具有均匀织构化表面和低闪耀的抗眩目基材及其制造方法技术

揭示了抗眩目制品及其形成方法的一些实施方式。在一种或多种实施方式中，抗眩目制品包含具有表面的基材，在该表面上设置有多个特征，其中所述多个特征的约50％或更多包含约0.5‑1.5范围内的归一化面积，该归一化面积定义为以下关系式：特征的表面面积/所有特征的平均表面面积。在一些实施方式中，特征的约90％或更多具有约100微米或更小的表面面积。抗眩目制品表现出约为5％或更小的PPDr，小于约20％的透过雾度，以及小于约90％的DOI。还揭示了形成该基材的方法，该方法包括用包含水溶性金属离子盐的蚀刻剂对基材表面进行蚀刻。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有均匀织构化表面和低闪耀的抗眩目基材及其制造方法交叉引用本申请基于35U.S.C§119要求了2014年10月31日提交的美国临时申请62/073224的优先权，上述美国临时申请的全文内容作为本申请的依据并以插入的方式引用于此。技术背景本专利技术涉及表现出抗眩目性质的基材，更具体涉及表现出均匀的织构化表面和低闪耀的基材。还揭示了制造这些基材的方法。消费电子技术方面的进步使得必须改善各种覆盖基材的性质。一种这样的改善方面是用于例如智能(移动)电话、平板电脑、电子阅读器、显示器和电视机的消费电子装置的抗眩目表面。在触摸灵敏电子装置、电子墨水阅读器、交互式白板、和其他便携式LCD平板中，尤其是在某些光线条件下使用时，经常需要的一种性质是降低镜面反射。表现出这种性质的覆盖基材可通过在表面上用抗反射层涂覆或产生织构(从而形成抗眩目表面)来实现。表面织构通过反射光的随机散射来减少反射光并导致形成模糊的反射图象。对于消费电子应用，已知的抗眩目表面能以低透明性雾度水平(例如约10％或更低)表现出闪耀(或粒状外观)。显示“闪耀”是在将抗眩目或光散射表面结合到显示系统中时会出现的一种现象。伴随闪耀出现的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗眩目制品，其包含：具有表面的基材；和设置在该表面上的多个特征，其中多个特征的约50％或更多包含约0.5‑1.5范围内的归一化面积，该归一化面积定义为以下关系式：特征的表面面积/所有特征的平均表面面积。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.31 US 62/073,2241.一种抗眩目制品，其包含：具有表面的基材；和设置在该表面上的多个特征，其中多个特征的约50％或更多包含约0.5-1.5范围内的归一化面积，该归一化面积定义为以下关系式：特征的表面面积/所有特征的平均表面面积。2.如权利要求1所述的抗眩目制品，其特征在于，所述特征的约90％或更多具有约100微米或更小的表面面积。3.如权利要求1或2所述的抗眩目制品，其特征在于，所述多个特征的约18％或更少具有大于约400纳米的平均表面面积。4.如权利要求3所述的抗眩目制品，其特征在于，所述多个特征的约15％或更少具有大于约400纳米的平均表面面积。5.如前述权利要求中任一项所述的抗眩目制品，其特征在于，所述制品表现出约为0.15微米或更小的Ra。6.如前述权利要求中任一项所述的抗眩目制品，其特征在于，所述制品表现出约为5％或更小的PPDr。7.如权利要求6所述的抗眩目制品，其特征在于，所述制品表现出小于约20％的透过雾度并且所述基材表面表现出小于约90％的DOI。8.如权利要求6所述的抗眩目制品，其特征在于，所述基材表面表现出约为87％或更小的60°光泽度。9.一种形成具有抗眩目表面的基材的方法，该方法包括：用蚀刻剂对基材第一表面的一部分进行蚀刻以提供经蚀刻的表面，该蚀刻剂包含水溶性金属离子盐；和除去一部分的经蚀刻表面以提供抗眩目表面，其中该抗眩目表面包含多个特征，和其中所述多个特征的约50％或更多包含约0.5-1.5范围内的归一化面积，并且该归一化面积定义为以下关系式：特征的表面面积/所有特征的平均表面面积。10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，所述水溶性金属离子盐包括以下的任意一种或多种：CuCl2、Cu(NO3)2、CuSO4、FeCl3、Fe2(SO4)3、Fe(NO3)3、CoCl2、Co2SO4、Co(NO3)2、NiCl2、Ni2SO4、Ni(NO3)2...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈海星，陈玲，贡浩飞，洪莉萍，李政忠，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US