本发明专利技术公开了一种晶圆自动清洗装置，涉及晶圆清洗技术领域，包括箱体、过滤箱、电机、底座，箱体上设有操作板，操作版下侧设有插入孔，箱体一侧固定设有过滤箱，电机输出轴固定连接有均匀排列的连接杆，连接杆上通过关节连接有摆动柱，输出轴顶端固定设有与连接杆相匹配的固定架，过滤箱通过水泵连接有水管，水管上设有水阀，水管另一端固定设有加粗管，加粗管另一端固定连接有喷淋头，加粗管内设有旋转柱，且旋转柱上均匀的设有螺旋桨，旋转柱固定连接有毛刷盘，毛刷盘上设有毛刷。本发明专利技术结构简单，便于操作，能够对晶圆自动清洗，在清洗的过程中防止吸盘对清洗后的晶圆污染，且清洗全面，能够在清洗的时候对晶圆进行刷洗，适合推广。适合推广。适合推广。
【技术实现步骤摘要】
一种晶圆自动清洗装置
[0001]本专利技术属于晶圆清洗
，具体涉及一种晶圆自动清洗装置。
技术介绍
[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅，晶圆的制造工艺中，晶圆清洗是将晶圆在不断被加工成形及抛光处理的过程中，由于与各种有机物、粒子及金属接触而产生的污染物清除的工艺，清洗占据重要一环，随着制程的演进，如何将晶圆的清洗更加充分，对于晶圆在清洗过程中如何保护成为一个难题，且降低设备的成本，使其实用性更强，故此，本专利技术提出一种可以在清洗的同时对晶圆进行刷洗的晶圆自动清洗设备。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是提供一种晶圆自动清洗装置，结构简单，便于操作，能够对晶圆自动清洗，在清洗的过程中防止吸盘对清洗后的晶圆污染，且清洗全面，能够在清洗的时候对晶圆进行刷洗，适合推广。
[0004]本专利技术提供了如下的技术方案：一种晶圆自动清洗装置，包括箱体、过滤箱、电机、底座，所述箱体上设有操作板，所述操作版下侧设有插入孔，所述箱体一侧固定设有过滤箱，所述箱体内下表面固定设有底板，所述底板四角固定设有支撑架，所述支撑架上固定设有稳定架，所述稳定架中心处固定设有电机，所述支撑架顶端固定设有支撑板，所述支撑板上固定设有挡环，所述挡环内设有固定在支撑板上的底座，所述底座两侧设有流水槽，所述底座上表面固定设有环形轨道，所述环形轨道上设有凹槽，所述底座位于流水槽内固定设有下电控吸盘，所述电机的输出轴贯穿支撑板与底座延伸至底座的上方，所述输出轴固定连接有均匀排列的连接杆，所述连接杆上通过关节连接有摆动柱，所述输出轴顶端固定设有与连接杆相匹配的固定架，所述摆动柱上方固定设有稳定座，所述稳定座上固定设有压缩弹簧，所述压缩弹簧另一端与固定架固定相连；
[0005]所述过滤箱通过水泵连接有水管，所述水管上设有水阀，所述水管另一端固定设有加粗管，所述加粗管另一端固定连接有喷淋头，所述加粗管内设有旋转柱，且旋转柱上均匀的设有螺旋桨，所述喷淋头中心处贯穿设有凸块，所述凸块内贯穿设有稳定块，所述稳定块与旋转柱固定相连，所述旋转柱另一端固定连接有毛刷盘，所述毛刷盘上均匀的设有毛刷。
[0006]优选地，摆动柱远离输出轴的一端固定设有上电控吸盘。
[0007]优选地，插入孔内可拆卸设有插入槽，所述插入槽内固定设有位置与上电控吸盘相匹配的供应槽，所述供应槽内设置有弹簧盘，弹簧盘上放置有待清洗的晶圆。
[0008]优选地，水管有两条，一条水管的喷淋头位于下电控吸盘的上方，另一条水管的喷淋头位于上电控吸盘的下方，所述喷淋头位于凸块的周围均匀的设有喷孔。
[0009]优选地，毛刷由耐腐蚀的柔性材料构成，所述毛刷延伸至下电控吸盘与上电控吸盘的吸盘处。
[0010]优选地，流水槽的底部设有排水孔，排水孔连接的管道与过滤箱相连。
[0011]优选地，关节内设有上下摆动的滑动，所述环形轨道上滑动设有滑块，所述滑块上方与摆动柱固定相连。
[0012]本专利技术的有益效果：结构简单，便于操作，能够对晶圆自动清洗，在清洗的过程中防止吸盘对清洗后的晶圆污染，且清洗全面，能够在清洗的时候对晶圆进行刷洗，具体如下：
[0013](1)、本专利技术设有插入孔，在使用时，将晶圆放入供应槽中，将插入槽插入到插入孔中固定，电机运转，输出轴开始旋转，连接杆与固定架旋转，摆动柱上的滑块在环形轨道上运动，在摆动柱带动上电控吸盘移动至晶圆上方时，上电控吸盘将晶圆吸取，当上电控吸盘将晶圆移动至喷淋头处时进行清洗，清洗完毕后，输出轴继续旋转，旋转至环形轨道上的凹槽处时，滑块滑入凹槽，并在压缩弹簧的推动下带动摆动柱下沉，当滑块滑动至凹槽的最底端时，摆动柱带动上电控吸盘移动至下电控吸盘的正下方，上电控吸盘将晶圆释放，下电控吸盘将晶圆吸取，将晶圆的另一面进行清洗，使晶圆的清洗更加全面。
[0014](2)、本专利技术设有喷淋头，当水管上的水阀打开后，水管通过水流，在水流流经加粗管处时，螺旋桨在水流的作用下旋转，带动旋转柱旋转，旋转柱通过稳定块在喷淋头实现稳定旋转，在旋转柱带动毛刷盘旋转，使水流通过喷孔喷出的同时，毛刷旋转在晶圆的清洗表面，实现在喷淋时进行洗刷。
