液晶面板的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种液晶面板的制作方法，涉及显示面板的制造技术领域，用于解决现有技术中存在的图形的均匀性较差的技术问题。本发明专利技术的液晶面板的制作方法，包括在玻璃基板上形成薄膜晶体管阵列和底层的步骤，在底层上涂布光刻胶材料步骤，以及对光刻胶材料进行图案化处理获得具有不同断差的平坦层的步骤，通过利用半色调掩膜版对光刻胶材料进行图案化处理，可获得具有不同断差的平坦层，该平坦层为黑色光阻材料提供了所需的地形与断差，因此无需黑色光阻材料自身形成期望的断差，即可保证黑色光阻材料形成的图形具有高度均匀性和一致性，从而保证了产品的质量。

【技术实现步骤摘要】
液晶面板的制作方法
本专利技术涉及显示面板的制造
，特别地涉及一种液晶面板的制作方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，成为显示装置中的主流而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品。因此，追求更好观影效果如曲面显示器，并且更低成本的显示面板已成为技术开发人员持之以恒的研究课题。传统的液晶面板的制作方法中需要使用黑色光阻(BlackPhotoSpacer，BPS)材料。在制程中，采用半色调掩膜版(Multi-ToneMask)对BPS材料进行光刻工艺，从而使BPS材料形成三个具有不同的膜厚差异的图形，这三个图形分别起到了主隔垫物(MainPS)、副隔垫物(SubPS)以及黑色矩阵(BlackMatrix，BM)的功能。然而在实际开发中，主要遇到了以下的问题：对BPS材料进行光刻工艺后，获得的上述三种图形的高度均匀性较差，造成良率低下、生产成本升高的问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种液晶面板的制作方法，用于解决现有技术中存在的图形的均匀性较差的技术问题。本专利技术提供一种液晶面板的制作方法，包括分别形成上基板和下基板的步骤，其中，形成所述下基板包括以下步骤：S10：在玻璃基板上形成薄膜晶体管阵列和底层；S20：在所述底层上涂布光刻胶材料；S30：采用半色调掩膜版对所述光刻胶材料进行图案化处理，获得具有不同断差的平坦层；S40：在所述平坦层上涂布黑色光阻材料，并进行图案化处理后分别获得黑色矩阵、位于所述黑色矩阵上的主隔垫物以及位于所述黑色矩阵上的辅助隔垫物。在一个实施方式中，所述平坦层包括第一图形、第二图形和第三图形；所述第一图形与所述第三图形之间的断差大于所述第二图形与所述第三图形之间的断差。在一个实施方式中，所述半色调掩膜版包括用于形成所述第一图形的不透光部、用于形成所述第二图形的第一透光部以及用于形成所述第三图形的第二透光部；所述不透光部的透光率A0为0，所述第一透光部的透光率A1和所述第二透光部的透光率A2满足下列关系式：0<A1<A2<100。在一个实施方式中，所述主隔垫物位于所述第一图形的正上方，所述辅助隔垫物位于所述第二图形的正上方，所述主隔垫物与所述黑色矩阵之间的断差大于所述辅助隔垫物与所述黑色矩阵之间的断差。在一个实施方式中，所述黑色光阻材料为负性光阻材料；所述光刻胶材料为正性光刻胶材料；所述黑色光阻材料的光学密度大于或等于1.0。在一个实施方式中，S10中在玻璃基板上形成薄膜晶体管阵列包括以下子步骤：S11：在所述玻璃基板上形成金属层栅极；S12：在所述金属层栅极上形成有源层；S13：在所述有源层上分别形成源极和漏极。在一个实施方式中，所述底层包括位于所述有源层上的保护层以及位于所述保护层上的色组层。在一个实施方式中，在所述平坦层上涂布黑色光阻材料之前，分别对所述保护层进行蚀刻处理和进行氧化铟锡镀膜及图案化处理。与现有技术相比，本专利技术的优点在于：(1)通过利用半色调掩膜版对光刻胶材料进行图案化处理，可获得具有不同断差的平坦层，该平坦层为黑色光阻材料提供了所需的地形与断差，因此无需黑色光阻材料自身形成期望的断差，即可保证黑色光阻材料形成的图形具有高度均匀性和一致性，从而保证了产品的质量。(2)通过黑色光阻材料形成黑色矩阵以及主隔垫物、副隔垫物，即黑色矩阵和主隔垫物、副隔垫物采用相同的材料且在同一道工艺制程中就可以完成，因此可以减少生产周期、降低生产成本，提高了产品的竞争力。(3)由于黑色光阻材料无需自身形成期望的断差，因此一方面降低了黑色光阻材料的开发难度，保证了工艺的稳定性；另一方面，增加了黑色光阻材料选材的多样性，使黑色光阻材料的信赖性得到保证。附图说明在下文中将基于实施例并参考附图来对本专利技术进行更详细的描述。图1为本专利技术的实施例中液晶面板的制作方法的流程图；图2为本专利技术的实施例中平坦层的剖视图；图3为本专利技术的实施例中下基板的俯视图；图4为图3在A-A处的剖视图；图5为本专利技术的实施例中半色调掩膜版的结构示意图。附图标记：1-平坦层；3-底层；4-薄膜晶体管阵列；5-半色调掩膜版；6-玻璃基板；11-第一图形；12-第二图形；13-第三图形；21-黑色矩阵；22-主隔垫物；23-辅助隔垫物；31-保护层；32-色组层；41-金属层栅极；42-有源层；43-源极；44-漏极；51-不透光部；52-第一透光部；53-第二透光部。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术作进一步说明。如图1所示，本专利技术提供了一种液晶面板的制作方法，其包括分别形成上基板和下基板的步骤，其中，形成下基板包括以下步骤：第一步：在玻璃基板6上形成薄膜晶体管阵列4和底层3。进一步地，本实施例一种形成薄膜晶体管阵列4的方法，包括以下的操作步骤：首先，在玻璃基板6上形成金属层栅极41；其次，在金属层栅极(Gate)41上形成栅极绝缘层(GI)、有源层42和欧姆接触层；最后，在有源层42上分别形成源极(Source)43和漏极(Drain)44。即，薄膜晶体管阵列4包括从下到上依次设置的金属层栅极41、栅极绝缘层、有源层42、欧姆接触层、源极43和漏极44。进一步地，本实施例中底层3包括位于有源层42上的保护层(PV)31以及位于保护层31上的色组层(R/G/B)32。第二步：在底层3上涂布光刻胶材料。具体地，在上一步中的色组层32上涂布光刻胶材料(PolymerFilmonArray，PFA)，其中，光刻胶材料可选用正性光刻胶材料。第三步：采用半色调掩膜版5对光刻胶材料进行图案化处理，获得具有不同断差的平坦层1。本专利技术中，断差是指两个不同的图形之间的高度差。具体地，平坦层1包括第一图形11、第二图形12和第三图形13；如图2所示，第一图形11与第三图形13之间的断差h1大于第二图形12与第三图形13之间的断差h2，图中第一图形11与第二图形12之间的高度差为Δh，Δh＝h1-h2。形成上述平坦层1的原因是：正性光刻胶材料具有经过紫外光照射过的区域会在显影过程中被显影液去除、而遮光区域则得以保留的特性。正性光刻胶材料在紫外光照射后，曝光区的邻重氮化合物发生光解反应重排生成茚羧酸，使胶膜加速溶于稀碱水溶液，而未曝光区由于没有发生变化，则没有加速作用，因此在曝光区和未曝光区产生了溶解速率差，最终即可实现光刻胶图形化以及产生不同断差的图形。在本实施例中，半色调掩膜版5包括用于形成第一图形11的不透光部51、用于形成第二图形12的第一透光部52以及用于形成第三图形13的第二透光部53；如图5所示。其中，不透光部51的透光率A0为0，第一透光部52的透光率A1和第二透光部53的透光率A2满足下列关系式：0<A1<A2<100。第一透光部52和第二透光部53，由于受到光照的程度不同，导致光刻胶发生不同深浅程度的光解反应，第二透光部53对应的光刻胶材料上的区域(即第二图形12所在的区域)受到的光照量大，因而发生光解反应的深度也要高于第一透光部52对应的光刻胶材料上的区域(即第三图形13所在的区域)；不透光部51对应光刻胶材料上的区本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶面板的制作方法，包括分别形成上基板和下基板的步骤，其特征在于，形成所述下基板包括以下步骤：S10：在玻璃基板(6)上形成薄膜晶体管阵列(4)和底层(3)；S20：在所述底层(3)上涂布光刻胶材料；S30：采用半色调掩膜版(5)对所述光刻胶材料进行图案化处理，获得具有不同断差的平坦层(1)；S40：在所述平坦层(1)上涂布黑色光阻材料，并进行图案化处理后分别获得黑色矩阵(21)、位于所述黑色矩阵(21)上的主隔垫物(22)以及位于所述黑色矩阵(21)上的辅助隔垫物(23)。

