硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜技术

本发明专利技术提供一种硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜。本发明专利技术的硬涂薄膜的制造方法中，所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层，其中，上述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)～(d)，当将上述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量％时，在40～80质量％的范围内含有下述(b)，在10～40质量％的范围内含有下述(c)，在10～40质量％的范围内含有下述(d)，(a)表面张力10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，是低表面张力溶剂相对于上述混合溶剂总量的含量为5质量％～40质量％的混合溶剂；(b)在分子内具有3个以上的烯属不饱和双键基团且上述烯属不饱和双键基团当量为80～130的聚合性化合物；(c)具有与环氧基或烯属不饱和双键基团的反应性的无机微粒；(d)在分子内具有1个以上的脂环式环氧基且分子量为300以下的化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜
本专利技术涉及一种硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜。
技术介绍
近年来，对于在基材上设置硬涂层而成的硬涂薄膜，通过层叠与用途相应的其他层例如抗静电层、高折射率层、低折射率层、相位差层、接合层等来实现多功能化的要求较高。当将具有烯属不饱和双键基团的化合物固化而制作硬涂层时，其表面成为疏水性的情况较多。在硬涂层上层叠其他层的情况下，若成为下层的硬涂层表面为疏水性，则使用亲水性组合物作为上层的涂布组合物时不会浸渗从而导致发生凹陷。因此，通过将硬涂层表面设为亲水性(水的接触角较低)，能够在上层形成没有凹陷的均匀的涂膜。例如，专利文献1中记载有在涂设硬涂层之后通过进行电晕放电处理或辉光放电处理而降低相对于水的接触角。并且，专利文献2中记载有通过对硬涂层进行碱处理或电晕处理等表面处理来提高与作为上层的低折射率层的粘附性。另一方面，为了使硬涂层本身的涂膜变得平滑，一般利用在硬涂层形成用组合物中添加硅酮类化合物、或含氟基聚合物等表面活性剂(流平剂)的方法。认为表面活性剂通过其疏水性而偏在于涂膜表面，从而降低涂膜的表面张力而赋予流平性。但是，这种表面活性剂在硬膜后也残存于硬涂层表面，会使表面疏水化，因此如上所述，在硬涂层上层叠其他层时成为问题。作为以维持流平性的状态使硬涂层的表面亲水化的方法，专利文献1中记载有通过添加阴离子性、非离子性或甜菜碱性的表面活性剂来降低水的接触角。并且，专利文献3中记载有不使用表面活性剂而使用特定量的沸点及粘度在特定范围内的溶剂。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001-272503号公报专利文献2：日本特开2002-265866号公报专利文献3：日本特开2011-212554号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题然而，如专利文献1那样，在添加了阴离子性、非离子性、或甜菜碱性的表面活性剂的情况下，硬涂层的表面张力不易降低，在硬涂层本身的平滑性的观点上有改善的余地。并且，表面活性剂的表面偏在性较低而分布于硬涂层内，因此在硬度的观点上也有改善的余地。当利用如专利文献1及2的表面处理时，碱处理时流平剂的残存量根据硬涂层表面的固化状态而灵敏地变化，因此无法稳定地减小水的接触角，并且，电晕处理等放电处理时照射较高的能量，因此有可能发生膜的变形和针孔的产生、面内的水的接触角的不均匀。并且，通过专利文献3中所记载的专利技术实现的水的接触角高至80～88度，作为亲水性并不充分，因此层叠于上层的涂布组合物为容易发生凹陷的物理性质(低粘度、高表面张力等)时，容易发生凹陷，会损害膜的均匀性。鉴于上述问题，本专利技术的课题在于提供一种表面的亲水性较高且平滑性及硬度优异的硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜。用于解决技术课题的手段本专利技术人等为了解决上述课题而进行深入研究，发现通过在硬涂层形成用组合物中不使用如专利文献1中所记载的特定的表面活性剂而使用专利文献3中所记载的低表面张力溶剂，并且添加亲水性的粒子，不会损害硬度而能够将水的接触角降低至65°以下。然而，若以专利文献3中所记载的比例使用低表面张力溶剂，则添加的粒子会凝聚，因此得知需要与标准表面张力溶剂混合并抑制低表面张力溶剂的含量。此时，发生由于低表面张力溶剂的含量降低而硬涂层的平滑性降低的问题，针对于此，本专利技术人等进一步进行研究的结果，发现通过将硬涂层形成组合物的总固体成分设为100质量％时添加10～40质量％在分子内具有1个脂环式环氧基且分子量为300以下的化合物，硬涂层的平滑性惊奇地得到提高，能够兼顾平滑性和低接触角。即，本专利技术涉及下述构成的专利技术。＜1＞一种硬涂薄膜的制造方法，所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层，其中，上述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)～(d)，当将上述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量％时，在40～80质量％的范围内含有下述(b)，在10～40质量％的范围内含有下述(c)，在10～40质量％的范围内含有下述(d)，(a)表面张力10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，是低表面张力溶剂相对于上述混合溶剂总量的含量为5质量％～40质量％的混合溶剂；(b)在分子内具有3个以上的烯属不饱和双键基团且上述烯属不饱和双键基团当量为80～130的聚合性化合物；(c)具有与环氧基或烯属不饱和双键基团的反应性的无机微粒；(d)在分子内具有1个以上的脂环式环氧基且分子量为300以下的化合物。