[0015](3)、本专利技术设有流水槽，当喷淋头喷水洗刷时，清洗废水流入流水槽中，通过流水槽的底部设有排水孔，排水孔连接的管道与过滤箱相连，过滤箱将废水进行过滤，过滤后的水再通过水泵导入到水管中，进行水源的循环利用。
附图说明
[0016]附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：
[0017]图1是本专利技术的整体示意图；
[0018]图2是本专利技术的内部示意图；
[0019]图3是本专利技术的喷淋头示意图；
[0020]图4是本专利技术中喷淋头剖视图；
[0021]图5是本专利技术中A处放大图；
[0022]图中标记为：1箱体、2操作板、3插入孔、4过滤箱、5底板、6支撑架、7稳定架、8电机、9支撑板、10挡环、11底座、12环形轨道、13凹槽、14输出轴、15连接杆、16关节、17固定架、18水管、19水阀、20喷淋头、21下电控吸盘、22插入槽、23供应槽、24加粗管、25旋转柱、26稳定块、27凸块、28螺旋桨、29毛刷盘、30喷孔、31毛刷、32摆动柱、33流水槽、34上电控吸盘、35稳定座、36压缩弹簧、37滑块。
具体实施方式
[0023]下面结合具体实施例，进一步阐述本专利技术。这些实施例仅用于说明本专利技术而不用
于限制本专利技术的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设有”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0024]现结合说明书附图，详细说明本专利技术的结构特点。
[0025]参见图1
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2，一种晶圆自动清洗装置，包括箱体1、过滤箱4、电机8、底座11，所述箱体1上设有操作板2，通过操作板2对装置进行操作，同时对其内部运行状况进行观察，所述操作版2下侧设有插入孔3，通过插入孔3提供插入槽22的放置空间，同时对插入槽22进行固定，所述箱体1一侧固定设有过滤箱4，通过过滤箱4对水管18供应清洗液，同时对流水槽33流入的废水进行过滤，所述箱体1内下表面固定设有底板5，通多底板5支撑地面，所述底板5四角固定设有支撑架6，通过支撑架6对清洗装置进行支撑，所述支撑架6上固定设有稳定架7，通过稳定架7对电机8进行固定，防止其在运转的过程中对装置产生剧烈的震动等影响因素，所述稳定架7中心处固定设有电机8，通过电机8进本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶圆自动清洗装置，包括箱体(1)、过滤箱(4)、电机(8)、底座(11)，其特征在于，所述箱体(1)上设有操作板(2)，所述操作版(2)下侧设有插入孔(3)，所述箱体(1)一侧固定设有过滤箱(4)，所述箱体(1)内下表面固定设有底板(5)，所述底板(5)四角固定设有支撑架(6)，所述支撑架(6)上固定设有稳定架(7)，所述稳定架(7)中心处固定设有电机(8)，所述支撑架(6)顶端固定设有支撑板(9)，所述支撑板(9)上固定设有挡环(10)，所述挡环(10)内设有固定在支撑板(9)上的底座(11)，所述底座(11)两侧设有流水槽(33)，所述底座(11)上表面固定设有环形轨道(12)，所述环形轨道(12)上设有凹槽(13)，所述底座(11)位于流水槽(33)内固定设有下电控吸盘(21)，所述电机(8)的输出轴(14)贯穿支撑板(9)与底座(11)延伸至底座(11)的上方，所述输出轴(14)固定连接有均匀排列的连接杆(15)，所述连接杆(15)上通过关节(16)连接有摆动柱(32)，所述输出轴(14)顶端固定设有与连接杆(15)相匹配的固定架(17)，所述摆动柱(32)上方固定设有稳定座(35)，所述稳定座(35)上固定设有压缩弹簧(36)，所述压缩弹簧(36)另一端与固定架(17)固定相连；所述过滤箱(4)通过水泵连接有水管(18)，所述水管(18)上设有水阀(19)，所述水管(18)另一端固定设有加粗管(24)，所述加粗管(24)另一端固定连接有喷淋头(20)，所述加粗管(24)内设有旋转柱(25)，且旋转柱(25)上均匀的设有螺旋...
【专利技术属性】
技术研发人员：贺贤汉，杉原一男，佐藤泰幸，原英樹，
申请(专利权)人：上海申和热磁电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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