陶瓷瓷砖的填充介质及其自动添加系统技术方案

一种陶瓷瓷砖的填充介质，其包括以下重量百分比的组分：碳酸氢钙：60-70％、纳米水：30-40％；以及一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统，将加温至25-35℃的纳米水与碳酸氢钙混合，通过超洁亮纳米抛光机使碳酸氢钙和纳米水均匀的分布于砖面，并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。本发明专利技术提供的陶瓷瓷砖的填充介质、填充介质的自动添加系统，使用一种颗粒性大于纳米水的介质碳酸氢钙，与纳米水联合使用对较大的砖面毛孔和微裂纹进行填充，达到全面提升高档瓷砖的超洁亮防污性和砖面效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种陶瓷瓷砖的填充介质、填充介质的自动添加系统，以及超洁亮陶瓷瓷砖。
技术介绍
陶瓷瓷砖通过原料制粉、压机压制、窑炉烧制、抛光、超洁亮防污、分级、包装等一系列工序，最后才能成为优质合格的产品，在生产过程中使用了十几种原料，因各种原料的特性不一，在窑炉烧制的过程中不可避免的出现一些微裂纹和表面气孔。微裂纹和表面气孔有时很大、有时很小，其分布没有明显的规律，完全靠各技术人员凭经验控制，致使发现有微裂纹和表面气孔时，已经有大批量的产品具有这种缺陷。而这些缺陷大大影响了瓷砖的品质和在日常使用中的防污性能。目前，超白砖、渗花砖、微粉砖、抛釉砖等新型高档陶瓷砖全面应用超洁亮防污系统。超洁亮防污系统主要通过纳米水填充砖面的表面气孔和微裂纹，为瓷砖表面增添特殊防护功能且结构稳定的纳米级保护层，全面提升了新型高档陶瓷砖的防污性能、光泽度和抗磨损性能。而纳米水的特性是颗粒细小，无色无味，呈透明状，通过纳米抛光机磨盘的高速旋转，再施加一定的气压，达到对纳米水加温加压，增加纳米水的渗透性，使其能完全渗透进砖面的表面气孔和微裂纹中。正是因为纳米水的特性，在对一些较大的表面气孔和微裂纹达不到完全填充的效果，从而影响新型高档砖在生产过程中的防污性和砖面效果。同时，陶瓷行业是流水线生产，对瓷砖的产量有一定的要求，也就是对流水线的速度有一定要求。纳米水其材料颗粒小至纳米级，很容易对细小的砖面毛孔和微裂纹填充。在线速度一定的情况下，如果砖面毛孔和微裂纹稍大，纳米水就无法做到完全填充，生产中就会出现防污不达标，至使瓷砖缺陷大大超标，这种问题在线速度越快的情况就会越明显。专利技术内容本专利技术的目的在于克服上述缺点，提供一种陶瓷瓷砖的填充介质、填充介质的自动添加系统，使用一种颗粒性大于纳米水的介质碳酸氢钙，与纳米水联合使用对较大的砖面毛孔和微裂纹进行填充，达到全面提升高档瓷砖的超洁亮防污性和砖面效果。为解决上述问题，本专利技术通过以下技术方案实现本专利技术的一种陶瓷瓷砖的填充介质，其包括以下重量百分比的组分碳酸氢钙 60-70%、纳米水30-40%。本专利技术还涉及一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统，其包括以下步骤a.经过抛光后的瓷砖从进口线架传递向超洁亮纳米抛光机时，设置在进口线架和超洁亮纳米抛光机之间的料斗内的碳酸氢钙滴落至砖面；b.瓷砖经过超洁亮纳米抛光机时，加温至25-35°C的纳米水滴落至砖面，其中步骤a中的碳酸氢钙与纳米水所占的重量百分比为碳酸氢钙60-70%、纳米水30-40%。C.利用超洁亮纳米抛光机的第一组、第二组磨盘加压、升温，使砖面温度也达到25-35°C，同时施加4KG的压力，以增强碳酸氢钙和纳米水的渗透性；再通过磨盘的高速旋转，使碳酸氢钙和纳米水均勻的分布于砖面，并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。在所述的料斗顶部设置有通过电磁阀开关控制的气管，在料斗内部设置有振动器，在料斗的底设置有过滤网，电磁阀、振动器分别与PLC连接。在步骤b中所述的加温至25_35°C的纳米水，加温温度优选加温至30°C，步骤c中所述的砖面加温温度也优选加温至30°C。本专利技术还涉及一种超洁亮陶瓷瓷砖，其在瓷砖表面和纳米层1之间添加填充介质，其包括以下重量百分比的组分碳酸氢钙60-70%、纳米水30-40%。本专利技术还涉及一种根据所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统制备的超洁亮陶瓷瓷砖。