The invention discloses a H2TiO3 core-shell coated alumina abrasive slurry composition, which is characterized in that the core-shell abrasive slurry composition comprising: metatitanic acid, 0.024 ~ 0.24 wt.%; alumina, 4 wt.%; six sodium phosphate, 0.04 wt.%; deionized water, 95.72 ~ 95.936 wt.%; system of polishing composition prepared using the method of high hardness alumina as the core, core shell H2TiO3 low hardness of the shell abrasive, the shell can reduce the hardness of low alumina on the sapphire substrate surface of the \hard impact\, so as to improve polishing scratches and surface damage, reduce the surface roughness because of; H2TiO3 and sapphire surface of alumina can react, can improve the polishing rate of sapphire. Using the polishing liquid prepared by the invention to polish the sapphire substrate, the surface removal rate of the sapphire substrate can be improved, and the surface roughness of the sapphire surface is reduced.
【技术实现步骤摘要】
一种偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物及其制备方法
本专利技术涉及一种用于蓝宝石CMP的偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物及其制备方法，属表面抛光加工
技术介绍
单晶蓝宝石在航天、军事和医疗等方面具有十分重要的用途。同时蓝宝石单晶因为与半导体G(1)N的晶格系数失配率较小、机械强度高、价格便宜等成为发光二极管的主要衬底材料，其衬底硬度依赖于蓝宝石晶片的表面加工质量，因此如何得到超光滑、少损伤的蓝宝石晶片已经成为急需解决的问题。目前，普遍采用化学机械抛光技术对蓝宝石基片表面进行精密抛光。在蓝宝石化学机械抛光中，研磨剂（磨粒）是主要成份，现在多采用氧化硅和氧化铝等单一磨粒对蓝宝石进行抛光，均不能得到满意的抛光结果。由于氧化铝的硬度大，抛光后的蓝宝石基片表面划痕较多；其表面的粗糙度高，降低抛光质量。
技术实现思路
本专利技术的目的之一在于提供一种偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物。本专利技术的目的之二在于提供一种偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物及其制备方法。为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：本专利技术的一种偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物，...
【技术保护点】
一种偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物，其特征在于，所述的核壳磨粒抛光液组合物含有：偏钛酸 0.024～0.24 wt.% ；氧化铝 4 wt.% ；六偏磷酸钠 0.04 wt.% ；去离子水 95.72～95.936wt.% ；以上各组成的质量百分比含量之和为100 wt% 。
【技术特征摘要】
1.一种偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物，其特征在于，所述的核壳磨粒抛光液组合物含有：偏钛酸0.024～0.24wt.%；氧化铝4wt.%；六偏磷酸钠0.04wt.%；去离子水95.72～95.936wt.%；以上各组成的质量百分比含量之和为100wt%。2.一种根据权利要求1所述的一种偏钛酸包覆氧化铝核壳磨粒抛光液组合物的制备方法，其特征在于具有如下的过程和步骤：(1)将一定量的氧化铝分散到去离子水中，再加入一定量的分散剂六偏磷酸钠，搅拌均匀后，进行超声分散，最后进行球磨分散，制得质量分数为5%-30%的氧化铝浆料；(2)在100℃搅拌下，将一定量的摩尔浓度为0.25mo...
【专利技术属性】
技术研发人员：雷红，王鑫，王天仙，董越，刘婷婷，陈怡，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：上海,31
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