The invention discloses a preparation method of a silica sol slurry, which comprises the following steps: S1, the particle size of 100 120nm, the solid content is 43% and 45% silica sol particle size of 20 30nm, 43% solid 45% silica sol mixed at a molar ratio of 7:3, S2 in silica sol; the solution after mixing with 10 20KG/h speed with 0.3 0.5% KCl or NaCl solution at the same time, with a stirring rod stirring, stirring speed of 60 80r/min and, after standing for 1 to 10 2H; S3, 20kg/h added concentration of 10% KOH or NaOH solution, until the mixture the solution pH adjusted to 10 10.5. The polishing solution of silicon sol prepared by the method has the advantages of high polishing rate and good polishing surface quality for the polishing of the sapphire stone.
【技术实现步骤摘要】
一种硅溶胶抛光液的制备方法
本专利技术涉及精细抛光的
，特别涉及一种硅溶胶抛光液的制备方法。
技术介绍
硅溶胶抛光液主要是针对大规模集成电路、LED用的蓝宝石衬底以及手机、手表等蓝宝石盖板的抛光，其市场规模庞大，对硅溶胶抛光液的需求量也很大。但是现有技术生产的硅溶胶有抛光速率低、抛光表面质量不稳定等问题，无法完全满足市场的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种硅溶胶抛光液的制备方法，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。本专利技术提供的一种硅溶胶抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将粒径为100-120nm、固含量为43％-45％的硅溶胶和粒径为20-30nm、固含量为43％-45％的硅溶胶按照摩尔比7:3混合；S2、在混合后的硅溶胶溶液中以10-20kg/h的速度加入0.3-0.5％的KCl或NaCl溶液，同时使用搅拌棒进行搅拌，搅拌速度为60-80r/min，加完后静置1-2h；S3、以10-20kg/h的速度加入浓度为10％的KOH或NaOH溶液，直到混合溶液的pH调节至10.0-10.5。本专利技术的硅溶胶抛光液，其氧化硅溶胶既有...
【技术保护点】
一种硅溶胶抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将粒径为100‑120nm、固含量为43％‑45％的硅溶胶和粒径为20‑30nm、固含量为43％‑45％的硅溶胶按照摩尔比7:3混合；S2、在混合后的硅溶胶溶液中以10‑20kg/h的速度加入0.3‑0.5％的KCl或NaCl溶液，同时使用搅拌棒进行搅拌，搅拌速度为60‑80r/min，加完后静置1‑2h；S3、以10‑20kg/h的速度加入浓度为10％的KOH或NaOH溶液，直到混合溶液的pH调节至10.0‑10.5。
【技术特征摘要】
1.一种硅溶胶抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、将粒径为100-120nm、固含量为43％-45％的硅溶胶和粒径为20-30nm、固含量为43％-45％的硅溶胶按照摩尔比7:3混合；S2、在混合后的硅溶胶溶液中以10-20kg/h的速度加入0.3-0.5％的KCl或NaCl溶液，同时使用搅拌棒进行搅拌，搅拌速度为60-80r/min，加完后静置1-2h；S3、以10-20kg/h的速度加入浓度为10％的KOH或NaOH溶液，直到混合溶液的pH调节至10.0-10.5。2.根据权利要求1所述的一种硅溶胶抛光液的制备方法，其特征在于，所述粒径为20-30nm的硅溶胶的制备方法包括以下步骤：α1、将质量百分含量为10％的硅酸钠溶液，经过阳离子交换树脂，得到活性硅酸；α2、将质量百...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡浩，
申请(专利权)人：海安县中丽化工材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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