Particle preparation method of nano flake liquid, which comprises the following steps: (1) on a flat substrate can dissolve the sacrificial layer thin film material; (2) is deposited on the sacrificial layer of functional materials; (3) deposition and preparation of polymer materials nano pattern on the functional material layer (4); the polymer nano pattern as an etching mask, the etching technology nano pattern onto the functional material layer on the removal of excess and etching of polymer materials; (5) the use of suitable liquid will be dissolved and the sacrificial layer, liquid sheet functional materials of particles, particle shape and uniform nano pattern. The method of the invention can be applied to the preparation of lamellar liquid arbitrary pattern nano particles, nano particles can be single or multiple different material combinations; the preparation method is simple, high efficiency, low cost preparation of a minimum size of 5 nm, the minimum thickness of 0.1 nm and uniform size liquid nano photo particles can be very good to meet the actual demand.
【技术实现步骤摘要】
一种片状液相纳米颗粒制备方法
本专利技术属于纳米颗粒制备
,具体涉及一种片状液相纳米颗粒制备方法。
技术介绍
纳米颗粒材料,特别是液相的纳米颗粒材料作为纳米材料中的一个重要分支,已在新能源汽车,光催化反应,环境监测和保护,生命科学,医疗检测和治疗,光学器件,光电器件,纳米电子器件,复合材料等诸多领域得到了应用。然而,随着技术的发展,很多领域开始需要一些特殊形状的,片状的多种材料组合的复合纳米颗粒材料。目前,液相纳米颗粒的主要制备技术之一就是液相合成法,即在液相中通过化学反应合成制备纳米颗粒;这种方法虽然成本低,设备简单,在一定特殊的条件下也能合成核壳形,双面形,星形,棒状等非球形的纳米颗粒,但这种方法很难得到任意特殊形状的纳米颗粒,特别是多层不同的材料复合纳米颗粒,且往往均一性不是很好。近些年来,随着半导体行业的发展,以光刻技术为代表的微纳米加工技术也得到了很大发展。光刻工艺可以在平整衬底上实现任意形状均一的光刻胶阵列图案的精确制备,并通过后续刻蚀工艺将图案准确地传递到下层功能材料上。随着纳米加工技术的发展,纳米压印技术,干涉曝光技术,相分离技术,自组装技术 ...
【技术保护点】
一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征是包括如下步骤:步骤1)在平整衬底上沉积可溶解的牺牲层薄膜材料;步骤2)再在牺牲层上沉积功能材料;步骤3)在功能材料层上沉积并制备聚合物材料的纳米图案;步骤4)以聚合物材料的纳米图案作为刻蚀掩模,利用刻蚀技术将纳米图案转移到下层的功能材料层上,再用刻蚀技术除去多余的聚合物材料;步骤5)利用合适的液体将牺牲层溶解,同时得到液相的片状功能材料纳米颗粒,颗粒形状与纳米图案一致。
【技术特征摘要】
1.一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征是包括如下步骤:步骤1)在平整衬底上沉积可溶解的牺牲层薄膜材料;步骤2)再在牺牲层上沉积功能材料;步骤3)在功能材料层上沉积并制备聚合物材料的纳米图案;步骤4)以聚合物材料的纳米图案作为刻蚀掩模,利用刻蚀技术将纳米图案转移到下层的功能材料层上,再用刻蚀技术除去多余的聚合物材料;步骤5)利用合适的液体将牺牲层溶解,同时得到液相的片状功能材料纳米颗粒,颗粒形状与纳米图案一致。2.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述步骤1)的平整衬底为硅片,石英片,玻璃片,平整聚合物膜片。3.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述的步骤1)的牺牲层薄膜材料为可溶解的聚合物,氧化物,金属材料,其沉积方式为旋转涂膜,热蒸发沉积,外延生长,化学气相沉积,物理气相沉积。4.根据权利要求1所述的一种片状液相纳米颗粒制备方法,其特征在于:所述步骤2)的功能材料为金属,金属氧化物,石墨烯,二维薄膜材...
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