＜2＞根据＜1＞所述的硬涂薄膜的制造方法，其中，所述硬涂薄膜含有选自叔丁醇、四氟乙烯、三乙胺、环戊烷、庚烷、甲基(九氟丁基)醚及乙基(九氟丁基)醚中的1种以上作为上述低表面张力溶剂。＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的硬涂薄膜的制造方法，其中，上述低表面张力溶剂为叔丁醇。＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的硬涂薄膜的制造方法，其中，所述硬涂薄膜至少含有选自甲乙酮、丙酮、甲基异丁基酮、乙酸甲酯、环己酮及乙酸异丙酯中的1种以上作为上述标准表面张力溶剂。＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的硬涂薄膜的制造方法，其中，上述(c)的无机微粒的平均1次粒径为10nm～100nm。＜6＞根据＜1＞至＜5＞中任一项所述的硬涂薄膜的制造方法，其中，上述(d)的化合物为还具有烯属不饱和双键基团的化合物。＜7＞一种硬涂薄膜，其通过＜1＞至＜6＞中任一项所述的硬涂薄膜的制造方法来制造。专利技术效果通过本专利技术，可提供一种表面的亲水性较高且平滑性及硬度优异的硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜。通过本专利技术，能够制造具有不易使上层形成用涂布液发生凹陷的硬涂层的硬涂薄膜，因此能够制造具有各种功能的层叠薄膜。具体实施方式以下，对本专利技术进行详细说明。另外，本说明书中，“～”是以将其前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的含义来使用。本说明书中，“(甲基)丙烯酸基”以“丙烯酸基及甲基丙烯酸基中的任一个或两个”的含义来使用。(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酰基等也相同。[硬涂薄膜的制造方法]本专利技术的硬涂薄膜的制造方法为如下硬涂薄膜的制造方法，所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层，其中，上述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)～(d)，当将上述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量％时，在40～80质量％的范围内含有下述(b)，在10～40质量％的范围内含有下述(c)，在10～40质量％的范围内含有下述(d)，(a)表面张力10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，是低表面张力溶剂相对于上述混合溶剂总量的含量为5质量％～40质量％的混合溶剂；(b)在分子内具有3个以上的烯属不饱和双键基团且上述烯属不饱和双键基团当量为80～130的聚合性化合物；(c)具有与环氧基或烯属不饱和双键基团的反应性的无机微粒；(d)在分子内具有1个以上的脂环式环氧基且分子量为300以下的化合物。硬涂薄膜能够通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而形成硬涂层来制造。基材薄膜可以在形成硬涂层之后剥离。本说明书中，称为“在基材薄膜上”时，表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硬涂薄膜的制造方法，所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层，其中，所述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)～(d)，当将所述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量％时，在40～80质量％的范围内含有下述(b)，在10～40质量％的范围内含有下述(c)，在10～40质量％的范围内含有下述(d)，(a)表面张力为10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，所述混合溶剂是低表面张力溶剂的含量相对于所述混合溶剂总量为5质量％～40质量％的混合溶剂；(b)在分子内具有3个以上的烯属不饱和双键基团且该烯属不饱和双键基团当量为80～130的聚合性化合物；(c)具有与环氧基或烯属不饱和双键基团的反应性的无机微粒；(d)在分子内具有1个以上的脂环式环氧基且分子量为300以下的化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.30 JP 2014-2024771.一种硬涂薄膜的制造方法，所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层，其中，所述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)～(d)，当将所述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量％时，在40～80质量％的范围内含有下述(b)，在10～40质量％的范围内含有下述(c)，在10～40质量％的范围内含有下述(d)，(a)表面张力为10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，所述混合溶剂是低表面张力溶剂的含量相对于所述混合溶剂总量为5质量％～40质量％的混合溶剂；(b)在分子内具有3个以上的烯属不饱和双键基团且该烯属不饱和双键基团当量为80～130的聚合性化合物；(c)具有与环氧基或烯属不饱和双键基团的反应性的无机微粒...

【专利技术属性】
技术研发人员：大谷健人，高田胜之，铃木雅明，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP