【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种特别适合在使用远紫外线、电子射线、X射线等各种放射线的微细加工中使用的正型辐射敏感性树脂组合物中作为辐射敏感性酸产生剂的新颖的锍盐化合物、由该锍盐化合物构成的辐射敏感性酸产生剂和含有该辐射敏感性酸产生剂的正型辐射敏感性树脂组合物。
技术介绍
在以半导体设备的制造为代表的微细加工领域中，高集成化进一步发展，近年来正要求可以在线宽不到0.20μm的水平下进行微细加工的微细加工技术。作为实现该图案的微细化的方法能举例有使曝光光源短波长化的方法，目前正从现有使用的g线和i线向KrF准分子激光(波长248nm)、ArF准分子激光(波长193nm)、F2准分子激光(波长157nm)或EUV(波长13nm等)更新换代。另一方面，对于和这些处理步骤对应的光致抗蚀剂材料，如果是在g线和i线下使用的酚醛清漆树脂和二叠氮基萘醌组成的光致抗蚀剂，因为其在远紫外线区域有强的吸收，形成的图案呈锥状，难以形成微细的图案。而且，由于该光致抗蚀剂在曝光时光反应的量子收率在1以下，感光度低，而准分子激光的振荡气体的寿命短，在使用光致抗蚀剂的情况下用准分子激光来照射容易使透镜受损，...
【技术保护点】
一种由下述通式（Ⅰ）表示的锍盐化合物，＊＊＊（Ⅰ）通式（Ⅰ）中，Ｒ↑［１］表示卤素原子、碳原子数为１～１４的直链或支链烷基、具有脂环骨架的碳原子数为３～１４的１价烃基、碳原子数为１～１４的直链或支链烷氧基、－ＯＲ↑［３］ 基（Ｒ↑［３］表示具有脂环骨架的碳原子数为３～１４的１价烃基）、碳原子数为１～１４的直链或支链的烷基对氨基苯磺酰基、具有脂环骨架的碳原子数为３～１４的有机对氨基苯磺酰基、碳原子数为１～１４的直链或支链的链烷磺酰基、或者具有脂环骨架的碳原子数为３～１４的有机磺酰基，存在多个Ｒ↑［１］时彼此可以相同或不同，Ｒ↑［２］表示取...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：宫松隆，庭田弘一，江幡敏，王勇，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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