具有抑制生物材料附着的能力的离子复合物材料及其制造方法技术

本发明专利技术提供通过使至少包含下述式(A)、(B)及(C)(式中，T

Ion composite material having ability to inhibit the attachment of biological material and method of making the same

The present invention provides by making at least include the following formula (A), (B) and (C) (in formula), T

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有抑制生物材料附着的能力的离子复合物材料及其制造方法
本专利技术涉及具有抑制生物材料附着的能力的离子复合物(ioncomplex)材料及其制造方法。具体而言，本专利技术涉及：具有抑制生物材料附着的能力的涂覆膜、该涂覆膜的制造方法、通过使特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、共聚物的制造方法、具有特定的组成的用于形成涂覆膜的组合物、可作为用以形成该膜的用于形成涂覆膜的组合物的原料来使用的含有共聚物的清漆的制造方法、用于形成涂覆膜的溶胶、以及溶胶的制造方法。
技术介绍
为了抑制人工透析器、人工脏器、医疗器具等医疗用器具、器材等中的生物材料附着，提出了各种各样的、具有抑制生物材料附着的能力的涂覆材料。这些涂覆材料中，通过涂覆在侧链上具有乙二醇链的聚合物从而阻碍生物材料附着的材料已为人们所知，例如，在专利文献1中，记载了将丙烯酸2-甲氧基乙酯的共聚物涂覆于血液过滤器、人工透析过滤器等的无纺布上的例子。另外，非专利文献1中记载了为了向作为人工透析膜的基体使用的聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)等赋予抑制生物材料附着的能力，而涂覆具有亲水性的聚乙烯吡咯烷酮(PVP)。然而，这些材料虽然由于亲水性等效果而具有所期待的抑制生物材料附着的能力，但另一方面，聚合物本身在水中的溶解性被抑制、向醇、有机溶剂中的溶解性增加，因此确认到，由于利用除菌用乙醇等的洗涤、高粘度的生物材料等对涂覆膜赋予的剪应力(剪切应力)、长期的使用等原因，导致涂覆膜本身的溶出，进而可能会由于该溶出物而导致过敏等。另一方面，对于表面上具有在侧链中包含阳离子、阴离子的高分子材料的材料而言，由于其静电平衡，使得该表面保持电中性，由此具有防止生物材料(蛋白质、细胞等)吸附的作用，这是已知的。另外，还提出了利用了这些功能的涂覆材料，关于在玻璃、聚合物基板等上固着·固定化的方法也有各种报道。例如，在非专利文献2中，报道了利用使具有与磷脂类似的分子结构的2-甲基丙烯酰基氧基乙基磷酰胆碱(MPC)与具有硅烷偶联基的甲基丙烯酸3-(三甲氧基甲硅烷基)丙酯共聚而得到的聚合物作为电荷中和单元，达成了基于在玻璃基板上的化学吸附而实现的表面修饰，另一方面，报道了为了在聚合物基板上实现基于疏水性相互作用的物理吸附，而利用将甲基丙烯酸丁酯共聚而得到的聚合物固定于基板。然而，在这些方法中，需要根据基板的种类来选择聚合物的种类。另外，专利文献2中记载了下述涂覆膜，其是于200～450℃对由含有具有磷酸酯基的聚合物的涂覆液形成的膜进行加热处理而得到的。为了抑制涂覆膜在水系介质中的溶出，需要在涂覆于基体后以200～450℃的高温进行加热处理，因此，为了进行加热处理，需要烘箱、加热板等加热装置。另外，存在难以应用于树脂材料等耐热性低的基材等问题。此外，为了制作用于形成该涂覆膜的涂覆液而将各种聚合物进行聚合，但在实施例中，聚合反应是在乙醇中进行的，在水中的聚合反应性不明。另外，专利文献3中记载了一种新型丙烯酸系磷酸酯胺盐单体(半盐)及其制造方法，所述丙烯酸系磷酸酯胺盐单体(半盐)是在水的存在下使胺类与丙烯酸系酸性磷酸酯单体反应、选择性地进行酸碱反应而得到的。对于该胺盐(半盐)而言，有以下这样的记载：该单体作为橡胶弹性赋予剂、油溶性物质的改性剂而在感光性树脂领域中具有广泛的用途和有用性，但该胺盐(半盐)单体本身在水中的聚合反应性、得到的聚合物的抑制生物材料附着的能力不明。另外，对于在甲醇等极性溶剂中进行聚合时的、上述丙烯酸系酸性磷酸酯单体在所使用的全部单体中的使用比率而言，主要是在5％左右至1％左右的例子居多，有记载称如果过多则会导致凝胶化。