【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜
本专利技术涉及一种硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜。
技术介绍
近年来,对于在基材上设置硬涂层而成的硬涂薄膜,通过层叠与用途相应的其他层例如抗静电层、高折射率层、低折射率层、相位差层、接合层等来实现多功能化的要求较高。当将具有烯属不饱和双键基团的化合物固化而制作硬涂层时,其表面成为疏水性的情况较多。在硬涂层上层叠其他层的情况下,若成为下层的硬涂层表面为疏水性,则使用亲水性组合物作为上层的涂布组合物时不会浸渗从而导致发生凹陷。因此,通过将硬涂层表面设为亲水性(水的接触角较低),能够在上层形成没有凹陷的均匀的涂膜。例如,专利文献1中记载有在涂设硬涂层之后通过进行电晕放电处理或辉光放电处理而降低相对于水的接触角。并且,专利文献2中记载有通过对硬涂层进行碱处理或电晕处理等表面处理来提高与作为上层的低折射率层的粘附性。另一方面,为了使硬涂层本身的涂膜变得平滑,一般利用在硬涂层形成用组合物中添加硅酮类化合物、或含氟基聚合物等表面活性剂(流平剂)的方法。认为表面活性剂通过其疏水性而偏在于涂膜表面,从而降低涂膜的表面张力而赋予流平性。但是,这种表面活性剂 ...
【技术保护点】
一种硬涂薄膜的制造方法,所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层,其中,所述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)~(d),当将所述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量%时,在40~80质量%的范围内含有下述(b),在10~40质量%的范围内含有下述(c),在10~40质量%的范围内含有下述(d),(a)表面张力为10~22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂,所述混合溶剂是低表面张力溶剂的含量相对于所述混合溶剂总量为5质量%~40质量%的混合溶剂;(b)在分 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.30 JP 2014-2024771.一种硬涂薄膜的制造方法,所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层,其中,所述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)~(d),当将所述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量%时,在40~80质量%的范围内含有下述(b),在10~40质量%的范围内含有下述(c),在10~40质量%的范围内含有下述(d),(a)表面张力为10~22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂,所述混合溶剂是低表面张力溶剂的含量相对于所述混合溶剂总量为5质量%~40质量%的混合溶剂;(b)在分子内具有3个以上的烯属不饱和双键基团且该烯属不饱和双键基团当量为80~130的聚合性化合物;(c)具有与环氧基或烯属不饱和双键基团的反应性的无机微粒...
【专利技术属性】
技术研发人员:大谷健人,高田胜之,铃木雅明,
申请(专利权)人:富士胶片株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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