线圈外壳低温等离子体表面处理方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种线圈外壳低温等离子体表面处理方法及装置，依次通过喷淋清洗、超声波清洗、等离子体清洗和等离子体渗氮完成处理工艺，其装置包括架体和按处理顺序依次设于架体上的物料摆放区、漂洗机、超声波清洗机、第一等离子体清洗机、第二等离子体清洗机和真空等离子体刻蚀机，所述架体上沿处理顺序方向还设有横移模块，所述横移模块上设有升降模块，所述升降模块上设有旋转夹持机构，所述旋转夹持机构上设有与其配合使用的组合托盘，所述第一等离子体清洗机和第二等离子体清洗机上方分别设有多个等离子体喷枪。本发明专利技术能够彻底清除工件污染物，提高产品的综合性能。

Coil case, low temperature plasma surface treatment method and apparatus

The invention discloses a coil shell of low temperature plasma surface treatment method and device, followed by spray cleaning, ultrasonic cleaning, plasma cleaning and plasma nitriding to complete the treatment process, the device comprises a frame body and material according to the order which is arranged on the frame body of the display area, washing machine, ultrasonic cleaning machine, the first plasma cleaning machine second, plasma cleaning machine and vacuum plasma etching machine, and the frame body along the direction of processing order is also provided with a sliding module, the sliding module is provided with a lifting module, wherein the lifting module is provided with a rotary clamping mechanism, the rotary clamping mechanism is provided with a tray with the combination of the first use. Plasma cleaning machine and second plasma cleaning machine are respectively arranged above a plurality of plasma spray gun. The invention can thoroughly remove pollutants from workpieces and improve the comprehensive performance of products.

【技术实现步骤摘要】
线圈外壳低温等离子体表面处理方法及装置
本专利技术涉及工件表面处理领域，具体涉及一种线圈外壳低温等离子体表面处理方法及装置。
技术介绍
等离子体(plasma)又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体，其运动主要受电磁力支配，并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的第四态。当外加电压达到气体的着火电压时，气体分子被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。高温等离子体只有在温度足够高时发生的。恒星不断地发出这种等离子体，组成了宇宙的99%。低温等离子体是在常温下发生的等离子体（虽然电子的温度很高）。低温等离子体可以被用于氧化、变性等表面处理或者在有机物和无机物上进行沉淀涂层处理。等离子体清洗技术：由于等离子体中存在大量的电子、正离子、自由基、亚稳态分子和原子等，当等离子体与被清洗的物质表面相互接触时，会产生物理刻蚀、化学分解等物理和化学过程，从而分解或清除掉污染物。由于采用的低温等离子体，因此不会对产品材料造成任何损伤。该技术显著特点是对污染本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线圈外壳低温等离子体表面处理方法，其包括如下步骤：（1）对线圈外壳进行喷淋清洗；（2）对线圈外壳进行超声波清洗；（3）利用等离子体喷枪对线圈外壳表面的残留污染物进行彻底清除；（4）利用低温等离子体辉光放电技术对线圈外壳进行低温离子渗氮处理，使氮原子渗入线圈外壳表层，完成处理。

【技术特征摘要】
1.一种线圈外壳低温等离子体表面处理方法，其包括如下步骤：（1）对线圈外壳进行喷淋清洗；（2）对线圈外壳进行超声波清洗；（3）利用等离子体喷枪对线圈外壳表面的残留污染物进行彻底清除；（4）利用低温等离子体辉光放电技术对线圈外壳进行低温离子渗氮处理，使氮原子渗入线圈外壳表层，完成处理。2.一种线圈外壳低温等离子体表面处理装置，其特征在于：包括架体和按处理顺序依次设于架体上的物料摆放区、漂洗机、超声波清洗机、第一等离子体清洗机、第二等离子体清洗机和真空等离子体刻蚀机，所述架体上沿处理顺序方向还设有横移模块，所述横移模块上设有升降模块，所述升降模块上设有旋转...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘鑫培，朱小刚，柳慧敏，
申请(专利权)人：苏州创瑞机电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32