硅片自动清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及清洗设备技术领域，尤其是涉及一种硅片自动清洗装置，包括机架及设置在机架上的水槽，所述水槽内设有超声波发生器，所述机架上滑动设置有支架，所述支架上转动设置有用于输送硅片的输送辊，所述机架上设有第一电机，所述水槽内转动设置有主动摩擦轮，本实用新型专利技术能够实现自动对硅片进行清洗，提高了工作效率，避免了现有的硅片在清洗时需要人工将硅片放入清洗设备内，然后在硅片完成清洗后，再由人工将清洗好的硅片拿出，这样只能适用于小规模生产，当硅片产量比较大时，人工操作起来就比较麻烦，跟不上生产需要，导致生产效率降低的问题。

Silicon wafer automatic cleaning device

The utility model relates to the technical field of cleaning equipment, especially relates to a wafer automatic cleaning device, and comprises a frame arranged on the machine tank, the water tank is provided with an ultrasonic generator, the frame is provided with sliding bracket, the bracket is rotatably installed on the conveying roller conveying useful in silicon wafer, the first motor is arranged on the frame, the water tank is provided with a driving friction wheel to rotate, the utility model can realize the automatic cleaning of silicon wafer, improve work efficiency, avoid the existing silicon wafer is placed into the manual cleaning device in the cleaning, then finish on a silicon wafer after cleaning the wafer by hand will be cleaned take this, only suitable for small scale production, when the wafer production is relatively large, manual operation will be more trouble, to keep up with the needs of production, resulting in production The problem of reduced efficiency.

【技术实现步骤摘要】
硅片自动清洗装置
本技术涉及清洗设备
，尤其是涉及一种硅片自动清洗装置。
技术介绍
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。现有的硅片在清洗时需要人工将硅片放入清洗设备内，然后在硅片完成清洗后，再由人工将清洗好的硅片拿出，这样只能适用于小规模生产，当硅片产量比较大时，人工操作起来就比较麻烦，跟不上生产需要，导致生产效率降低。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是：为了解决现有的硅片在清洗时需要人工将硅片放入清洗设备内，然后在硅片完成清洗后，再由人工将清洗好的硅片拿出，这样只能适用于小规模生产，当硅片产量比较大时，人工操作起来就比较麻烦，跟不上生产需要，导致生产效率降低的问题，现提供了一种硅片自本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片自动清洗装置，其特征在于：包括机架(1)及设置在机架(1)上的水槽(2)，所述水槽(2)内设有超声波发生器(3)，所述机架(1)上滑动设置有支架(4)，所述支架(4)上转动设置有用于输送硅片的输送辊(5)，所述机架(1)上设有用于驱动支架(4)滑动的第一电机(6)，所述水槽(2)内转动设置有主动摩擦轮(7)，所述机架(1)上设有用于驱动主动摩擦轮(7)转动的第二电机(8)，所述输送辊(5)上设有从动摩擦轮(9)，所述主动摩擦轮(7)位于从动摩擦轮(9)的上方，当输送辊(5)位于水槽(2)内时，所述主动摩擦轮(7)与所述从动摩擦轮(9)分离，当输送辊(5)脱离水槽(2)时，所述主动摩擦轮...

【技术特征摘要】
1.一种硅片自动清洗装置，其特征在于：包括机架(1)及设置在机架(1)上的水槽(2)，所述水槽(2)内设有超声波发生器(3)，所述机架(1)上滑动设置有支架(4)，所述支架(4)上转动设置有用于输送硅片的输送辊(5)，所述机架(1)上设有用于驱动支架(4)滑动的第一电机(6)，所述水槽(2)内转动设置有主动摩擦轮(7)，所述机架(1)上设有用于驱动主动摩擦轮(7)转动的第二电机(8)，所述输送辊(5)上设有从动摩擦轮(9)，所述主动摩擦轮(7)位于从动摩擦轮(9)的上方，当输送辊(5)位于水槽(2)内时，所述主动摩擦轮(7...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙铁囤，姚伟忠，汤平，
申请(专利权)人：常州亿晶光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32