阵列基板及其制造方法与应用的显示面板技术

本发明专利技术提供一种阵列基板及其制造方法与应用的显示面板，所述阵列基板包括：一第一基底；一第一导电层，形成于所述第一基底上；一导电覆盖层，形成于所述第一基底上，覆盖所述第一导电层；一第二导电层，形成于所述导电覆盖层上；一第一钝化层，形成于所述导电覆盖层上，覆盖所述第二导电层，所述第一钝化层形成一凹部；一共同电极，形成于所述第一钝化层上，其中，部分所述共同电极形成于所述凹部内部；一第二钝化层，形成于所述共同电极上；一画素电极，形成于所述第二钝化层上，且位于所述凹部内部。其可以提升液晶效率，还可以提高画素穿透率，以提高面板显示品质。

Array substrate, method for manufacturing the same, and display panel for use

The present invention provides a display panel and application of an array substrate and a manufacturing method thereof, wherein the array substrate includes a first substrate; a first conductive layer is formed on the first substrate; a conductive layer is formed on the first substrate covering the first conductive layer; a second conductive layer. Formed on the conductive layer; a first passivation layer formed on the conductive layer, covering the second conductive layer, forming a concave part of the first passivation layer; a common electrode, formed on the first passivation layer, wherein, parts of the common electrode formed on the inside the recess; a second passivation layer is formed on the common electrode; a pixel electrode is formed on the second passivation layer, and is located in the inner concave part. It can enhance the efficiency of liquid crystal, but also can improve the pixel penetration rate, to improve the display quality of the panel.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制造方法与应用的显示面板
本专利技术涉及一种制造方式，特别是涉及一种阵列基板及其制造方法与应用的显示面板。
技术介绍
随着科技进步，具有省电、无幅射、体积小、低耗电量、平面直角、高分辨率、画质稳定等多项优势的液晶显示器，尤其是现今各式信息产品如：手机、笔记本电脑、数字相机、PDA、液晶屏幕等产品越来越普及，亦使得液晶显示器(LCD)的需求量大大提升。而液晶显示面板的通常是由一彩膜基板(ColorFilter，CF)、一薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)以及一配置于两基板间的液晶层(LiquidCrystalLayer，LCD)所构成，其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模块的光线折射出来产生画面。按照液晶的取向方式不同，目前主流市场上的液晶显示面板可以分为以下几种类型：垂直配向(VerticalAlignment，VA)型、扭曲向列(TwistedNematic，TN)或超扭曲向列(SuperTwistedNematic，STN)型、平面转换本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：一第一基底；一第一导电层，形成于所述第一基底上；一导电覆盖层，形成于所述第一基底上，覆盖所述第一导电层；一第二导电层，形成于所述导电覆盖层上；一第一钝化层，形成于所述导电覆盖层上，覆盖所述第二导电层，所述第一钝化层形成一凹部；一共同电极，形成于所述第一钝化层上，其中，部分所述共同电极形成于所述凹部内部；一第二钝化层，形成于所述共同电极上；一画素电极，形成于所述第二钝化层上，且位于所述凹部内部。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：一第一基底；一第一导电层，形成于所述第一基底上；一导电覆盖层，形成于所述第一基底上，覆盖所述第一导电层；一第二导电层，形成于所述导电覆盖层上；一第一钝化层，形成于所述导电覆盖层上，覆盖所述第二导电层，所述第一钝化层形成一凹部；一共同电极，形成于所述第一钝化层上，其中，部分所述共同电极形成于所述凹部内部；一第二钝化层，形成于所述共同电极上；一画素电极，形成于所述第二钝化层上，且位于所述凹部内部。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述共同电极为铟锡氧化物及所述画素电极为铟锡氧化物。3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一钝化层使用光掩模版及所述第二钝化层使用光掩模版。4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板的横截面形状为一凹部形状或一圆弧形状。5.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：提供一第一基底；将第一导电层形成于所述第一基底上；将一导电覆盖层形成于所述第一基底上，并覆...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈猷仁，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44