本专利技术的陶瓷瓷砖的填充介质，在纳米层与砖面之间填充碳酸轻钙和纳米水的混合液，能有效填充砖面较大的表面气孔(直径约1匪以上)和微裂纹(长度约1匪以上)， 弥补纳米水只能填充微小的气孔和微裂纹的不足，达到全面填充的效果；由于填充工序设置在使用超洁亮纳米抛光机之前，在达到填充效果的同时，也保持了纳米水的特性，有效的降低了脱落、落脏等缺陷的发生率，全面提升新型高档瓷砖的质量。本专利技术涉及的填充介质的自动添加系统，在超洁亮纳米抛光机设置有由PLC自动控制的料斗，能够在不影响原有自动化流水线生产的基础上，增加了添加碳酸氢钙填料的工序，使生产的瓷砖的质量更好。附图说明图1为填充了填充介质的陶瓷瓷砖的结构示意图；图2为本专利技术所述的填充介质的自动添加系统的结构示意图；图号说明L···纳米层2…瓷砖表面 3…填充介质 4…进口线架5…超洁亮纳米抛光机6…料斗7…电磁阀 8…气管9…振动器10…过滤网具体实施例方式下面结合实施例对本专利技术作进一步详细说明。本专利技术的陶瓷瓷砖的填充介质3，其包括以下重量百分比的组分碳酸氢钙 60-70%、纳米水30-40%。具体实施方式见表1:表1 填充介质的组成(重量百分比％ )权利要求1.一种陶瓷瓷砖的填充介质，其特征在于其包括以下重量百分比的组分碳酸氢钙60-70%、纳米水30-40%。2.一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统，其特征在于 其包括以下步骤a.经过抛光后的瓷砖从进口线架传递向超洁亮纳米抛光机时，设置在进口线架和超洁亮纳米抛光机之间的料斗内的碳酸氢钙撒落至砖面；b.瓷砖经过超洁亮纳米抛光机时，加温至25-35°C的纳米水滴落至砖面，其中步骤a中的碳酸氢钙与纳米水所占的重量百分比分别为碳酸氢钙60-70%、纳米水30-40%。c.利用超洁亮纳米抛光机的第一组、第二组磨盘加压、升温，使砖面温度也达到 25-35°C，同时施加4KG的压力，以增强碳酸氢钙和纳米水的渗透性；再通过磨盘的高速旋转，使碳酸氢钙和纳米水均勻的分布于砖面，并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。3.根据权利要求2所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统，其特征在于在所述的料斗顶部设置有通过电磁阀开关控制的气管，在料斗内部设置有振动器，在料斗的底部设置有过滤网，电磁阀、振动器分别与PLC连接。4.根据权利要求2所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统，其特征在于 在步骤b中所述的加温至25-35°C的纳米水，加温温度优选加温至30°C，步骤c中所述的砖面加温温度也优选加温至30°C。5.一种超洁亮陶瓷瓷砖，其特征在于在瓷砖表面和纳米层1之间添加权利要求1所述的填充介质，其包括以下重量百分比的组分碳酸氢钙60-70%、纳米水30-40%。6.一种根据权利要求2所述的陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统制备的超洁亮陶瓷瓷石专ο全文摘要一种陶瓷瓷砖的填充介质，其包括以下重量百分比的组分碳酸氢钙60-70％、纳米水30-40％；以及一种陶瓷瓷砖的填充介质的自动添加系统，将加温至25-35℃的纳米水与碳酸氢钙混合，通过超洁亮纳米抛光机使碳酸氢钙和纳米水均匀的分布于砖面，并完全渗透至稍大的砖面气孔和微裂纹之中。本专利技术提供的陶瓷瓷砖的填充介质、填充介质的自动添加系统，使用一种颗粒性大于纳米水的介质碳酸氢钙，与纳米水联合使用对较大的砖面毛孔和微裂纹进行填充，达到全面提升高档瓷砖的超洁亮防污性和砖面效果。文档编号B28B11/08GK102241058SQ201110157749公开日2011年11月16日 申请日期2011年6月10日 优先权日2011年6月10日专利技术者姜斌 申请人:霍镰泉本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种陶瓷瓷砖的填充介质，其特征在于：其包括以下重量百分比的组分：碳酸氢钙：６０－７０％、纳米水：３０－４０％。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：姜斌，
申请(专利权)人：霍镰泉，
类型：发明
国别省市：44