对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼制造方法及图纸

技术编号:16208116 阅读:50 留言:0更新日期:2017-09-15 14:49
本实用新型专利技术涉及对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼,腐蚀笼本体的中心处设有旋转轴,两端设有固定活动花杆,固定花杆和配合花杆的挡板;活动花杆在挡板处设有活动槽,活动槽为圆弧状,轴心为腐蚀笼本体的回转中心;活动花杆和固定花杆分别设有对应的卡槽。活动花杆和固定花杆配合固定硅片,活动花杆设有活动槽,方便硅片的夹持和取下,配合花杆的增加可为硅片在360°上都可以提供充足的转向动力。本实用新型专利技术方便安装,高效腐蚀,减少损伤。

The corresponding corrosion cage precision alignment rewind device wafer

The utility model relates to a silicon wafer alignment corresponding corrosion cage at the center of the rewinder, corrosion cage body is provided with a rotating shaft, both ends of a fixed rod rod with fixed activities, and the rod baffle; a groove in the activities of rod baffle, a movable groove is arc-shaped, axis rotation center corrosion cage body; card slot activity and rod are respectively provided with the corresponding fixed rod. Flower and flower activities with fixed fixed wafer, is provided with a movable rod activity slot, and convenient to clip the wafer, with the increase of the power steering rod can provide sufficient for wafer can be 360 degrees. The utility model has the advantages of convenient installation, high efficiency corrosion and damage reduction.

【技术实现步骤摘要】
对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼
本技术涉及硅片腐蚀设备领域,特别是一种方便安装,高效腐蚀,减少损伤的对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼。
技术介绍
在大部分4~6寸半导体衬底制造厂的腐蚀加工,往往使用人员手动吸取硅片进行插片取片作业。这样存在作业时间相对较长并且在手动作业时引起硅片有擦碰不良。硅片腐蚀一般需要经过倒片,转动腐蚀,取片的过程,一次腐蚀的数量越多,效率越高。现有的腐蚀笼倒片数量较少,不能有效提高产能。倒片和取片的夹持方式需进一步改进,减少硅片在夹放过程中的损伤。现有技术中需要一种方便安装,高效腐蚀,减少损伤的对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种方便安装,高效腐蚀,减少损伤的对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼。对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼,包括:腐蚀笼本体,所述腐蚀笼本体的中心处设有旋转轴,两端设有固定活动花杆,固定花杆和配合花杆的挡板;所述活动花杆在挡板处设有活动槽,所述活动槽为圆弧状,轴心为腐蚀笼本体的回转中心;所述活动花杆和固定花杆分别设有对应的卡槽。所述活动花杆和固定花杆分别设为四段,每段设有25个卡槽。所述配合花杆共有四根。所述配合花杆中的三根靠近固定花杆,另外一根靠近活动花杆。所述靠近固定花杆的三根配合花杆均匀分布。所述活动花杆,固定花杆和配合花杆的轴心共圆,圆心为腐蚀笼本体的轴心。本技术腐蚀笼本体的中心处设有旋转轴,两端设有固定活动花杆,固定花杆和配合花杆的挡板;活动花杆在挡板处设有活动槽,活动槽为圆弧状,轴心为腐蚀笼本体的回转中心;活动花杆和固定花杆分别设有对应的卡槽。活动花杆和固定花杆配合固定硅片,活动花杆设有活动槽,方便硅片的夹持和取下,配合花杆的增加可为硅片在360°上都可以提供充足的转向动力。本技术方便安装,高效腐蚀,减少损伤。附图说明图1为本技术的主视图;图2为A-A向的剖面图;图3为B-B向的剖面图;图中:1、腐蚀笼本体,2、活动花杆,3、固定花杆,4、活动槽,5、配合花杆。具体实施方式以下结合附图和具体实施例,对本技术做进一步说明。实施例1:对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼,包括:腐蚀笼本体1,腐蚀笼本体1的中心处设有旋转轴,两端设有固定活动花杆2,固定花杆3和配合花杆5的挡板;活动花杆2在挡板处设有活动槽4,活动槽4为圆弧状,轴心为腐蚀笼本体1的回转中心;活动花杆2和固定花杆3分别设有对应的卡槽。活动花杆2和固定花杆3分别设为四段,每段设有25个卡槽。配合花杆5共有四根。配合花杆5中的三根靠近固定花杆3,另外一根靠近活动花杆2。靠近固定花杆3的三根配合花杆5均匀分布。活动花杆2,固定花杆3和配合花杆5的轴心共圆,圆心为腐蚀笼本体1的轴心腐蚀笼的设计考量与片盒的对准性:腐蚀笼的卡槽与半导体标准片盒卡槽向对准,以为翻转倒片(避免硅片面接触带来的表面污染)提供可行性。活动花杆和固定花杆配合固定硅片,活动花杆设有活动槽,方便硅片的夹持和取下,配合花杆的增加可为硅片在360°上都可以提供充足的转向动力,可以提升现有产能。腐蚀笼的设计为4段,每段的设计正好可以与半导体标准片盒对准,每段设有25个卡槽,一次夹取5片,安装时调整活动花杆2在活动槽4中的位置,方便固定。总长度可以匹配腐蚀机械臂。腐蚀笼的滚轴位置设计为硅片在360°上都可以提供充足的转向动力。以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本技术不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理,在不脱离本技术精神和范围的前提下本技术还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。本文档来自技高网...
对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼

【技术保护点】
对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼,其特征在于,包括:腐蚀笼本体(1),所述腐蚀笼本体(1)的中心处设有旋转轴,两端设有固定活动花杆(2),固定花杆(3)和配合花杆(5)的挡板;所述活动花杆(2)在挡板处设有活动槽(4),所述活动槽(4)为圆弧状,轴心为腐蚀笼本体(1)的回转中心;所述活动花杆(2)和固定花杆(3)分别设有对应的卡槽。

【技术特征摘要】
1.对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼,其特征在于,包括:腐蚀笼本体(1),所述腐蚀笼本体(1)的中心处设有旋转轴,两端设有固定活动花杆(2),固定花杆(3)和配合花杆(5)的挡板;所述活动花杆(2)在挡板处设有活动槽(4),所述活动槽(4)为圆弧状,轴心为腐蚀笼本体(1)的回转中心;所述活动花杆(2)和固定花杆(3)分别设有对应的卡槽。2.根据权利要求1所述的对应硅片精密对准倒片装置的腐蚀笼,其特征在于,所述活动花杆(2)和固定花杆(3)分别设为四段,每段设有25个卡槽。3.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:施炜青贺贤汉
申请(专利权)人:上海申和热磁电子有限公司
类型:新型
国别省市:上海,31

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