6),其特征在于:所述升降器(13)顶部设置有防滑垫(16),所述升降器(13)底部设置有横杆(14),所述横杆(14)底部设置有升降减速机(12),所述升降减速机(12)一侧设置有传动轴(15),所述传动轴(15)内部设置有传动链条(10),所述传动链条(10)顶部设置有传动齿轮(1),所述传动轴(15)一侧设置有支撑杆(2),所述传动轴(15)与所述支撑杆(2)固定连接,所述支撑杆(2)底部设置有变频器(11),所述支撑杆(2)底部设置有机箱(5),所述机箱(5)内部设置有电机(4),所述电机(4)一侧设置有驱动齿轮(3),所述机架(6)一侧设置有电源开关(9),所述机架(6)底部设置有减震支撑腿(7),所述减震支撑腿(7)一侧设置有防滑块(8)。
【技术特征摘要】
1.一种纳米级金属等离子抛光机的升降装置,包括升降器(13)和位于升降器底部的机架(6),其特征在于:所述升降器(13)顶部设置有防滑垫(16),所述升降器(13)底部设置有横杆(14),所述横杆(14)底部设置有升降减速机(12),所述升降减速机(12)一侧设置有传动轴(15),所述传动轴(15)内部设置有传动链条(10),所述传动链条(10)顶部设置有传动齿轮(1),所述传动轴(15)一侧设置有支撑杆(2),所述传动轴(15)与所述支撑杆(2)固定连接,所述支撑杆(2)底部设置有变频器(11),所述支撑杆(2)底部设置有机箱(5),所述机箱(5)内部设置有电机(4),所述电机(4)一侧设置有驱动齿轮(3),所述机架(6)一侧设置有电源开关(9),所述机架(6)底部设置有减震支撑腿(7),所述减震支撑腿(7)一侧设置有防滑块(8)。2.根据权利要求1所述的一种纳米级金属等离子抛光...
【专利技术属性】
技术研发人员:张叶成,
申请(专利权)人:东莞市大源智能设备科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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