另外，专利文献4中公开了具有包含聚乙烯吡咯烷酮(PVP)的中空纤维膜的血液净化器，记载了在该中空纤维中的PVP的利用动态光散射法测得的粒径分布中，位于最大粒径侧的峰的众数直径(modediameter)为300nm以下，并记载了使用该PVP涂覆液对中空纤维内进行涂覆。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001-323030号公报专利文献2：日本特开2007-63459号公报专利文献3：日本特开平6-92979号公报专利文献4：日本特开2010-233999号公报非专利文献非专利文献1：人工脏器，第39卷，第1号，pp.77(2010)非专利文献2：高分子论文集，Vol.65，No.3，pp.228，(2008)
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本申请的专利技术人为了克服此前的下述的3点问题而进行了研究，所述问题是：(1)为了抑制在水系介质中的溶出，需要在高达200～450℃的高温下进行加热处理而得到涂覆膜；(2)需要根据基材的种类来适当选择涂覆膜材料；(3)上述用于形成涂覆膜的组合物中使用的共聚物在制造清漆时容易凝胶化。本专利技术提供除了解决上述课题之外还以进一步提高涂覆膜的抑制生物材料附着的能力、及改善涂覆膜的制造时的用于形成涂覆膜的组合物的操作性为目的的、尤其是仅通过低温干燥工序即可容易地形成的具有抑制生物材料附着的能力的涂覆膜、该涂覆膜的制造方法、通过使特定的单体混合物聚合而得到的共聚物、共聚物的制造方法、具有特定的组成的用于形成涂覆膜的组合物、可作为用以形成该膜的用于形成涂覆膜的组合物的原料来使用的含有共聚物的清漆的制造方法、用于形成涂覆膜的溶胶、以及溶胶的制造方法。用于解决课题的手段本专利技术如下所述：1.共聚物，所述共聚物是通过使至少包含下述式(A)、(B)及(C)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的；[化学式1][式中，Ta、Tb、Tc、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Qa及Qb各自独立地表示单键、酯键或酰胺键，Qc表示单键、醚键或酯键；Ra及Rb各自独立地表示可被卤素原子取代的碳原子数1～10的直链或支链亚烷基，Rc表示碳原子数1～18的直链或支链烷基、碳原子数3～10的环式烃基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数7～14的芳烷基或碳原子数7～14的芳基氧基烷基(其中，上述芳基部分可以经可被卤素原子取代的碳原子数1～5的直链或支链烷基取代)；An-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子(isothiocyanateion)组成的组中的阴离子；m表示0～6的整数]2.如上述1所述的共聚物，其中，所述共聚物是通过使还包含下述式(D)或(E)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的；[化学式2][式中，Td、Te及Ue各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Rd及Re各自独立地表示可被卤素原子取代的碳原子数1～10的直链或支链亚烷基；n表示1～6的整数]3.用于形成涂覆膜的组合物，所述用于形成涂覆膜的组合物包含(i)共聚物和(ii)溶剂，所述(i)共聚物含有包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元、包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元、和包含下述式(c)表示的有机基团的重复单元；[化学式3][式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Rc表示碳原子数4～18的直链或支链烷基、碳原子数3～10的环式烃基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数7～14的芳烷基或碳原子数7～14的芳基氧基烷基(其中，上述芳基部分本文档来自技高网...

