一种高精度ITO光刻工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高精度ITO光刻工艺，其包括以下步骤：ITO玻璃表面清洗；涂胶：对ITO玻璃表面上涂覆感光胶；前烘：对感光胶进行烘烤；曝光：将掩膜版与ITO玻璃上覆盖的感光胶层接触，再进行UV光照射；显影：显影阶段中：采用分段显影，第一次显影采用高浓度显影液将大部分的感光胶显掉，第二次显影采用低浓度的显影液将边缘残留的少部分高浓度显影液去掉；坚膜；刻蚀；去胶。本发明专利技术采用接触式曝光和分段式显影改善现有技术中容易产生不良的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种高精度ITO光刻工艺
本专利技术涉及ITO光刻
，特别是一种高精度ITO光刻工艺。
技术介绍
现有的ITO光刻技术可以做到10~30um的走线，一般走线越细生产难度越大，良率越低。主要是曝光、显影、蚀刻产生不良，尤其对于低电阻产品，更容易产生不良。曝光阶段：UV光会有少量散射，导致图案失真，线宽变小，线距变大，断线的几率升高。尤其是MASK距产品的距离越大，影响越大。如图1所示，为现有的曝光方式，在计划曝光区域7的两侧形成多余的曝光部分8。显影阶段：由于间隙太小，ITO间隙内的显影液不利于扩散，导致侧蚀、断线、边缘不齐等不良。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种高精度ITO光刻工艺。为解决上述技术问题，本专利技术所采取的技术方案是：一种高精度ITO光刻工艺，其包括以下步骤：ITO玻璃表面清洗；涂胶：对ITO玻璃表面上涂覆感光胶；前烘：对感光胶进行烘烤；曝光：将掩膜版与ITO玻璃上覆盖的感光胶层接触，再进行UV光照射；显影：利用显影液洗掉感光胶；坚膜；刻蚀；去胶。上述技术方案中，所述显影阶段中：采用分段显影，第一次显影采用高浓度显影液将大部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高精度ITO光刻工艺，其特征在于，包括以下步骤：ITO玻璃表面清洗；涂胶：对ITO玻璃表面上涂覆感光胶；前烘：对感光胶进行烘烤；曝光：将掩膜版与ITO玻璃上覆盖的感光胶层接触，再进行UV光照射；显影：利用显影液洗掉感光胶；坚膜；刻蚀；去胶。

【技术特征摘要】
1.一种高精度ITO光刻工艺，其特征在于，包括以下步骤：ITO玻璃表面清洗；涂胶：对ITO玻璃表面上涂覆感光胶；前烘：对感光胶进行烘烤；曝光：将掩膜版与ITO玻璃上覆盖的感光胶层接触，再进行UV光照射；显影：利用显影液洗掉感光胶；...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘翼辉，
申请(专利权)人：东莞通华液晶有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44