涂布组合物、固化膜及树脂层叠体制造技术

技术编号:1650611 阅读:159 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种固化膜,其在具有Si-O键的基质中分散有平均粒径为1~200nm的有机系紫外线吸收性粒子、平均粒径为1~200nm的无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及固化膜、透明固化膜、涂布组合物及利用该组合物实施了表面处理的树脂层叠体。
技术介绍
热塑性塑料特别是聚碳酸酯树脂由于透明性出色,质轻且抗冲击性优良,因此被广泛地用作取代玻璃的结构材料。但是,由于在耐划伤性、耐气候性及耐药品性等表面特性方面差,因此其用途受到限制,迫切希望将聚碳酸酯树脂基材的表面特性改良。作为表面特性的改良方法,有将聚碳酸酯树脂成形品的表面用表面处理剂覆盖的方法。例如,提出有在聚碳酸酯树脂基材的表面上形成由多官能丙烯酸系的光固化性树脂、蜜胺系或有机聚硅氧烷系的热固化性树脂构成的固化层的方法。它们当中,由于经有机硅氧烷系树脂覆盖了的产品在耐划伤性、耐药品性方面优良,因此被认为是有用的。但是,该利用有机硅氧烷系树脂的覆盖在与聚碳酸酯树脂的密合性方面存在问题,特别是在屋外长时间使用的情况下,会有涂敷层剥落这样的问题。另外,即使为了提高密合性或耐磨损性,而将有机硅氧烷系树脂的膜厚增大,也会有在固化时容易产生裂纹等问题,迫切希望进行改良。对于密合性的改良而言,专利文献1中提出过将粘接性良好的各种聚合物配合在涂料或硬质涂层材料中的方法,然而耐划伤性不够充分。另外,如果为了溶解聚合物而使用甲苯或四氢呋喃(THF)等有机溶剂,则由于侵蚀聚碳酸酯基材等的表面而难以形成透明的层叠体。有的情况下会使涂料或硬质涂层材料的耐气候性明显地降低。所以,在要求耐划伤性及耐气候性的用途中,通常为如下的双涂敷方式,即,在聚碳酸酯树脂基材上,涂布含有紫外线吸收剂的丙烯酸系或氨基甲酸酯系涂料作为底漆,再在其-->上涂布涂敷层(专利文献2)。但是,由于作业工序长,因此在生产性方面存在问题,迫切希望开发出单涂敷法。专利文献3中,提出有在由水性乳液和胶态二氧化硅构成的聚碳酸酯树脂上利用单涂敷形成热固化膜的技术,形成在利用有机微粒的熔融粘着而形成的有机膜内部分散了二氧化硅粒子的膜。虽然可以赋予与树脂基材的密合性,但是由于表层由有机微粒形成,因此难以赋予耐磨损性。专利文献4中,提出有利用单涂敷法实现耐划伤性和密合性的方法。该方法中,使用烷氧基硅烷的同时还使用含环氧基的硅烷偶联剂及氨基硅烷偶联剂中的至少一种作为硅烷偶联剂,在聚碳酸酯树脂基材上设置固化层。但是,由于在固化层中没有配合高分子紫外线吸收剂,因此耐气候性不能说是充分的。具体来说,该方法中记载有:作为硅烷偶联剂,优选使用含环氧基的硅烷偶联剂及氨基硅烷偶联剂中的至少一种,并相对于涂料中的不挥发成分(JIS K5401)100重量份,在5~10重量份的范围中使用硅烷偶联剂。在硅烷偶联剂少于5重量份的情况下,膜性、密合性降低,在超过10重量份的情况下,耐划伤性降低。如专利文献4的实施例6中所述,没有采用或没怎么采用耐紫外线配方的聚碳酸酯树脂层叠体耐气候性低,产生涂敷层的剥离。专利文献5中,公开有含有含硅酮的高分子紫外线吸收剂和聚有机硅氧烷的组合物。但是,正是因为将高分子紫外线吸收剂和聚有机硅氧烷混合,所以无法使分散稳定化。专利文献6中,公开有具有在二氧化硅中高度分散了具有紫外线吸收能力的高分子纳米粒子的膜内结构的透明固化膜。该透明固化膜虽然耐磨损性、紫外线遮挡性能及初期密合性优良,然而在耐久性(耐煮沸性)方面仍需要改良。专利文献1:日本特开平11—043646号公报专利文献2:日本特开2004—131549号公报专利文献3:日本特开2003—82272号公报专利文献4:日本特开2000—272071号公报专利文献5:日本特开2004—1393号公报-->专利文献6:WO2006/022347号小册子
技术实现思路