【技术特征摘要】
1.一种液晶面板的制作方法，包括分别形成上基板和下基板的步骤，其特征在于，形成所述下基板包括以下步骤：S10：在玻璃基板(6)上形成薄膜晶体管阵列(4)和底层(3)；S20：在所述底层(3)上涂布光刻胶材料；S30：采用半色调掩膜版(5)对所述光刻胶材料进行图案化处理，获得具有不同断差的平坦层(1)；S40：在所述平坦层(1)上涂布黑色光阻材料，并进行图案化处理后分别获得黑色矩阵(21)、位于所述黑色矩阵(21)上的主隔垫物(22)以及位于所述黑色矩阵(21)上的辅助隔垫物(23)。2.根据权利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述平坦层(1)包括第一图形(11)、第二图形(12)和第三图形(13)；所述第一图形(11)与所述第三图形(13)之间的断差大于所述第二图形(12)与所述第三图形(13)之间的断差。3.根据权利要求2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述半色调掩膜版(5)包括用于形成所述第一图形(11)的不透光部(51)、用于形成所述第二图形(12)的第一透光部(52)以及用于形成所述第三图形(13)的第二透光部(53)；所述不透光部(51)的透光率A0为0，所述第一透光部(52)的透光率A1和所述第二透光部(53)的透光率A2满足下列关系式：0<A1<...

【专利技术属性】
技术研发人员：于承忠，陈孝贤，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44