溅射靶和溅射仪制造技术

本实用新型专利技术提供了一种溅射靶和溅射仪，溅射靶包括：溅射板，溅射板上设置有溅射孔；遮挡板，遮挡板遮挡在溅射孔处，遮挡板可运动地设置以调整遮挡板所遮挡的溅射孔的通流面积。本实用新型专利技术中的溅射靶解决了现有技术中的假体结构的寿命较低的问题。

Sputtering target and sputtering instrument

The utility model provides a sputtering target and the sputtering target comprises sputtering, sputtering plate, plate is provided with a splash of perforation; shielding plate, baffle plate shielding in the sputtering hole, shielding plate is movably arranged to adjust the perforation plate occlusion occlusion splash flow area. The sputtering target in the utility model solves the problem that the life of the prosthesis structure in the prior art is low.

【技术实现步骤摘要】
溅射靶和溅射仪
本技术涉及医学治疗领域，具体而言，涉及一种溅射靶和溅射仪。
技术介绍
Ti6Al4V合金因为较好的生物相容性、耐蚀性、高强度、弹性模量与骨皮质相近等优越性能，被广泛的用于医学领域。但是长期用于人体环境中将会释放Al、V离子。Al和V离子对人体具有毒性，致癌和致畸的可能。而且Al使Ti表面电位正移，在与血栓液接触的环境中会导致纤维蛋白的沉积而形成血栓，这就降低了材料使用的安全性和可靠性。目前，一些假体结构采用的材质是Ti6Al4V合金，由于Al、V离子析出会导致假体无菌性松动，降低了假体寿命。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种溅射靶和溅射仪，以解决现有技术中的假体结构的寿命较低的问题。为了实现上述目的，根据本技术的第一个方面，提供了一种溅射靶，包括：溅射板，溅射板上设置有溅射孔；遮挡板，遮挡板遮挡在溅射孔处，遮挡板可运动地设置以调整遮挡板所遮挡的溅射孔的通流面积。进一步地，遮挡板可移动地设置在溅射板上。进一步地，溅射孔为矩形孔，遮挡板矩形孔的长度方向可移动地设置。进一步地，遮挡板可转动地设置在溅射板上。进一步地，溅射靶还包括：驱动装置，驱动装置与遮挡板连接，以驱动遮挡本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅射靶，其特征在于，包括：溅射板(10)，所述溅射板(10)上设置有溅射孔(11)；遮挡板(20)，所述遮挡板(20)遮挡在所述溅射孔(11)处，所述遮挡板(20)可运动地设置以调整所述遮挡板(20)所遮挡的所述溅射孔(11)的通流面积。

【技术特征摘要】
1.一种溅射靶，其特征在于，包括：溅射板(10)，所述溅射板(10)上设置有溅射孔(11)；遮挡板(20)，所述遮挡板(20)遮挡在所述溅射孔(11)处，所述遮挡板(20)可运动地设置以调整所述遮挡板(20)所遮挡的所述溅射孔(11)的通流面积。2.根据权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述遮挡板(20)可移动地设置在所述溅射板(10)上。3.根据权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述溅射孔(11)为矩形孔，所述遮挡板(20)所述矩形孔的长度方向可移动地设置。4.根据权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述遮挡板(20)可转动地设置在所述溅射板(10)上。5.根据权利要求1所述的溅射靶，其特征在于，所述溅射靶还包括：驱动装置(50)，所述驱动装置(50)与所述遮挡板(20)连接，以驱...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟德松，
申请(专利权)人：北京爱康宜诚医疗器材有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11