本专利技术鉴于上述问题,目的在于提供即使不使用底漆也对聚碳酸酯等树脂基材具有良好的密合性且具有优良的耐划伤性或耐气候性的固化膜、涂布组合物及树脂层叠体。本专利技术的又一目的在于提供即使不使用底漆也对聚碳酸酯等树脂基材具有良好的密合性且具有优良的耐划伤性、耐气候性及作为耐久性的尺度的耐煮沸性的固化膜、涂布组合物及树脂层叠体。本专利技术的又一目的在于提供即使不使用底漆也对聚碳酸酯等树脂基材具有良好的密合性且具有优良的耐划伤性、耐弯曲性、紫外线吸收能力及作为耐久性的尺度的耐煮沸性的固化膜、涂布组合物及树脂层叠体。本专利技术的又一目的在于提供上述固化膜、涂布组合物及树脂层叠体的制造方法。根据本专利技术,可以提供以下的固化膜、涂布组合物、树脂层叠体等。1.一种固化膜,其通过将平均粒径为1~200nm的有机系紫外线吸收性粒子、平均粒径为1~200nm的无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅分散于具有Si-O键的基质中而成。2.根据1所述的固化膜,其中,所述有机系紫外线吸收性粒子在固化膜中的体积百分率为0.5~70体积%。3.根据1或2中所述的固化膜,其中,所述固化膜中所含的无机氧化物的总换算重量为固化膜的总重量的30~80重量%。4.一种涂布组合物,其中,含有下述成分(1)~(7),(1)烷氧基硅烷化合物或聚烷氧基硅烷化合物,(2)氨基硅烷化合物,(3)环氧基硅烷化合物,(4)高分子紫外线吸收剂粒子,(5)固化催化剂,(6)无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅,(7)溶剂。-->5.根据4所述的涂布组合物,其中,所述成分(1)~(7)的配合量为下述的范围,成分(1):10~90重量%;成分(2):1~55重量%;成分(3):1~60重量%;成分(4):0.1~65重量%;成分(5):0.1~30重量%;成分(6):在成分(6)仅为无机系紫外线吸收性粒子的情况下,为0.1~50重量%,在成分(6)仅为胶态二氧化硅的情况下,为0.1~80重量%,在成分(6)为无机系紫外线吸收性粒子及胶态二氧化硅的情况下,无机系紫外线吸收性粒子为0.1~50重量%,胶态二氧化硅为0.1~80重量%;成分(7):在将成分(1)~(6)的合计设为100重量份时,为10~1000重量份。6.根据4或5所述的涂布组合物,其中,所述固化催化剂为有机酸。7.一种固化膜,其通过将4~6中的任意一项所述的涂布组合物固化而成。8.一种树脂层叠体,其是将1~3及7中的任意一项所述的固化膜形成于树脂基材上而成的。9.根据8所述的树脂层叠体,其中,浊度值在10%以下。10.根据9所述的树脂层叠体,其中,可见光线透过率在80%以上。11.一种涂布组合物的制造方法,其中,将下述成分(1)~(7)混合而进行配制,(1)烷氧基硅烷化合物或聚烷氧基硅烷化合物,(2)氨基硅烷化合物,(3)环氧基硅烷化合物,(4)高分子紫外线吸收剂粒子,(5)固化催化剂,-->(6)无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅,(7)溶剂。12.根据11所述的涂布组合物的制造方法,其中,制作至少含有成分(1)及成分(6)的混合液,最后混合成分(4)。13.一种固化膜的制造方法,其中,将4~6中的任意一项所述的涂布组合物加热而使之固化。14.一种固化膜,其将含有紫外线吸收基的平均粒径为1~200nm的有机微粒分散地包含于具有Si-O键的基质中,所述固化膜的可见光线透过率在80%以上,浊度值在10%以下,具有耐煮沸性。15.根据要求14所述的固化膜,其中,所述有机微粒在固化膜中的体积百分率为0.5~70体积%。16.根据14或15中所述的固化膜,其中,所述本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种固化膜,其通过将平均粒径为1~200nm的有机系紫外线吸收性粒子、平均粒径为1~200nm的无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅分散于具有Si-O键的基质中而成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2006-2-24 047965/2006;JP 2006-10-3 271452/2006;1.一种固化膜,其通过将平均粒径为1~200nm的有机系紫外线吸收性粒子、平均粒径为1~200nm的无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅分散于具有Si-O键的基质中而成。2.根据权利要求1所述的固化膜,其中,所述有机系紫外线吸收性粒子在固化膜中的体积百分率为0.5~70体积%。3.根据权利要求1或2中所述的固化膜,其中,所述固化膜中所含的无机氧化物的总换算重量为固化膜的总重量的30~80重量%。4.一种涂布组合物,其中,含有下述成分(1)~(7),(1)烷氧基硅烷化合物或聚烷氧基硅烷化合物,(2)氨基硅烷化合物,(3)环氧基硅烷化合物,(4)高分子紫外线吸收剂粒子,(5)固化催化剂,(6)无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅,(7)溶剂。5.根据权利要求4所述的涂布组合物,其中,所述成分(1)~(7)的配合量为下述的范围,成分(1):10~90重量%;成分(2):1~55重量%;成分(3):1~60重量%;成分(4):0.1~65重量%;成分(5):0.1~30重量%;成分(6):在成分(6)仅为无机系紫外线吸收性粒子的情况下,为0.1~50重量%,在成分(6)仅为胶态二氧化硅的情况下,为0.1~80重量%,在成分(6)为无机系紫外线吸收性粒子及胶态二氧化硅的情况下,无机系紫外线吸收性粒子为0.1~50重量%,胶态二氧化硅为0.1~80重量%;成分(7):在将成分(1)~(6)的合计设为100重量份时,为10~1000重量份。6.根据权利要求4或5所述的涂布组合物,其中,所述固化催化剂为有机酸。7.一种固化膜,其通过将权利要求4~6中的任意一项所述的涂布组合物固化而成。8.一种树脂层叠体,其是将权利要求1~3及权利要求7中的任意一项所述的固化膜形成于树脂基材上而成的。9.根据权利要求8所述的树脂层叠体,其中,浊度值在10%以下。10.根据权利要求9所述的树脂层叠体,其中,可见光线透过率在80%以上。11.一种涂布组合物的制造方法,其中,将下述成分(1)~(7)混合而进行配制,(1)烷氧基硅烷化合物或聚烷氧基硅烷化合物,(2)氨基硅烷化合物,(3)环氧基硅烷化合物,(4)高分子紫外线吸收剂粒子,(5)固化催化剂,(6)无机系紫外线吸收性粒子及/或胶态二氧化硅,(7)溶剂。12.根据权利要求11所述的涂布组合物的制造方法,其中,制作至少含有成分(1)及成分(6)的混合液,最后混合成分(4)。13.一种固化膜的制造方法,其中,将权利要求4~6中的任意一项所述的涂布组合物加热而使之固化。14.一种固化膜,其将含有紫外线吸收基的平均粒径为1~200nm的有机微粒分散地包含于具有Si-O键的基质中,所述固化膜的可见光线透过率在80%以上,浊度值在10%以下,具有耐煮沸性。15.根据权利要求14所述的固化膜,其中,所述有机微粒在固化膜中的体积百分率为0.5~70体积%。16.根据权利要求14或15中所述的固化膜,其中,所述固化膜中所含的Si来源成分的SiO2换算重量为固化膜的总重量的30~80重量%。17.一种涂布组合物,其中,含有下述成分(1’)~(7’),(1’)有机烷氧基硅烷化合物或聚有机烷氧基硅烷化合物,(2’)氨基硅烷化合物,(3’)环氧基硅烷化合物,(4’)封端异氰酸酯硅烷化合物,(5’)高分子紫外线吸收剂,(6’)固化催化剂,(7’)溶剂。18.根据权利要求17所述的涂布组合物,其中,所述成分(1’)~(7’)的配合量为下述的范围,(1’)有机烷氧基硅烷化合物或聚有机烷氧基硅烷化合物:10~80重量%,(2’)氨基硅烷化合物:1~60重量%,(3’)环氧基硅烷化合物:1~60重量%,(4’)封端异氰酸酯硅烷化合物:1~60重量%、(5’)高分子紫外线吸收剂:0.1~50重量%,(6’)固化催化剂:0.1~40重量%,(7’)溶剂:在将成分(1’)~(6’)的合计设为100重量份时,为5~1000重量份。19.根据权利要求17或18中所述的涂布组合物,其中,所述封端异氰酸酯硅烷化合物的封端剂为...

【专利技术属性】
技术研发人员:伊藤和彦中江贡关口真弘
申请(专利权)人:出光兴产株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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