【技术保护点】
共聚物，所述共聚物是通过使至少包含下述式(A)、(B)及(C)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的，[化学式1]

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.10 JP 2014-2502691.共聚物，所述共聚物是通过使至少包含下述式(A)、(B)及(C)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的，[化学式1]式中，Ta、Tb、Tc、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Qa及Qb各自独立地表示单键、酯键或酰胺键，Qc表示单键、醚键或酯键；Ra及Rb各自独立地表示可被卤素原子取代的碳原子数1～10的直链或支链亚烷基，Rc表示碳原子数1～18的直链或支链烷基、碳原子数3～10的环式烃基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数7～14的芳烷基或碳原子数7～14的芳基氧基烷基(其中，所述芳基部分可以经可被卤素原子取代的碳原子数1～5的直链或支链烷基取代)；An-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子；m表示0～6的整数。2.如权利要求1所述的共聚物，其中，所述共聚物是通过使还包含下述式(D)或(E)表示的化合物的单体混合物聚合而得到的，[化学式2]式中，Td、Te及Ue各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Rd及Re各自独立地表示可被卤素原子取代的碳原子数1～10的直链或支链亚烷基；n表示1～6的整数。3.用于形成涂覆膜的组合物，所述用于形成涂覆膜的组合物包含(i)共聚物和(ii)溶剂，所述(i)共聚物含有包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元、包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元、和包含下述式(c)表示的有机基团的重复单元，[化学式3]-Rc(c)式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Rc表示碳原子数4～18的直链或支链烷基、碳原子数3～10的环式烃基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数7～14的芳烷基或碳原子数7～14的芳基氧基烷基(其中，所述芳基部分可以经可被卤素原子取代的碳原子数1～5的直链或支链烷基取代)；An-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子。4.如权利要求3所述的组合物，其中，共聚物包含下述式(a1)、(b1)及(c1)表示的重复单元，[化学式4]式中，Ta、Tb、Tc、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Qa及Qb各自独立地表示单键、酯键或酰胺键，Qc表示单键、醚键或酯键；Ra及Rb各自独立地表示可被卤素原子取代的碳原子数1～10的直链或支链亚烷基，Rc表示碳原子数4～18的直链或支链烷基、碳原子数3～10的脂环式烃基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数7～14的芳烷基或碳原子数7～14的芳基氧基烷基(其中，所述芳基部分可以经可被卤素原子取代的碳原子数1～5的直链或支链烷基取代)；An-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子；m表示0～6的整数。5.涂覆膜，其是利用包括以下工序的方法得到的，所述工序是将用于形成涂覆膜的组合物涂布于基体的工序，所述用于形成涂覆膜的组合物包含共聚物和溶剂，所述共聚物含有包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元、包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元、和包含下述式(c)表示的有机基团的重复单元，[化学式5]-Rc(c)式中，Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Rc表示碳原子数4～18的直链或支链烷基、碳原子数3～10的脂环式烃基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数7～14的芳烷基或碳原子数7～14的芳基氧基烷基(其中，所述芳基部分可以经可被卤素原子取代的碳原子数1～5的直链或支链烷基取代)；An-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子。6.如权利要求5所述的涂覆膜，其中，共聚物包含下述式(a1)、(b1)及(c1)表示的重复单元，[化学式6]式中，Ta、Tb、Tc、Ua1、Ua2、Ub1、Ub2及Ub3各自独立地表示氢原子或碳原子数1～5的直链或支链烷基；Qa及Qb各自独立地表示单键、酯键或酰胺键，Qc表示单键、醚键或酯键；Ra及Rb各自独立地表示可被卤素原子取代的碳原子数1～10的直链或支链亚烷基，Rc表示碳原子数4～18的直链或支链烷基、碳原子数3～10的脂环式烃基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数7～14的芳烷基或碳原子数7～14的芳基氧基烷基(其中，所述芳基部分可以经可被卤素原子取代的碳原子数1～5的直链或支链烷基取代)；An-表示选自由卤化物离子、无机酸根离子、氢氧化物离子及异硫氰酸根离子组成的组中的阴离子；m表示0～6的整数。7.如权利要求5或6所述的涂覆膜，其中，包括：预先调节用于形成涂覆膜的组合物的pH的工序。8.如权利要求5～7中任一项所述的涂覆膜，其中，包括：进一步用选自由水和含有电解质的水溶液组成的组中的至少1种溶剂对干燥工序后得到的膜进行洗涤的工序。9.如权利要求5～8中任一项所述的涂覆膜，其具有抑制生物材料附着的能力。10.溶胶，所述溶胶包含下述共聚物，所述共聚物含有包含下述式(a)表示的有机基团的重复单元、包含下述式(b)表示的有机基团的重复单元、和包含下述式(c)表示的有机基团的重复单元，...

【专利技术属性】
技术研发人员：广井佳臣，安部菜月，西野泰斗，北原真树，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP